玻璃导光板的制作方法

文档序号:15735120发布日期:2018-10-23 21:21阅读:123来源:国知局
本发明涉及适合用作侧光式的面状发光装置的玻璃导光板的玻璃导光板。
背景技术
:作为侧光型面状照明装置的导光板而言,以往,广泛使用树脂材料制的导光板(参见专利文献1)。但是,树脂材料制的导光板耐热性低、热膨胀大,因此,特别是在长期使用时,通过暴露于高温高湿环境,由于树脂材料制的导光板的劣化、变形,从而存在装置劣化、亮度不良的问题。因此,作为与树脂材料制的导光板相比耐热性高、热膨胀小的材料,对使用玻璃板作为导光板进行了研究(参见专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2014-67525号公报专利文献2:日本特开2009-199875号公报技术实现要素:发明所要解决的问题现有的玻璃导光板存在耐候性的问题。具体而言,在将具有玻璃导光板的面状照明装置、液晶显示装置长时间置于高温高湿下的情况下,玻璃导光板的表面产生泛白变模糊(白く曇った)的部位、即白色混浊(白曇り)(haze),由此,存在使用了该玻璃导光板的面状照明装置发生亮度降低、亮度不均的问题。为了解决上述的现有技术中的问题,本发明的目的在于提供一种改善了耐候性的玻璃导光板。用于解决问题的手段本发明提供一种玻璃导光板,其为在玻璃板的至少一个主面具有无机阻挡层的玻璃导光板,其特征在于,上述玻璃板含有以Fe2O3换算计为5重量ppm~100重量ppm的氧化铁,并且,以氧化物基准的质量百分率表示,所述玻璃板含有2%以上的Li2O、Na2O和K2O中的至少一种,上述无机阻挡层的550nm下的折射率为1.450以上,并且,上述无机阻挡层的550nm下的折射率低于上述玻璃板的550nm下的折射率,并且上述无机阻挡层表面的算术平均粗糙度Ra为0.3nm~10nm。发明效果本发明的玻璃导光板改善了耐候性,即使在长时间置于高温高湿下的情况下,也能抑制在玻璃导光板的表面产生白色混浊。由此,能够抑制使用了本发明的玻璃导光板的面状照明装置发生亮度降低、亮度不均。附图说明图1是示出本发明的玻璃导光板的一个构成例的示意性剖视图。图2是示出本发明的玻璃导光板的另一构成例的示意性剖视图。图3是样品A(比较例)的11天后的显微镜照片。图4是样品B(比较例)的11天后的显微镜照片。图5是样品D(实施例)的11天后的显微镜照片。附图标记10A、10B:玻璃导光板20:玻璃板21、22:主面30、31、32:无机阻挡层40:光散射部具体实施方式以下,参考附图对本发明的玻璃导光板进行说明。图1是示出本发明的玻璃导光板的一个构成例的示意性剖视图。图1所示的玻璃导光板10A在玻璃板20的一个主面21具有无机阻挡层30,在另一个主面22上具有网点状(ドット状)的光散射部40。在图1所示的玻璃导光板10A中,形成有无机阻挡层30的一侧的玻璃板20的主面21为光出射面,具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面22为光散射面。图2是示出本发明的玻璃导光板的另一构成例的示意性剖视图。图2所示的玻璃导光板10B在玻璃板20的两个主面21、22具有无机阻挡层31、32。在一个阻挡层32上具有网点状的光散射部40。在图2所示的玻璃导光板10B中,不具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面21为光出射面,具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面22为光散射面。需要说明的是,在本发明的玻璃导光板10A、10B中,网点状的光散射部40为可选的构成,也可以不具有光散射部40。