极紫外光光罩用的保护膜的制作方法

技术总结
一种极紫外光光罩用的保护膜，包括第一覆盖层、设置在第一覆盖层上方的基质层、设置在基质层上方的第二覆盖层；以及设置在第二覆盖层上方的金属层。

技术研发人员：林雲跃
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2019.08.20
技术公布日：2020.03.10