1.一种偏振膜的制造方法，该偏振膜在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层设置有透明保护膜，
该方法包括在所述起偏镜的粘接剂层形成面侧涂敷易粘接组合物的涂敷工序，
其中，所述易粘接组合物含有：
下述通式(1)表示的化合物、和
沸点为85℃以上的有机溶剂及沸点为85℃以上的具有聚合性基团的单体中的任一者或其两者，
式中，x为含有反应性基团的官能团，r1及r2各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基。
2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述通式(1)表示的化合物为下述通式(1’)表示的化合物，
式中，y为有机基团，x、r1及r2与上述含义相同。
3.根据权利要求1或2所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述通式(1)表示的化合物所具有的反应性基团为选自(甲基)丙烯酰胺基、α,β-不饱和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁基、氨基、醛基、巯基及卤素基团中的至少1种反应性基团。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述起偏镜的水分率为15重量％以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述易粘接组合物含有水。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述涂敷工序是使用后测量涂敷方式涂敷所述易粘接组合物的工序。
7.根据权利要求6所述的偏振膜的制造方法，其中，
所述后测量涂敷方式是使用了凹版辊的凹版辊涂敷方式。
8.一种带易粘接层的起偏镜，其在起偏镜的至少一面形成有易粘接层，
其中，所述易粘接层含有：
下述通式(1)表示的化合物、和
沸点为85℃以上的有机溶剂及沸点为85℃以上的具有聚合性基团的单体中的任一者或其两者，
式中，x为含有反应性基团的官能团，r1及r2各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基。
9.根据权利要求8所述的带易粘接层的起偏镜，其中，
所述通式(1)表示的化合物为下述通式(1’)表示的化合物，
式中，y为有机基团，x、r1及r2与上述含义相同。
10.根据权利要求8或9所述的带易粘接层的起偏镜，其中，
所述通式(1)表示的化合物所具有的反应性基团为选自(甲基)丙烯酰胺基、α,β-不饱和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁基、氨基、醛基、巯基及卤素基团中的至少1种反应性基团。
11.一种偏振膜，其在权利要求8～10中任一项所述的带易粘接层的起偏镜的易粘接层形成面隔着粘接剂层设置有透明保护膜。
12.一种光学膜，其至少层叠有1片权利要求11所述的偏振膜。
13.一种图像显示装置，其使用了权利要求11所述的偏振膜、和/或权利要求12所述的光学膜。