在图2所示的玻璃导光板10B为不具有光散射部40的构成的情况下,可以将具有无机阻挡层31、32的玻璃板20的主面21、22中的任一个作为光出射面(光散射面)。另外,在本发明中,表示数值范围的“~”以包含在其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义使用。在本说明书中,实质上不含有是指除了不可避免的杂质以外不含有。本发明的玻璃导光板10A、10B中的玻璃板20为含碱玻璃(アルカリ含有ガラス),以氧化物基准的质量百分率表示,含有1%以上、优选2%以上、更优选3%以上的Li2O、Na2O和K2O中的至少一种。Li2O、Na2O和K2O等碱金属氧化物为对促进玻璃原料的熔融、调节热膨胀、粘性等有用的成分。但是,已知使用含碱玻璃作为玻璃导光板的情况下,附着于玻璃表面的有机物在高温高湿下与玻璃表面的碱成分(アルカリ成分)发生反应而形成盐,由此产生白色混浊。认为附着于玻璃表面的有机物是由来自出于形成光散射部的目的而涂布在玻璃的表面的油墨的挥发物、来自玻璃面状照明装置中配置在玻璃导光板的附近的反射片或散射片的挥发物、或者粘贴于使用前的玻璃导光板的保护膜的残渣等所引起的。本发明的玻璃导光板10A、10B中的玻璃板20在为上述含碱玻璃的基础上,还含有以Fe2O3换算计为5重量ppm~100重量ppm的氧化铁。含有以Fe2O3换算计为5重量ppm~100重量ppm的氧化铁是指即换算成Fe2O3换算的总氧化铁量为5重量ppm~100重量ppm。需要说明的是,总氧化铁量是指玻璃中所存在的Fe2+(二价铁)与Fe3+(三价铁)的含量的合计。氧化铁为对提高玻璃原料的熔化性有用的成分。但是,氧化铁在可见光区域存在吸收,因此,氧化铁含量提高时,使玻璃在可见光区域内的透射性降低。通过氧化铁含量在上述范围内,形成吸收系数在可见光的全波长范围(380nm~780nm)内较低的高透射玻璃。如果氧化铁含量以Fe2O3换算计为5重量ppm以上,则玻璃的红外线的吸收变得适合,因此,能够提高熔化性,另外,也不用担心原料的纯化耗费大量成本。如果氧化铁含量以Fe2O3换算计为100重量ppm以下,则能够抑制玻璃的着色,因此,不用担心玻璃在可见光区域内的透射性受损。从进一步提高玻璃在可见光区域内的透射性的观点考虑,以Fe2O3换算计,氧化铁含量优选为50重量ppm以下、更优选为25重量ppm以下、进一步优选为20重量ppm以下、特别优选为15重量ppm以下。氧化铁含量可以通过玻璃制造时所添加的铁的量来调节。对于本发明的玻璃板20而言,优选Fe2+的含量(以下,也称为二价铁量)为0~50ppm。如果二价铁量为50ppm以下,则长波长区域的吸收不会过度增大,能够使可见光区域内的内部透射率谱图(内部透過率スペクトル)平坦,因此,不用担心在面内产生亮度不均、颜色不均。更优选二价铁量为10ppm以下、进一步优选为5ppm以下、特别优选为2.5ppm以下。从使可见光区域内的内部透射率谱图平坦化的观点考虑,二价铁量越低越好,但如果为0.1ppm以上,则能够提高玻璃的熔化性,并且能够使可见光区域内的内部透射率谱图更加平坦化,因此更优选。二价铁量进一步优选为0.5ppm以上、特别优选为1ppm以上。二价铁量可以通过玻璃制造时所添加的氧化剂的量来调节。在此,总氧化铁量可以通过荧光X射线测定来测定,另外,二价铁量可以根据ASTMC169-92来测定。需要说明的是,所测定的二价铁量换算成Fe2O3表述。对于本发明的玻璃板20而言,从制成适合于导光板的玻璃板的观点考虑,优选50mm长度时的可见光区域的平均内部透射率为97%以上、更优选为98%以上、进一步优选为99%以上。在此,可见光区域是指波长380nm~780nm的范围。NiO、Cr2O3和MnO2是玻璃板20可以含有的成分。