防反射结构体、带防反射结构体的基材、相机模块和信息终端设备的制作方法

1.本发明涉及防反射性能和透明性优异、减少了表面褶皱的产生的防反射结构体和带防反射结构体的基材；防反射性能和透明性优异的相机模块；能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像的信息终端设备。


背景技术：

2.液晶显示器等显示装置、相机等光学装置为了避免来自外部的光的反射所导致的视觉辨认性、画质的恶化(颜色不均、重影等的产生)，大多对显示板、透镜等的基材的光入射面实施形成防反射膜等的防反射处理。
3.在此，作为以往的防反射处理之一，已知有通过在光入射面形成具有微细凹凸结构(蛾眼结构)的防反射膜来降低反射率的技术。
4.作为形成具有微细凹凸结构的薄膜的技术，例如，在专利文献1中公开了一种与转印体相关的技术，其目的在于，通过转印而形成具有纳米结构的凹凸结构(11)的载体(10)和设置在凹凸结构(11)上的功能层(12)，并且针对所形成的凹凸结构的平均间距和功能层的条件实现优化，由此在被处理体上高精度地赋予功能。
5.现有技术文献
6.专利文献
7.专利文献1：国际公开第2013/187349号


技术实现要素：

8.发明所要解决的课题
9.然而已知，如专利文献1那样在与具有微细凹凸结构的膜模具接触的状态下固化而得到的薄膜体(专利文献1的功能层(11))由于其微细凹凸结构而阻碍应力缓和，因此以由固化收缩等引起的内部应力高的状态被保持，其结果是，新产生在形成有薄膜体的结构体的表面产生褶皱这样的问题。
10.而且，若在形成有薄膜体的结构体的表面产生褶皱，则不仅外观性降低，而且对光的防反射性能、透明性也产生不良影响，因此期望开发出能够抑制该褶皱产生的技术。
11.本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供防反射性能和透明性优异、减少了表面褶皱的产生的防反射结构体以及带防反射结构体的基材。另外，本发明的另一目的在于提供一种防反射性能和透明性优异的相机模块以及能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像的信息终端设备。
12.用于解决课题的方法
13.本发明人等为了解决上述课题而对至少具备粘接层和形成于该粘接层上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜的防反射结构体反复进行了深入研究，结果发现，通过针对粘接层的储能模量实现适当化，从而即使在将具有微细凹凸结构的防反射膜转印成型并
以所形成的防反射膜的内部应力高的状态被保持的情况下，也能够有效地抑制在防反射结构体的表面产生褶皱，还能够良好地维持光的防反射性能、透明性，进而，通过将形成于防反射膜两面的微细凹凸结构的凹凸周期均设为可见光线的波长以下，能够提高防反射性能，从而完成了本发明。
14.本发明是基于上述见解而完成的，其主旨如下所述。
15.(1)一种防反射结构体，其特征在于，至少具备粘接层以及形成于该粘接层上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜，
16.上述粘接层的储能模量为25mpa以上，
17.形成于上述防反射膜的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期。
18.根据上述结构，能够提高防反射结构体的防反射性能和透明性，减少在表面产生的褶皱。
19.(2)根据上述(1)所述的防反射结构体，其特征在于，上述粘接层的储能模量为25mpa以上且2.1gpa以下。
20.(3)根据上述(1)或(2)所述的防反射结构体，其特征在于，上述粘接层是由紫外线固化性粘接剂构成的层。
21.(4)根据上述(1)～(3)中任一项所述的防反射结构体，其特征在于，上述粘接层的厚度相对于上述防反射膜的厚度为5～300。
22.(5)一种带防反射结构体的基材，其特征在于，具备基材、形成于该基材上的粘接层、和形成于该粘接层上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜，
23.上述粘接层的储能模量为25mpa以上，
24.形成于上述防反射膜的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期。
