1.一种硅基液晶空间光调制器，其特征在于，包括：第一基板(10)、与所述第一基板(10)相对间隔设置的第二基板(20)以及设于所述第一基板(10)与第二基板(20)之间的液晶层(30)；
所述第一基板(10)包括：硅基背板(11)及设于所述硅基背板(11)上的辅助层(12)；
所述硅基背板(11)包括阵列排布的多个像素区(111)，所述辅助层(12)包括多个条状的第一挡墙(121)、多个条状的第二挡墙(122)及多个凸起部(123)；
所述多条第一挡墙(121)与多条第二挡墙(122)纵横交错形成多个网格(124)，每一个网格(124)包围一个像素区(111)，且每一个网格(124)内设有至少一个凸起部(123)。
2.如权利要求1所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述辅助层(12)的材料为氧化硅或氮化硅。
3.如权利要求1所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述第一挡墙(121)和第二挡墙(122)的高度为1～8μm。
4.如权利要求1所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，每一个像素区(111)均包括第一衬底(51)、设于所述第一衬底(51)朝向第二基板(20)一侧的cmos电路(52)以及设于所述cmos电路(52)上的与所述cmos电路(52)电性连接的第一电极(53)。
5.如权利要求4所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述第一电极(53)为反射电极。
6.如权利要求1所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述凸起部(123)的高度小于所述第一挡墙(121)和第二挡墙(122)的高度。
7.如权利要求1所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述第二基板(20)包括第二衬底(21)及设于所述第二衬底(21)靠近所述第一基板(10)一侧的第二电极(22)。
8.如权利要求7所述的硅基液晶空间光调制器，其特征在于，所述第二衬底(21)为透明衬底，所述第二电极(22)为透明电极。
9.一种波长选择开关，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的硅基液晶空间光调制器。