技术特征：
技术总结
本发明涉及一种双光束微纳光学制造方法，其步骤包括：S1根据待辐照加工材料的材料特性提供一制造光，在制造光的辐照下待辐照加工材料的材料性能发生改变；S2根据待辐照加工材料的材料特性提供一辅助光，辅助光能够阻碍待辐照加工材料在制造光的辐照下所发生的材料性能变化；S3调控制造光和辅助光，使得制造光在待辐照加工材料上所形成的第一局域光场分布和辅助光在待辐照加工材料所形成的第二局域光场分布的焦点在空间上重合，在第一局域光场的范围内形成未被第二局域光场重合的且作用于待辐照加工材料上的加工光场。本发明的制造方法可实现更小的特征尺寸，更高的分辨率，制造出的图案和结构具有较好的力学性能。
技术研发人员：甘棕松
受保护的技术使用者：武汉舒博光电技术有限公司
技术研发日：2018.01.08
技术公布日：2018.07.13