但是,这些成分与氧化铁同样地在可见光区域存在吸收,因此,需要注意的是,氧化铁含量提高时,有可能使玻璃在可见光区域内的透射性降低。含有NiO的情况下,设定为0.01重量ppm~1.0重量ppm。NiO在波长800nm~1100nm附近的近红外区域有吸收,因此在玻璃熔化时提高玻璃融液的热射线吸收效率。因此,通过将NiO含量设定为0.01重量ppm以上,由此即使氧化铁的含量少也能够提高玻璃的熔化性。如果NiO含量为1.0重量ppm以下,则不用担心玻璃在近红外区域内的透射性受损。NiO含量更优选为0.5重量ppm以下。含有Cr2O3的情况下,设定为1.0重量ppm以下。Cr2O3作为氧化剂起作用,因此,通过含有Cr2O3,能够控制铁氧化还原值(鉄レドックス)。如果Cr2O3含量为1.0重量ppm以下,则不用担心玻璃在可见光区域内的透射性受损。Cr2O3含量更优选为0.5重量ppm以下。也可以不含有Cr2O3,但从难以完全防止Cr2O3从玻璃原料混入的观点考虑,可以含有0.01重量ppm以上的Cr2O3。含有MnO2的情况下,设定为5.0重量ppm以下。MnO2作为氧化剂起作用,因此,通过含有MnO2,能够控制二价铁量。如果MnO2含量为5.0重量ppm以下,则不用担心玻璃在可见光区域内的透射性受损。MnO2含量更优选为1.0重量ppm以下。也可以不含有MnO2,但从难以完全防止MnO2从玻璃原料混入的观点考虑,可以含有0.01重量ppm以上的MnO2。作为除了氧化铁、NiO、Cr2O3和MnO2以外的玻璃板20的组成而言,没有特别限制,代表性地可以列举下述(1)玻璃A、(2)玻璃B两种组成。以氧化物基准的质量百分率表示,玻璃A含有60%~85%的SiO2、0~10%的Al2O3、0~10%的MgO、0~20%的CaO、0~15%的SrO、0~15%的BaO、2%~20%的Na2O、0~10%的K2O、0~20%的B2O3。以氧化物基准的质量百分率表示,玻璃B含有45%~80%的SiO2、大于10%且小于等于30%的Al2O3、0~15%的B2O3、0~15%的MgO、0~6%的CaO、0~5%的SrO、0~5%的BaO、2%~20%的Na2O、0~10%的K2O、0~10%的ZrO2。关于玻璃A和玻璃B的各成分的组成范围,以下进行说明。SiO2为玻璃的主要成分。为了保持玻璃的耐候性、失透特性,以氧化物基准的质量百分率表示,SiO2的含量在玻璃A中为60%以上、优选为62%以上、更优选为63%以上,在玻璃B中为45%以上、优选为50%以上、更优选为55%以上、进一步优选为60%以上。另一方面,为了使熔化容易、改善气泡品质,SiO2的含量在玻璃A中为85%以下、优选为80%以下、更优选为75%以下、进一步优选为72%以下、更进一步优选为68%以下,在玻璃B中优选为80%以下、更优选为75%以下、进一步优选为70%以下。Al2O3为提高玻璃的耐候性的成分,在玻璃B中为必要成分。Al2O3的含量在玻璃A中优选为0%以上、更优选为0.5%以上、进一步优选为1%以上、更进一步优选为2%以上、特别优选为2.5%以上。Al2O3的含量在玻璃B中优选大于10%、进一步优选为11%以上、更进一步优选为12%以上、特别优选为13%以上。但是,为了改善气泡品质,Al2O3的含量在玻璃A中为10%以下、优选为9%以下、更优选为8%以下、进一步优选为7%以下、更进一步优选为6%以下、特别优选为5%以下。Al2O3的含量在玻璃B中优选为30%以下、更优选为25%以下、进一步优选为23%以下、更进一步优选为20%以下、特别优选为15%以下。从改善耐候性的观点考虑,Na2O/Al2O3优选为4.0以下、更优选为2.5以下、进一步优选为2.0以下、特别优选为1.4以下。