25.通过上述构成，能够提高带防反射结构体的基材的防反射性能和透明性，减少在表面产生的褶皱。
26.(6)一种相机模块，其特征在于，使用了上述(5)所述的带防反射结构体的基材。
27.(7)一种信息终端设备，其是搭载相机模块的信息终端设备，其特征在于，作为上述相机模块，使用上述(6)所述的相机模块。
28.通过上述结构，能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像。
29.发明效果
30.根据本发明，能够提供防反射性能和透明性优异、减少了表面褶皱的产生的防反射结构体、带防反射结构体的基材。另外，根据本发明，使用上述带防反射结构体的基材，能够提供防反射性能和透明性优异的相机模块以及能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像的信息终端设备。
附图说明
31.图1是示意性地说明本发明的防反射结构体的一个实施方式的截面图。
32.图2是示意性地说明本发明的带防反射结构体的基材的一个实施方式的截面图。
33.图3是通过光学显微镜观察产生了褶皱的防反射结构体的表面时的图像。
34.图4是通过三维形状测定器观察产生了褶皱的防反射结构体和没有产生褶皱的防反射结构体的表面状态的图，(a)表示产生了褶皱的防反射结构体的表面状态，(b)表示没有产生褶皱的防反射结构体的表面状态。
35.图5是表示制造本发明的防反射结构体和本发明的带防反射结构体的基材的方法的一例的流程图，(a)示出了利用模具来成型防反射膜的状态，(b)示出了使露出的防反射膜的单面与设置于基材上的粘接层压接的工序，(c)示出了在使防反射膜与粘接剂压接的状态下照射能量射线的工序，(d)示出了使粘接剂固化后，去除模具及不需要的防反射膜的工序。
具体实施方式
36.以下，根据需要使用附图对本发明的实施方式的一例进行具体说明。需说明的是，对于图1、2和5中公开的各构件，为了便于说明，以与实际不同的比例尺和形状示意性地表示。
37.《防反射结构体》
38.首先，对本发明的防反射结构体的一个实施方式进行说明。
39.如图1所示，本发明的防反射结构体是至少具备粘接层20和形成于该粘接层20上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜30的防反射结构体10。
40.而且，本发明的防反射结构体10的特征在于，上述粘接层20的储能模量为25mpa以上，形成于上述防反射膜30的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期。
41.通过将上述防反射膜30的微细凹凸结构30的凹凸周期p设为可见光线的波长以下，能够实现薄膜化，并且实现高防反射性能。
42.进而，通过将上述粘接层20的储能模量增大至25mpa以上，即使在将具有微细凹凸结构的防反射膜30转印成型后，以内部应力高的状态存在于所形成的防反射膜30的情况下，通过上述粘接层20的增强性提高，也能够抑制由防反射膜30的内部应力引起的变形产生，其结果是，能够有效地抑制防反射结构体10的表面褶皱的产生。由此，关于防反射结构体10的外观性、防反射性能、透明性，也能够以高水平维持。
43.在此，图3示出了由于防反射膜的内部应力而在防反射结构体的表面产生的褶皱的状态的一例。在产生这样的褶皱的情况下，不仅损害防反射结构体的外观性，而且成为防反射性能、透明性恶化的原因。
44.在本发明的防反射结构体10中，能够抑制这样的褶皱产生，能够得到平滑的表面状态，其结果是，能够以高水平兼顾防反射性能和透明性。
45.另外，图4的(a)和(b)是利用三维形状测定器(株式会社日立高新技术制“vertscan”)观察防反射结构体的表面状态的图。
46.在以往的防反射结构体中，如图4的(a)所示，可知由于褶皱的产生而在表面形成了凹凸。这会导致防反射性能的恶化、透明性的降低。另一方面，在本发明的防反射结构体中，如图4的(b)所示，可知没有褶皱的产生，得到了平滑的表面。
47.(粘接层)
48.如图1所示，本发明的防反射结构体10具备上述粘接层20。
49.而且，在本发明的防反射结构体10中，从抑制表面褶皱产生的观点出发，上述粘接层20的储能模量(e’)需要为25mpa以上。
