技术特征：
技术总结
本发明揭示用以控制灰度光刻的方法及设备。用于调整灰度光刻过程的所揭示实例设备包含：光学测量装置(206)，其用以光学测量经图案化晶片(300)的部分(302、304、310、320)；及处理器(1012)，其用以基于所述经测量部分计算轮廓(401)，及基于所述经计算轮廓(401)确定对所述灰度光刻过程的调整。所述所揭示设备还包含用以基于所述调整控制所述灰度光刻过程的调整器(202)。
技术研发人员：L·M·舍温;S·郑;C·M·彼尔德;N·波拉纳努特
受保护的技术使用者：德州仪器公司
技术研发日：2018.10.30
技术公布日：2019.05.14