另一方面,从促进玻璃原料的熔融、调节热膨胀、粘性的观点考虑,Na2O/Al2O3优选为0.1以上、更优选为0.4以上、进一步优选为0.7以上、特别优选为1.0以上。B2O3为促进玻璃原料的熔融、提高机械特性、耐候性的可选成分,在玻璃A、B中优选为1%以上、更优选为2%以上、进一步优选为3%以上。关于B2O3的含量,为了不产生由挥发导致的波筋(ream)的生成、炉壁的腐蚀等不良状况,B2O3的含量在玻璃A中为20%以下、更优选为15%以下、进一步优选为10%以下、特别优选为5%以下、更进一步优选为3%以下、最优选实质上不含有B2O3。B2O3的含量在玻璃B中优选为15%以下、更优选为12%以下、更优选为10%以下、进一步优选为7%以下、特别优选为4%以下、最优选实质上不含有B2O3。如上所述,Li2O、Na2O和K2O等碱金属氧化物为对促进玻璃原料的熔融、调节热膨胀、粘性等有用的成分,为必要成分。从促进玻璃原料的熔融、调节热膨胀、粘性等的观点考虑,优选含有Na2O、更优选含有1%以上的Na2O。Na2O的含量在玻璃A中为1%以上、优选为3%以上、更优选为5%以上、更进一步优选为8%以上、特别优选为10%以上。Na2O的含量在玻璃B中为1%以上、优选为3%以上、更优选为5%以上、进一步优选为8%以上、特别优选为10%以上。但是,为了保持熔化时的澄清性、并保持所制造的玻璃的气泡品质,Na2O的含量在玻璃A和B中优选设定为20%以下、进一步优选设定为15%以下。另外,K2O的含量在玻璃A和B中优选为10%以下、更优选为7%以下、进一步优选为5%以下、更进一步优选为2%以下,也可以不含有K2O。另外,Li2O为可选成分,为了使玻璃化容易、将作为来自原料的杂质而含有的铁含量抑制得较低、并将批料成本抑制得较低,在玻璃A、B中,Li2O的含量优选为5%以下、更优选为3%以下、进一步优选为2%以下、更进一步优选为1%以下。另外,关于这些碱金属氧化物的合计含量(Li2O+Na2O+K2O),为了保持熔化时的澄清性、保持所制造的玻璃的气泡品质,可以含有1%以上,在玻璃A和B中,优选可以含有2%以上且20%以下、更优选为3%以上且20%以下、进一步优选为5%~20%、更进一步优选为8%~15%。MgO、CaO、SrO和BaO等碱土金属氧化物为对促进玻璃原料的熔融、调节热膨胀、粘性等有用的成分。MgO具有降低玻璃熔化时的粘性、促进熔化的作用。另外,由于具有使比重降低、不易使玻璃板产生损伤的作用,因此在玻璃A、B中可以含有MgO。另外,为了降低玻璃的热膨胀系数、改善失透特性,MgO的含量在玻璃A中优选为10%以下、更优选为8%以下,在玻璃B中优选为15%以下、更优选为12%以下。CaO为促进玻璃原料的熔融、而且调节粘性、热膨胀等的成分,因此,在玻璃A、B中可以含有CaO。为了得到上述作用,在玻璃A中,CaO的含量优选为3%以上、更优选为5%以上。另外,为了改善失透,在玻璃A中,优选为20%以下、更优选为10%以下,在玻璃B中,优选为6%以下、更优选为4%以下。SrO具有增大热膨胀系数以及降低玻璃的高温粘度的效果。为了得到该效果,在玻璃A、B中可以含有SrO。但是,为了将玻璃的热膨胀系数抑制得较低,在玻璃A中,优选设定为15%以下、更优选设定为10%以下,在玻璃B中,优选设定为5%以下、更优选设定为3%以下。与SrO同样,BaO具有增大热膨胀系数以及降低玻璃的高温粘度的效果。为了得到上述效果,在玻璃A、B中可以含有BaO。但是,为了将玻璃的热膨胀系数抑制得较低,在玻璃A中,优选设定为15%以下、更优选设定为10%以下,在玻璃B中,优选设定为5%以下、更优选设定为3%以下。在玻璃A、B中,为了调节粘性,可以含有1%以上的BaO,更优选含有2%以上的BaO。