50.在上述粘接层20的储能模量e’小于25mpa的情况下，上述粘接性20的增强性降低，无法充分抑制由后述的防反射膜30保持的内部应力引起的褶皱产生。
51.从同样的观点出发，上述粘接层20的储能模量e’优选为60mpa以上，更优选为120mpa以上。
52.需说明的是，上述储能模量e’的测定可以使用动态粘弹性装置(例如(株)日立高新技术制“dms6100”等)，在频率：1hz、张力/压缩力：98mn、温度范围：-50～200℃、测定温度：40℃等条件下进行测定。
53.另外，从确保适度的弹性的观点、与防反射膜30和基材40的粘接性的观点出发，上述粘接层20的储能模量e’优选为2.1gpa以下，更优选为1gpa以下。
54.需说明的是，关于调整上述粘接层20的储能模量e’的方法，没有特别限定，可以通过公知的技术适当地进行调整。例如，通过调整构成上述粘接层20的树脂的种类、单体和低聚物的种类、聚合引发剂、添加剂的种类和含量、在使用紫外线固化性树脂作为材料的情况下紫外线的照射时间等，能够得到期望的储能模量e’。
55.在此，上述粘接层20为了将后述的防反射膜30与后述的基材10等其他构件接合而由粘接剂构成。需要使用不降低上述防反射结构体30的防反射性能、能够具有高储能模量e’(25mpa以上)的材料。
56.对具体的材料没有特别限定，从得到高储能模量e’的观点、制造性的观点出发，可以适当使用通过固化反应而固化的树脂组合物。其中，上述粘接层20优选由紫外线固化性粘接剂构成。这是因为，能够实现高接合性，并且能够得到高储能模量e’。关于上述紫外线固化性树脂，例如可列举紫外线固化性丙烯酸酯系树脂、紫外线固化性环氧系树脂等。
57.需说明的是，对于上述粘接层的形成方法没有特别限定。例如，在上述粘接层20是由紫外线固化性粘接剂构成的层的情况下，通过在使上述紫外线固化性粘接剂与后述的防反射膜30压接的状态下照射紫外线，能够形成粘接层20。
58.另外，关于上述粘接层20的形状，如图1所示，至少在与防反射膜30接触的面具有微细凹凸结构。关于上述粘接层20的微细凹凸结构，是根据后述的防反射膜30的微细凹凸而形成的，因此关于凹凸的形成间距、凹凸高度等条件，与后述的防反射膜30中说明的条件同样。
59.需说明的是，上述粘接层20的与防反射膜30接触的面的相反面通常是平坦的。但是，也可以根据上述粘接层20所接触的基材40的表面形状而适当变更。
60.进而，从防反射结构体10的薄膜化的观点出发，上述粘接层20的厚度t1优选变薄。具体而言，优选为30μm以下，更优选为10μm以下。
61.此外，从能够更可靠地抑制防反射结构体10的褶皱产生的观点出发，上述粘接层20的厚度t1优选为1μm以上，更优选为5μm以上。
62.另外，上述粘接层20的厚度t1相对于后述的防反射膜30的厚度t2的比(t1/t2)优选为5～300的范围，更优选为25～120的范围。通过使上述t1/t2为5以上，能够更可靠地抑制防反射结构体10的褶皱产生，另一方面，通过使上述t1/t2为300以下，能够更良好地维持薄膜性、防反射性能。
63.需说明的是，关于上述粘接层20的厚度t1及上述防反射膜30的厚度t2，如图1所示，分别设为在层叠方向上最厚的部分的厚度t1、t2。
64.(防反射膜)
65.如图1所示，本发明的防反射结构体10还具备在形成于上述粘接层20上的、两面具有微细凹凸结构(蛾眼结构)的防反射膜30。
66.而且，通过上述防反射膜30具有微细凹凸结构，能够抑制反射光的产生，能够提高防反射结构体10的防反射性能。
67.上述防反射结构体30的微细凹凸结构的凸部及凹部的条件没有特别限定。例如，如图1所示，可以周期性地(例如，锯齿格子状、矩形格子状)配置，另外，也可以无规地配置凹凸。进而，凸部和凹部的形状也没有特别限制，可以是炮弹型、锥体型、柱状、针状等。此外，凹部的形状是指由凹部的内壁形成的形状。
68.形成于上述防反射膜30的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下(例如830nm以下)的凹凸周期(凹凸间距)p。通过将上述微细凹凸结构的凹凸周期p设为可见光波长以下，换言之，通过将上述微细凹凸结构设为所谓的蛾眼结构，能够抑制可见光区域中的反射光产生，能够实现优异的防反射性能。
69.另外，关于上述凹凸周期p的上限，从能够更可靠地抑制可见光线的反射光的观点出发，优选为350nm以下，更优选为280nm以下。另外，关于上述凹凸周期p的下限，从制造性、能够更可靠地抑制可见光线的反射光的观点出发，优选为100nm以上，更优选为150nm以上。
