一种调光膜的制备方法及调光膜与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种调光膜的制备方法及调光膜。

背景技术：

随着无人车、可穿戴设备、生物可兼容性电子器件逐渐发展，电子器件的适应性越来越显得重要。在液晶调光膜(pdlc)方面，目前比较多地应用在智能窗户，智能窗帘中，但是由于应用场景的增加，我们pdlc调光膜需要更多地适应各种物体表面来为智能一体化服务，因此可拉伸pdlc的重要性日益重要。

传统的pdlc制作工艺一般是采用ito透明导电膜，通过将ito磁控溅射沉积在玻璃或透明聚合物基体上制得。但是，该方法只涉及玻璃或者透明聚合物基体上制作pdlc，但是该制备方法效率较低，制备得到的pdlc只适用于单一纬度曲面的覆盖，无法满足多维度表面的需求。

技术实现要素：

本发明提供一种调光膜的制备方法，以解决现有调光膜的制备方法效率低，制备的调光膜无法满足多维度表面的需求。

本发明一方面提供了一种调光膜的制备方法，包括：提供第一衬底和第二衬底；

将所述第一衬底的一端和所述第二衬底的一端相对放置在间距小于阈值的两滚轴之间；

在所述第一衬底和所述第二衬底之间滴入预先制备的调光溶液，并滚动所述两滚轴，带动所述第一衬底和所述第二衬底夹持所述调光溶液，并朝脱离所述两滚轴的方向移动；

固化所述第一衬底、所述第二衬底及夹持的所述调光溶液，获得所述调光膜。

可选的，在所述第一衬底和所述第二衬底之间滴入预先制备的调光溶液之前，还包括：

在遮光环境下制备光学胶；

将所述光学胶与液晶混合，得到聚合物分散液晶；

在所述聚合物分散液晶中加入微硅粉，得到所述调光溶液。

可选的，所述光学胶与液晶混合的比例为1:0.8-1.2。

可选的，所述微硅粉与所述聚合物分散液晶的质量比为：1:400-1000。

可选的，所述微硅粉的粒径包括：20μm-30μm。

可选的，所述光学胶包括：甲基丙烯酸酯树脂、六氢邻苯二甲酸环氧树脂、异冰片甲基苯烯酸酯、丙氧基化丙三醇三丙烯酸酯、丙烯酸和硅烷偶联剂的混合物。

可选的，所述甲基丙烯酸酯树脂、六氢邻苯二甲酸环氧树脂、异冰片甲基苯烯酸酯、丙氧基化丙三醇三丙烯酸酯、丙烯酸和硅烷偶联剂之间的质量比为：1:(2-3):(3-5):(0.4-0.5):(1-2):(0.05-0.15)。

可选的，所述第一衬底和所述第二衬底的材料包括：聚二甲基硅氧烷、环甲基硅氧烷、氨基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷和聚醚聚硅氧烷共聚物中的一种。

可选的，所述两滚轴的间距包括：200μm-250μm。

可选的，所述两滚轴的滚动速率包括：5s/r-8s/r。

可选的，所述固化的时间包括：300s-700s；所述固化的强度包括：60mw/cm²-80mw/cm²。

可选的，所述调光溶液的滴注速度包括：1s/0.02ml-1s/0.05ml。

本发明另一方面提供一种调光膜，包括：

第一衬底、第二衬底和调光层；

所述调光层设置在所述第一衬底和所述第二衬底之间，所述第一衬底及所述第二衬底均为可拉伸衬底。

可选的，所述调光膜的拉伸强度包括：6mpa-9mpa；最大拉伸长度是原长的130％-150％。

综上所述，本发明实施例提供的一种调光膜的制备方法，包括：提供第一衬底和第二衬底；将所述第一衬底的一端和所述第二衬底的一端相对放置在间距小于阈值的两滚轴之间；在所述第一衬底和所述第二衬底之间滴入预先制备的调光溶液，并滚动所述两滚轴，带动所述第一衬底和所述第二衬底夹持所述调光溶液，并朝脱离所述两滚轴的方向移动；固化所述第一衬底、所述第二衬底及夹持的所述调光溶液，获得所述调光膜。本发明实施例提供调光膜的制备方法，工艺简单，容错率高，减低了生产成本，能够制备得到具有拉伸性能的调光膜。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种调光膜的制备方法的步骤流程图；

图2是本发明实施例提供的一种调光膜的制备方法的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的一种调光膜的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

参照图1，本发明一方面提供了一种调光膜的制备方法，该方法具体包括以下步骤：

步骤101，提供第一衬底和第二衬底。

在本发明实施例中，所述第一衬底和所述第二衬底的材料包括：聚二甲基硅氧烷、环甲基硅氧烷、氨基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷和聚醚聚硅氧烷共聚物中的一种。