另外,关于这些碱土金属氧化物的合计含量(MgO+CaO+SrO+BaO),为了将热膨胀系数抑制得较低、改善失透特性、并维持强度,在玻璃A中,优选为10%~30%、更优选为13%~27%,在玻璃B中,优选为1%~15%、更优选为3%~10%。为了提高玻璃的耐热性和表面硬度,玻璃A、B可以含有10%以下、优选5%以下的ZrO2作为可选成分。如果ZrO2为10%以下,则玻璃不容易发生失透,因此优选。玻璃板20可以为平板。玻璃板20的板厚优选为0.5mm~3.0mm。如果板厚为3.0mm以下,则能够使液晶显示装置的重量和厚度为适当的范围。玻璃板20的板厚更优选为2.5mm以下、进一步优选为2.0mm以下。如果玻璃板20的板厚为0.5mm以上,则具有适度的刚性,能够确保玻璃单体情况下的独立性。另外,如果板厚为0.5mm以上,则在侧光式的面状发光装置中,与通常使用的光源的宽度相比,玻璃板厚为同等以上,因此,光能够高效地入射至玻璃板20。玻璃板的板厚更优选为0.7mm以上、进一步优选为1.0mm以上。需要说明的是,玻璃板20的板厚大致均匀。作为玻璃板20而言,可以利用通过各种成形方法得到的玻璃板。具体而言,可以利用通过浮法、熔合法(フュ一ジョン法)得到的玻璃板。使用通过浮法得到的玻璃板的情况下,存在成形时与熔融金属(例如熔融锡)接触的底面和与该底面相反的顶面。对于在成形时与熔融金属接触的底面而言,由于熔融金属的侵入,与顶面、玻璃板内部相比,该金属浓度升高。在浮法中,使用熔融锡作为熔融金属,因此,与顶面、玻璃板内部相比,底面的锡浓度升高。其结果是,与顶面、玻璃板内部相比,底面的550nm下的折射率升高。在图1所示的玻璃导光板10A中,形成有无机阻挡层30的一侧的玻璃板20的主面21为光出射面,具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面22为光散射面,在图2所示的玻璃导光板10B中,不具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面21为光出射面,具有光散射部40的一侧的玻璃板20的主面22为光散射面,但将550nm下的折射率比顶面、玻璃板内部高的底面作为光散射面时,与将顶面作为光散射面的情况相比,光的提取效率提高。从光的提取效率提高的方面出发,优选如图1所示的玻璃导光板10A那样在底面上直接形成网点状的光散射部40而作为光散射面、并在顶面上设置无机阻挡层30而作为光出射面。需要说明的是,通常,在底面,由于碱(アルカリ)向熔融金属中的扩散以及成形后的SO2气体的喷吹所引起的脱碱,碱金属氧化物的浓度降低。因此,与顶面相比,在底面不容易产生由碱(アルカリ)与有机物的反应而引起的白色混浊。因此,与顶面相比,在底面形成无机阻挡层的必要性低,但是,如果在顶面、底面两面形成无机阻挡层则耐候性进一步提高。本发明的玻璃导光板10A、B中的无机阻挡层30、31、32的550nm下的折射率为1.450以上。在此,将波长550nm下的折射率作为判断指标是因为:在波长380nm~780nm的范围的光中的视觉灵敏度最高的波长550nm下光的提取效率高,因此优选。对于本发明的玻璃导光板10A、B而言,波长550nm下的折射率作为无机阻挡层30、31、32的致密性的判断指标。波长550nm下的折射率为1.450以上时,无机阻挡层30、31、32的致密性高,碱成分不容易出现在玻璃表面,因此,改善耐候性的效果高。波长550nm下的折射率小于1.450的情况下,无机阻挡层30、31、32的致密性低,作为阻挡层的功能不充分,难以改善耐候性。无机阻挡层30、31、32的波长550nm下的折射率更优选为1.455以上、进一步优选为1.460以上。本发明的玻璃导光板10A、B中的无机阻挡层30、31、32的550nm下的折射率低于玻璃板20的550nm下的折射率。