70.在此，在上述防反射膜30的两面形成的微细凹凸结构的凹凸周期p是相邻的凸部间及凹部间的距离的算术平均值。在此，上述微细凹凸结构的凹凸周期p例如可以通过扫描型电子显微镜(sem)或截面透射型电子显微镜(截面tem)等进行观察。
71.另外，作为导出相邻的凸部间及凹部间的距离的算术平均值的方法，例如可列举如下方法：分别拾取多个相邻的凸部的组合和/或相邻的凹部的组合，测定构成各组合的凸部间的距离及凹部间的距离，并对测定值进行平均。
72.需说明的是，如图1所示，形成于上述防反射膜30的两面的微细凹凸结构的周期p可以均为相同的周期p，也可以为不同的周期。但是，即使在微细凹凸结构的周期p在各个面不同的情况下，也都需要设为可见光线的波长以下的凹凸周期。
73.另外，上述微细凹凸结构的平均凹凸高度(凹部的深度)h优选为190nm以上。这是因为，能够更可靠地得到优异的防反射性能。另外，从层叠体的薄膜化的观点出发，上述微细凹凸结构的平均凹凸高度p优选为320nm以下。
74.需说明的是，关于上述微细凹凸结构的凹凸高度h，如图1所示，是从凹部的底部到凸部的顶点的距离，关于平均凹凸高度，可以通过测定几个(例如5处)凹凸高度h并计算平均而得到。
75.另外，上述防反射结构体30的未形成微细凹凸结构的微细凹凸结构下的支撑部分的厚度没有特别限制，可以为10～9000nm程度。
76.另外，关于构成上述防反射膜30的材料，没有特别限定。例如为活性能量射线固化性树脂组合物(光固化性树脂组合物、电子射线固化性树脂组合物)、热固化性树脂组合物等通过固化反应而固化的树脂组合物，例如可列举含有聚合性化合物和聚合引发剂的树脂组合物。
77.作为聚合性化合物，例如可以使用：(i)使2摩尔以上比率的(甲基)丙烯酸或其衍生物与1摩尔的多元醇反应而得到的酯化物，(ii)由多元醇、多元羧酸或其酸酐和(甲基)丙烯酸或其衍生物得到的酯化物等。
78.作为上述(i)，可以列举：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸四氢糠酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、丙烯酰吗啉、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。
79.作为上述(ii)，可列举使三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇等多元醇与选自丙二酸、琥珀酸、己二酸、戊二酸、癸二酸、富马酸、衣康酸、马来酸酐等中的多元羧酸或其酸酐与(甲基)丙烯酸或其衍生物反应而得到的酯化物等。
80.这些聚合性化合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
81.进而，在上述树脂组合物为光固化性的情况下，作为光聚合引发剂，例如可列举：苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶酰、二苯甲酮、对甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、甲基苯基乙醛酸酯、乙基苯基乙醛酸酯、4,4
’‑
双(二甲基氨基)二苯甲酮、1-羟基-环己基-苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等羰基化合物，一硫化四甲基秋兰姆、二硫化四甲基秋兰姆等硫化合物，2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、苯甲酰基二乙氧基氧化膦等，可以使用它们中的一种以上。