在本发明实施例中，第一衬底和第二衬底均为具有可拉伸性能的材料，其中第一衬底和第二衬底可以相同也可以不同。

在本发明实施例中，第一衬底和第二衬底的厚度包括：80μm-120μm。

步骤102，将所述第一衬底的一端和所述第二衬底的一端相对放置在间距小于阈值的两滚轴之间。

在本发明实施例中，参照图2，两滚轴包括第一滚轴31、第二滚轴32，其中第一滚轴31和第二滚轴32向相对的方向自转。其中，第一衬底21搭接在第一滚轴31上，第二衬底22的一端搭接在第二滚轴32上。

所述两滚轴的间距包括：200μm-250μm。

步骤103，在所述第一衬底和所述第二衬底之间滴入预先制备的调光溶液，并滚动所述两滚轴，带动所述第一衬底和所述第二衬底夹持所述调光溶液，并朝脱离所述两滚轴的方向移动。

在本发明实施例中，参照图2，使用装置40像第一衬底21和第二衬底22之间滴入调光溶液50，在两滚轴滚动时，第一衬底和第二衬底向背离装置40的方向移动，其中，调光溶液50夹持在第一衬底21和第二衬底22之间。

在本发明实施例中，通过两滚轴滚动制备调光膜能够大批量生产调光膜，节省生产成本、提高生产效率。

在本发明实施例中，所述两滚轴的滚动速率包括：5s/r-8s/r。所述调光溶液的滴注速度包括：1s/0.02ml-1s/0.05ml。

在本发明实施例中，在步骤103之前，还包括制备调光溶液的步骤，包括：a1，在遮光环境下制备光学胶；a2，将所述光学胶与液晶混合，得到聚合物分散液晶；a3，在所述聚合物分散液晶中加入微硅粉，得到所述调光溶液。

在本发明实施例中，所述光学胶包括：甲基丙烯酸酯树脂、六氢邻苯二甲酸环氧树脂、异冰片甲基苯烯酸酯、丙氧基化丙三醇三丙烯酸酯、丙烯酸和硅烷偶联剂的混合物。其中，光学胶具有可拉伸性能。

其中，所述甲基丙烯酸酯树脂、六氢邻苯二甲酸环氧树脂、异冰片甲基苯烯酸酯、丙氧基化丙三醇三丙烯酸酯、丙烯酸和硅烷偶联剂之间的质量比为：1:(2-3):(3-5):(0.4-0.5):(1-2):(0.05-0.15)。

在本发明实施例中，所述光学胶与液晶混合的比例为1:0.8-1.2。所述微硅粉与所述聚合物分散液晶的质量比为：1:400-1000。所述微硅粉的粒径包括：20μm-30μm。

在本发明实施例中，微硅粉起到间隔因子的作用，用来使第一衬底和第二衬底之间保持预设的距离，并且能够使液晶在光学胶中均匀的分散。

步骤104，固化所述第一衬底、所述第二衬底及夹持的所述调光溶液，获得所述调光膜。

在本发明实施例中，可以采用紫外光固化调光膜，所述固化的时间包括：300s-700s；所述固化的强度包括：60mw/cm²-80mw/cm²。

在本发明实施例中，调光溶液中的光学胶具有可拉伸性能，又因为第一衬底和第二衬底也具有可拉伸性，因此，制备得到的调光膜具有可拉伸性能，并能够用于多维表面的覆盖。

综上所述，本发明实施例提供的一种调光膜的制备方法，包括：提供第一衬底和第二衬底；将所述第一衬底的一端和所述第二衬底的一端相对放置在间距小于阈值的两滚轴之间；在所述第一衬底和所述第二衬底之间滴入预先制备的调光溶液，并滚动所述两滚轴，带动所述第一衬底和所述第二衬底夹持所述调光溶液，并朝脱离所述两滚轴的方向移动；固化所述第一衬底、所述第二衬底及夹持的所述调光溶液，获得所述调光膜。本发明实施例提供调光膜的制备方法，工艺简单，容错率高，减低了生产成本，能够制备得到具有拉伸性能的调光膜。

实施例二

图3示出本发明实施例提供了一种调光膜，包括：

包括：第一衬底21、第二衬底22和调光层23；

所述调光层23设置在所述第一衬底21和所述第二衬底22之间，所述第一衬底21及所述第二衬底22均为可拉伸衬底。

在本发明实施例中，调光层是由液晶分子、光学胶和微硅粉的混合物经过固化得到的。其中，在调光膜的两侧施加不同的电压，液晶分子可以有不同的转向，进而起到调光作用。

在本发明实施例中，所述调光膜的拉伸强度包括：6mpa-9mpa；最大拉伸长度是原长的130％-150％。

综上所述，本发明实施例提供的一种调光膜，包括：第一衬底、第二衬底和调光层；所述调光层设置在所述第一衬底和所述第二衬底之间，所述第一衬底及所述第二衬底均为可拉伸衬底。本发明实施例制备的调光膜，由于衬底的各向拉伸性，使调光膜能够应用于多维度表面的覆盖，允许调光膜在各种表面形貌以相异的轴向进行贴附，如汽车内壁。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的基板的工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。