通过550nm下的折射率满足上述关系,光出射面上的表面反射减少,光的提取效率提高。需要说明的是,玻璃板20的折射率即使在表层与内部不同、或者因基底不均(素地むら)而变得不均匀也无妨。这种情况下,以通过V形块法测定的、作为块体(バルク体)的折射率来代表。对于本发明的玻璃导光板10A、B中的无机阻挡层30、31、32而言,其表面的算术平均粗糙度Ra为0.3nm~10nm。如上所述,在高温高湿下长时间放置的玻璃导光板表面产生白色混浊的原因是附着于玻璃表面的有机物与玻璃表面的碱成分发生反应而形成盐。有机物来自显示器、背光源的构成构件,难以完全消除其存在,因此,为了使有机物难以附着、或者即使附着也不会与玻璃表面的碱成分发生反应而形成盐,设置无机阻挡层。无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra为0.3nm以上时,有机物不容易附着在无机阻挡层的表面,即使少量附着也不容易湿扩散,与玻璃表面的碱成分接触的概率降低。其结果是,即使在长时间置于高温高湿下的情况下也能抑制在玻璃导光板的表面产生白色混浊。无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.5nm以上、更优选为0.7nm以上。无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra小于0.3nm的情况下,附着于无机阻挡层的表面的有机物容易湿扩散,容易与玻璃表面的碱成分发生反应。其结果是,在长时间置于高温高湿下的情况下在玻璃导光板的表面产生白色混浊。另一方面,无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra过大时,有可能对玻璃导光板10A、B的光学特性带来影响,使用了玻璃导光板10A、B的面状照明装置有可能产生亮度降低、亮度不均。因此,无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra设定为10nm以下。如果无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra为10nm以下,则不会对玻璃导光板10A、B的光学特性带来影响,使用了玻璃导光板10A、B的面状照明装置不会产生亮度降低、亮度不均。无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra优选为5nm以下、更优选为2nm以下、特别优选为1nm以下。此外,无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra为0.3nm~10nm、并且无机阻挡层30、31、32的波长550nm下的折射率为1.450以上时,有机物不容易附着在玻璃表面、并且碱成分不容易出现在无机阻挡层表面,因此,能够抑制有机物与碱成分的反应,结果,改善耐候性的效果高。作为550nm下的折射率满足上述条件的无机阻挡层30、31、32而言,可以列举以SiO2作为主要成分的无机阻挡层。以SiO2作为主要成分的无机阻挡层是指相对于无机阻挡层30、31、32的构成材料的合计质量,以质量百分率计含有90%以上的SiO2的无机阻挡层。这种情况下,作为除SiO2以外的无机阻挡层30、31、32的构成元素而言,可以列举:Ti、Sb、Sn、C、B、Al、P、S、In、Zr、V、Nb、Mo、W以及它们的氟化物、氯化物、氢化物、氧化物等。如果为以SiO2作为主要成分的膜(以下,有时记为“SiO2膜”),则不仅满足上述的折射率、Ra,而且从耐候性的观点考虑也不用担心膜本身与玻璃反应而使雾度变差等,因此,优选作为应用于导光板的膜。