1.一种用于确定整个图案形成装置或衬底上的标记位置的布局的方法，所述方法包括：
a)获取模型，所述模型被配置为对与在一个或多个标记位置处的所述图案形成装置或衬底上执行的测量相关联的数据进行建模；
b)获取包括初始标记位置的初始标记布局；
c)通过去除一个或多个标记位置来减小初始标记布局以获取多个减少的标记布局，每个减少的标记布局通过从所述初始标记布局中去除不同标记位置被获取；
d)针对所述多个减少的标记布局中的每个减少的标记布局确定与所述模型的使用相关联的模型不确定性度量；以及
e)基于与所述多个减少的标记布局相关联的所述模型不确定性度量来选择一个或多个减少的标记布局。
2.根据权利要求1所述的方法，其中仅选择所述多个减少的标记布局中具有最低模型不确定性度量的所述减少的标记布局。
3.根据权利要求1或2所述的方法，还包括：
f)从所述一个或多个选择的减少的标记布局中的所选择的减少的标记布局中获取所述初始标记布局，并且重复步骤c)、d)和e)；以及
g)针对所有选择的一个或多个减少的标记布局重复步骤f)。
4.根据权利要求3所述的方法，其中重复步骤f)和g)，直到所述减少的标记布局包括预定义数目的标记位置为止。
5.根据权利要求4所述的方法，其中所述预定义数目的标记位置基于与测量所述数目的标记位置相关联的可接受的测量时间。
6.根据权利要求3所述的方法，其中重复步骤f)和g)，直到所述模型不确定性度量超过阈值为止。
7.根据权利要求4所述的方法，其中所述预定义数目的标记位置基于由根据权利要求6所述的方法确定的所述模型不确定性。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述标记布局是以下中的一项或多项的布局：对准标记位置、重叠标记位置、聚焦标记位置或临界尺寸标记位置。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述模型是描述衬底的对准或重叠参数的六参数模型，所述衬底是晶片。
10.根据权利要求1所述的方法，其中所述模型不确定性度量与g最优准则相关联。
11.根据权利要求1所述的方法，其中所述标记位置分布在衬底上的整个场上。
12.根据权利要求1所述的方法，其中所述标记位置分布在整个衬底上。
13.一种包括计算机可读指令的计算机程序，所述计算机可读指令当在适当的计算机装置上运行时引起所述计算机设备执行根据权利要求1所述的方法。
14.一种计算机程序产品，包括根据权利要求13所述的计算机程序。
15.一种设备，特别适于执行根据权利要求1所述的方法的步骤，所述设备被配置为能够操作以在所述衬底上执行光刻过程的光刻设备。