82.在电子射线固化性的情况下,作为电子射线聚合引发剂，例如可列举二苯甲酮、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、叔丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮，二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-羟基环己基-苯基酮、2-甲基-2-吗啉代(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮等苯乙酮，苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚等苯偶姻醚，2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦，苯甲酰甲酸甲酯、1,7-双吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等，可以使用这些中的1种以上。
83.在热固化性的情况下，作为热聚合引发剂，例如可列举：过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二异丙苯、叔丁基过氧化氢、氢过氧化枯烯、过氧化辛酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰等有机过氧化物，偶氮二异丁腈等偶氮系化合物，在上述有机过氧化物中组合n,n-二甲基苯胺、n,n-二甲基-对甲苯胺等胺而得到的氧化还原聚合引发剂等。
84.这些光聚合引发剂、电子射线聚合引发剂、热聚合引发剂可以单独使用，也可以将它们根据需要组合使用。
85.另外，聚合引发剂的量相对于聚合性化合物100质量份优选为0.01～10质量份。若为这样的范围，则固化充分地进行，并且固化物的分子量变得适当而可得到充分的强度，另外，也不会产生由于聚合引发剂的残留物等而导致固化物着色等问题。
86.进而，在上述树脂组合物中，根据需要，可以包含非反应性的聚合物、活性能量射
线溶胶凝胶反应性成分，也可以包含增稠剂、流平剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、热稳定剂、溶剂、无机填料等各种添加剂。
87.另外，从防反射结构体10的薄膜化的观点出发，上述防反射膜30的厚度t2优选变薄。具体而言，优选为30μm以下，更优选为10μm以下。
88.此外，从能够更可靠地抑制防反射结构体10的褶皱产生的观点出发，上述防反射膜30的厚度t2优选为1μm以上，更优选为5μm以上。
89.需说明的是，对于用于制造本发明的防反射结构体10的方法，没有特别限定。例如，如图5的(a)～(d)所示，通过经制作防反射膜31的工序、使防反射膜31与粘接剂21压接的工序、照射能量射线的工序、去除模具和不需要的防反射膜的工序，能够得到具备粘接层20和形成于该粘接层20上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜30的防反射结构体10。
90.制作上述防反射膜31的工序是通过以在两面具有微细凹凸结构的方式成型防反射膜的材料后使其固化，从而制作防反射膜31的工序。
91.具体而言，例如如图5的(a)所示，通过利用模具100、100’从上下按压防反射膜的材料而将防反射膜的材料成型为在两面具有微细凹凸结构，然后使其固化，由此能够得到防反射膜31。另外，在利用上述模具100、100’从上下按压上述防反射膜的材料的工序中，通过调节按压时的压力，能够调整最终得到的防反射膜30的厚度。
92.在制作上述防反射膜31的工序中，以在两面具有微细凹凸结构的方式成型防反射膜的材料后，通过uv光等活性能量射线的照射使该材料固化，从而能够得到在两面具有微细凹凸结构的防反射膜31。需说明的是，上述活性能量射线的照射可以在与上述模具100、100’的按压相同的时机进行。
93.另外，在制作上述防反射膜31的工序中，从之后容易从上述防反射膜31剥离模具100、100’，得到更优异的上述防反射膜31的成型性的观点出发，如图5的(a)所示，也可以在防反射膜31与上述模具100、100’之间形成脱模处理层101、101’。
94.使上述防反射膜31与粘接剂21压接的工序是使露出的上述防反射膜31的单面与粘接剂21压接的工序。
95.具体而言，例如如图5的(b)所示，从如上述那样制作的防反射膜31除去单面的模具100’和脱模处理层101’，在仅使上述反射膜31的单面31a露出的状态下，与设置于基材40上的粘接剂21压接。由此，能够根据上述反射膜31的微细凹凸结构，在之后成为粘接层20的粘接剂21的表面形成微细凹凸结构。
96.照射上述能量射线的工序是在使上述防反射膜31的单面与上述粘接剂21压接的状态下照射能量射线的工序。