对于SiO2膜的成膜法而言,存在湿式成膜法、干式成膜法、溶胶凝胶法等各种成膜法。但是,根据所使用的成膜法,SiO2膜的表面粗糙度不同。例如,使用湿式成膜法、溶胶凝胶法形成的SiO2膜具有表面粗糙度增大的倾向。因此,本发明的无机阻挡层30优选使用真空蒸镀法、溅射法、真空CVD法、等离子体CVD法、常压CVD法等干式成膜法形成。需要说明的是,在顶面、底面两面形成SiO2膜的情况下,各面的成膜法可以相同、也可以不同。无机阻挡层30、31、32的厚度优选为5nm~200nm。在无机阻挡层30、31、32的厚度小于5nm的情况下,有时不能充分地发挥作为阻挡层的功能,并且,无机阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra难以满足上述范围。在使无机阻挡层30、31、32的厚度大于200nm的情况下,已经不再有助于作为阻挡层的功能,阻挡层的形成所需要的时间变长,因此成品率降低。除此以外,有时阻挡层30、31、32的表面粗糙度变得过大,阻挡层30、31、32表面的算术平均粗糙度Ra不满足上述范围。本发明的玻璃导光板10A、B中的无机阻挡层30、31、32可以为单层、也可以为层叠的构成。网点状的光散射部40由多个点(ドット)构成,为了干扰在玻璃导光板10A、B的内部传播的光的传播方向并将其引导至光出射面(图1、2的玻璃导光板10A、B的情况下为玻璃板20的主面21)而设置。作为一例,网点状的光散射部40可以通过丝网印刷、喷墨印刷等公知的方法在玻璃导光板10A、B的光散射面侧的表面(图1、2的玻璃导光板10A、B的情况下为玻璃板20的主面22)印刷使光散射的涂料来形成。作为点的形状而言,可以列举例如:圆形、椭圆形、方形、三角形、多边形等,只要是能够干扰在玻璃导光板10A、B的内部传播的光的传播方向并将其引导至光出射面的形状就没有特别限制。需要说明的是,关于点的形状、尺寸等,可以根据需要对光反射面的每个部分进行变更。实施例表1SiO2重量%69.7Al2O3重量%3.0CaO重量%8.0SrO重量%4.0BaO重量%4.0Na2O重量%11.0SO3重量%0.3Fe2O3重量ppm23.0NiO重量ppm0.38Cr2O3重量ppm0.44MnO2重量ppm1.3准备了4片通过浮法在熔融金属上成形的、上述组成的玻璃板(板厚1.8mm、50mm×50mm)。玻璃板的铁氧化还原值均为9.5%。玻璃板的50mm长度时的可见光区域的平均内部透射率均为98.8%。下述方法中,形成了SiO2膜作为无机阻挡层。各SiO2膜的膜厚为50nm。需要说明的是,A、B为比较例,C、D、E为实施例。A无SiO2膜B在两主面通过湿式成膜法形成SiO2膜C在两主面通过溅射法形成SiO2膜D在两主面通过常压CVD法形成SiO2膜E仅在顶面(与成形时与熔融金属接触的主面相反的面)通过常压CVD法形成SiO2膜表2SiO2重量%64Al2O3重量%7.4CaO重量%4SrO重量%3.3BaO重量%8Na2O重量%13.1SO3重量%0.3Fe2O3重量ppm18NiO重量ppm0.21Cr2O3重量ppm0.21MnO2重量ppm0.6准备了2片通过浮法在熔融金属上成形的、表2的组成的玻璃板(板厚1.8mm、50mm×50mm)。玻璃板的铁氧化还原值均为3.6%。玻璃板的50mm长度时的可见光区域的平均内部透射率均为99.3%。仅在上述玻璃板的顶面、即与成形时与熔融金属接触的主面相反的面通过常压CVD法形成了SiO2膜。各SiO2膜的膜厚为20nm。将其作为实施例F。利用椭偏仪(J.A.Woollam公司制造、型号:VASE)测定了所形成的SiO2膜的550nm下的折射率。需要说明的是,关于折射率,对两个主面进行测定,为小数点后三位有效数字的范围内相同的值。