本发明涉及全息元件制备技术领域，尤其是一种基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法。
背景技术：
光致聚合物在记录光栅时，事先依靠光化学反应在材料内部产生自由基或离子，继而引发单体发生聚合的反应，与传统的记录材料相比较后主要具有以下优点，感光灵敏度较高、衍射效率高、分辨率高，最为重要的是后处理工艺简单，完全可以采用干法进行处理，光栅成膜速度较快，并且可以快速显影，光聚物记录的全息图像较其它材料比较，具有较高的几何保真度，存储时间长且不易失真。光致聚合物材料的制备工艺也十分简单，在保证基本组成成分的条件下，可根据实验需要调整试剂配比成分。对于不同敏感波段的记录，可以通过掺入不同的光敏剂选择工作波长，最终实现不同波长的记录，提高记录密度的同时甚至可以实现全彩色记录。所以优良的性能、简单的制备工艺，低廉的成本都是光致聚合物成为新一代光全息主要记录材料的原因。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足，本发明提出的一种基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法。
本发明的技术方案是这样实现的：
一种基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法，包括以下步骤：
包括以下步骤：
步骤1：清洗干燥，对玻璃基板进行清洗，以去除制备、运输过程中产生的油污、灰尘等污染物；
步骤2：清洗后的玻璃基板放入热风烘箱中烘干，风干后让如培养皿封存于干燥柜中留用；
步骤3：胶液旋涂，将玻璃基板放置在旋转台的吸盘上，对玻璃基板进行吸附，用带有量程的吸管吸取1ml的胶液，滴注到玻璃基板上，静置5s后，利用旋转台高速转动的离心力，使胶液容易涂覆在基板上；
步骤4：将玻璃基板放置于培养皿中，置于干燥箱内避光保存，静置两个小时后，自然晾干，形成光致聚合物薄膜。
作为优选，所述步骤1中，具体清洗过程包括：
步骤11、去离子水冲洗，初步进行除污；
步骤12、丙酮超声清洗，进一步去除油污；
步骤13、酒精超声清洗，更进一步去除油污；
步骤14、去离子水超声清洗，进一步去除玻璃基板表面残留的灰尘等杂质。
作为优选，所述步骤1中，清洗过程在超声清洗仪中进行，且所述步骤12～步骤14，超声清洗过程中控制超声频率及时间。
作为优选，所述步骤3胶液旋涂之前，先通过高纯度氮气枪对玻璃基板表面进行再次清洁。
作为优选，所述步骤3中，旋转台旋转速度为1000r/s，旋涂时间为40s。
作为优选，所述步骤4中，在放置过程中，所述玻璃基板保持水平。
本发明通过提供的基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法，其有益效果在于：采用旋涂的方式进行胶液膜层的涂敷，通过控制旋涂的转速等来控制全息干板的膜层厚度，制作出高衍射效率的光致聚合物光栅。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本实施例的基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法，包括以下步骤：
包括以下步骤：
步骤1：清洗干燥，对玻璃基板进行清洗，以去除制备、运输过程中产生的油污、灰尘等污染物，具体包括：
步骤11、去离子水冲洗，初步进行除污；
步骤12、丙酮超声清洗，进一步去除油污；
步骤13、酒精超声清洗，更进一步去除油污；
步骤14、去离子水超声清洗，进一步去除玻璃基板表面残留的灰尘等杂质；
上述清洗过程在超声清洗仪中进行，且所述步骤12～步骤14，超声清洗过程中控制超声频率及时间。
步骤2：清洗后的玻璃基板放入热风烘箱中烘干，风干后让如培养皿封存于干燥柜中留用；
步骤3：胶液旋涂，先通过高纯度氮气枪对玻璃基板表面进行再次清洁，将玻璃基板放置在旋转台的吸盘上，对玻璃基板进行吸附，用带有量程的吸管吸取1ml的胶液，滴注到玻璃基板上，静置5s后，利用旋转台高速转动的离心力，使胶液容易涂覆在基板上，旋转台旋转速度为1000r/s，旋涂时间为40s；
步骤4：将玻璃基板放置于培养皿中，置于干燥箱内避光保存，玻璃基板保持水平，静置两个小时后，自然晾干，形成光致聚合物薄膜。
本发明通过提供的基于光致聚合物的全息光栅薄膜制备方法，其有益效果在于：采用旋涂的方式进行胶液膜层的涂敷，通过控制旋涂的转速等来控制全息干板的膜层厚度，制作出高衍射效率的光致聚合物光栅。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。