97.如图5的(c)所示，在使上述防反射膜31的单面与上述粘接剂21压接的状态下，通过照射能量射线，能够使上述粘接剂21固化，使上述粘接剂21与上述防反射膜31粘接。
98.关于上述能量射线的种类，可以根据粘接剂21的种类、所要求的粘接性能等适当选择。例如，作为上述能量射线，可以使用热、紫外线等光。
99.去除上述模具和不需要的防反射膜的工序是用于通过照射上述能量射线，使上述粘接剂21与上述防反射膜31粘接后(图5的(c))，去除上述模具100和不需要的反射膜31，从而得到期望的防反射结构体10的工序。
100.具体而言，例如如图5的(d)所示，通过去除未与上述模具100、上述脱模处理层101
及上述粘接剂21(粘接层20)粘接的防反射膜31(不需要的反射膜31)，能够得到具备粘接层20和形成于该粘接层20上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜30的防反射结构体10。
101.另外，对于所得到的防反射结构体10，也可以根据需要在其后进行清洗等处理。
102.《带防反射结构体的基材》
103.接着，对本发明的带防反射结构体的基材进行说明。
104.如图2所示，本发明的带防反射结构体的基材1具备基材40、形成于该基材40上的粘接层20和形成于该粘接层20上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜30。
105.而且，本发明的带防反射结构体的基材1的特征在于，上述粘接层20的储能模量为25mpa以上，形成于上述防反射膜30的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期。
106.如在本发明的防反射结构体10中说明的那样，通过将上述防反射膜30的微细凹凸结构30的凹凸周期p设为可见光线的波长以下，能够实现薄膜化，并且实现高防反射性能。另外，通过将上述粘接层20的储能模量增大至25mpa以上，从而即使在将具有微细凹凸结构的防反射膜30转印成型后，以内部应力高的状态存在于所形成的防反射膜30的情况下，通过上述粘接层20的增强性提高，也能够抑制由防反射膜30的内部应力引起的变形产生，其结果是，能够有效地抑制防反射结构体10的表面(进而带防反射结构体的基材1的表面)的褶皱产生。由此，带防反射结构体的基材1的外观性、防反射性能、透明性也能够以高水平维持。
107.需说明的是，关于本发明的带防反射结构体的基材1中的防反射结构体10，与上述本发明的防反射结构体10中说明的同样。
108.本发明的带防反射结构体的基材1除了上述防反射结构体10以外，还具备基材40。
109.上述基材40是在本发明的带防反射结构体的基材1中起到作为基板、支撑板的作用的构件。对于构成上述基材40的材料，没有特别限定，可以根据使用目的适当选择。
110.例如，作为上述基材40的材料，可列举玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、将它们的表面用任意的有机材料(聚酰亚胺等)涂覆而成的材料等。另外，上述显示板优选为透明。由于可用作液晶显示器、触摸面板等，因此是为了使光透过。
111.需说明的是，在本说明书中，“透明”是指属于可见光波段(约360nm～830nm)的波长的光的透射率高，例如是指该光的透射率为70％以上。
112.进而，关于上述基材40的形状，如图2所示，除了为板状以外，没有特别限定，可以根据带防反射结构体的基材1的使用目的适当选择。
113.另外，关于本发明的带防反射结构体的基材1的用途，没有特别限定，例如可以用作以相机模块、智能手机、平板pc等移动设备的显示器、平视显示器等为代表的影像投射装置的防尘罩等。
114.其中，上述带防反射结构体的基材1优选作为相机模块的部件使用。这是因为能够有效地发挥带防反射结构体的基材1的外观性、防反射性能和透明性。
115.《相机模块》
116.本发明的相机模块的特征在于，使用了上述带防反射结构体的基材1。通过使用带防反射结构体的基材1，能够以高水平维持防反射性能、透明性。
117.需说明的是，相机模块除了包含上述带防反射结构体的基材1作为部件以外，没有
特别限定，可以根据所要求的性能等适当具备其他部件。例如，除了上述带防反射结构体的基材1以外，可以进一步具备遮光膜(未图示)。