对于玻璃板而言,将玻璃板加工·表面研磨成长方体形状,然后通过V形块法测定d线、C线、F线、e线、g线下的折射率,并利用塞耳迈耶尔公式对它们进行拟合,由此计算出550nm下的折射率。玻璃板的550nm下的折射率为1.526。另外,利用原子力显微镜(SIINanotechnology公司制造、型号:SPI-3800N/SPA400)测定了所形成的SiO2膜表面的算术平均粗糙度Ra。测定条件设定为激振电压0.5V、扫描区域2.0μm×2.0μm。对于上述A而言,测定了玻璃板表面的面的算术平均粗糙度Ra。对于另行准备的8片上述组成的玻璃板,在玻璃板的一个主面的整个面上涂布高反射白油墨(帝国油墨公司制造、产品编号:GLS-HFCLEAR)并进行烘烤,由此形成了厚度10μm的光散射层。本来,光散射部形成为网点状,但是,在此以耐候性的试验为目的,因此在主面的整个面形成了光散射部(以下,称为光散射层)。利用形成有光散射层的2片玻璃板、以1mm的间隙夹住A~F的各样品的方式进行了设置。此时,使得形成有光散射层的一侧的面朝向A~E的各样品。在110℃、90%的环境下保存5天和11天,通过下述步骤观察了变化。雾度:利用雾度计(Suga试验机公司制造、型号:HZ-2),以雾度作为指标对以与主表面正交的方式入射的光的散射程度进行了测定。显微镜观察:利用微分干涉显微镜(尼康公司制造、型号:ME600)以50倍的倍率观察了主表面上的反应产物。将结果示于下述表中。表3使用5天后的雾度、11天后的雾度作为耐候性的指标。如果5天后的雾度为0.3%以内,则耐候性良好。另外,如果11天后的雾度为1%以内,则耐候性良好。需要说明的是,如果初始雾度为0.3%以下,则能够用作导光板。任一个样品的初始雾度均小于0.1%,为能够足以用作导光板的水平。对于显微镜观察而言,基于下述基准进行了评价。OK:在2.3mm×3.0mm的视野内不存在直径20μm以上的白色的反应产物。NG:在2.3mm×3.0mm的视野内存在直径20μm以上的白色的反应产物。对于未形成二氧化硅层的样品A而言,5天后的雾度大于0.3%、11天后的雾度高达大于1%,显微镜观察也为NG,耐候性差。将11天后的样品A的显微镜照片示于图3。对于二氧化硅层的550nm下的折射率小于1.450、并且二氧化硅层表面的算术平均粗糙度Ra小于0.3nm的样品B而言,5天后的雾度为0.3%以下、11天后的雾度为1%以下,是良好的,但是,显微镜观察的结果是存在反应产物并且为NG,耐候性差。将11天后的样品B的显微镜照片示于图4。另一方面,对于二氧化硅层的550nm下的折射率为1.450以上、并且二氧化硅层表面的算术平均粗糙度Ra为0.3nm~10nm的样品C、D、E而言,5天后的雾度为0.3%以下、11天后的雾度低至1%以下,显微镜观察也OK,耐候性良好。作为代表例,将11天后的样品D的显微镜照片示于图5。利用SEM-EDX对样品A和B的反应产物进行了分析,结果发现:反应产物中含有大量Na和C。进一步地,利用FT-IR对样品A和B的反应产物进行了分析,结果发现:反应产物为羧酸盐。由此可知反应产物为羧酸钠盐。参考特定的方式对本发明详细地进行了说明,但是,对于本领域技术人员而言显而易见的是,在不脱离本发明的精神和范围的情况下能够进行各种变更和修正。本申请要求基于2017年4月4日向日本专利局提出的日本特愿2017-074260号和2017年9月11日向日本专利局提出的日本特愿2017-173915号的优先权,将日本特愿2017-074260号和日本特愿2017-173915号的全部内容引用至本申请中。当前第1页1 2 3 
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