118.上述遮光膜是用于提高遮光性、即使在经薄膜化的上述基材40使光透过的情况下也遮断到达固体摄像元件的光的构件，可以设置在上述基材40上。
119.关于构成上述遮光膜的材料，没有特别限定，可以根据用途适当使用公知的遮光膜。
120.作为构成上述遮光膜的材料，例如可以使用在粘合剂树脂中含有遮光性粒子、填充材料、其他添加剂等的遮光膜用组合物。
121.关于上述粘合剂树脂，例如可列举(甲基)丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺、聚酯等，可列举(甲基)丙烯酸系树脂或聚氨酯系树脂等。关于这些树脂，也可以具有羧酸基、磺酸基、膦酸基、磷酸基、磺酰胺基等作为酸基。
122.另外，关于上述遮光性粒子，例如可列举炭黑、钛黑、钨化合物、锌白、铅白、锌钡白、氧化钛、氧化铬、氧化铁、沉降性硫酸钡及钡氧粉、铅丹、氧化铁红、铬黄、锌黄(锌黄1种、锌黄2种)、群青、普鲁士蓝(亚铁氰化钾)、锆石灰、镨黄、铬钛黄、铬绿、孔雀绿、维多利亚绿、铁蓝(与普鲁士蓝无关)、钒锆蓝、铬锡红、陶试红、橙红等无机颜料。另外，作为黑色颜料，也可以使用含有选自由co、cr、cu、mn、ru、fe、ni、sn、ti和ag组成的组中的1种或2种以上金属元素的金属氧化物、金属氮化物或它们的混合物等。
123.进而，关于上述遮光性粒子，例如也可以包含花青色素、酞菁色素、萘酞菁色素、亚胺鎓(immonium)色素、胺鎓色素、喹啉鎓色素、吡喃鎓色素或ni络合物色素等金属络合物色素等遮光性染料。
124.需说明的是，关于上述遮光膜组合物中的上述遮光性粒子的含量，没有特别限定，相对于全部固体成分，优选为30～70质量％，更优选为40～60质量％，进一步优选为45～55质量％。
125.另外，上述遮光膜用组合物可以根据需要含有填充材料、其他添加剂。关于填充材料，只要提高反射率就没有特别限定，例如可以使用有机填料、无机填料、无机-有机复合填料。
126.作为上述有机填料，例如可列举合成树脂粒子、天然高分子粒子等，优选可列举丙烯酸树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚氨酯、聚脲、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、羧甲基纤维素、明胶、淀粉、甲壳素、壳聚糖等树脂粒子。
127.作为上述无机填料，可列举金属和金属化合物，例如二氧化硅、云母化合物、玻璃、氧化锌、氧化铝、氧化锆、氧化锡、钛酸钾、钛酸锶、硼酸铝、氧化镁、硼酸镁、氢氧化铝、氢氧化镁、氢氧化钙、氢氧化钛、碱性硫酸镁、碳酸钙、碳酸镁、硫酸钙、硫酸镁、硅酸钙、硅酸镁、磷酸钙、氮化硅、氮化钛、氮化铝、碳化硅、碳化钛、硫化锌和它们中的至少2种以上的复合化物等。
128.关于上述其他添加剂，例如可列举聚合性化合物、聚合引发剂、分散剂、敏化剂、交联剂效果促进剂、表面活性剂等公知的添加剂。
129.《信息终端设备》
130.本发明的信息终端设备是搭载相机模块的信息终端设备，其特征在于，相机模块
是上述本发明的相机模块。
131.根据本发明的信息终端设备，在拍摄静态图像、动态图像时，能够抑制光的反射，抑制在所得到的拍摄图像中产生颜色不均等。另外，由于在带防反射结构体的基材1中的防反射结构体20的表面也不会产生褶皱，因此不会使拍摄图像的透明性、颜色不均发生恶化。其结果是，能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像。
132.在此，关于上述信息终端设备，没有特别限定，例如可列举数码相机、智能手机、个人计算机、便携式游戏机、电视机、摄像机等。
133.实施例
134.接着，基于实施例对本发明进行具体说明。但是，本发明不受下述实施例的任何限定。
135.(实施例1～5、比较例1～5)
136.如图2所示，在厚度1.0mm的玻璃基材(松浪硝子工业(株)制“载玻片s1127”)40上形成具有表1所示的储能模量e’(mpa)、厚度t1为9μm的粘接层20，在该粘接层20上形成具有微细凹凸结构的防反射膜30，从而制作成为各实施例和比较例的样品的带防反射结构体的基材1。
137.在此，关于防反射膜30，将东亚合成(株)制“uvx-6366”(以季戊四醇四丙烯酸酯为主剂的硬涂用树脂)和东亚合成(株)制“m-240”(聚乙二醇二丙烯酸酯)以7：3的比例混合后，添加2质量％的作为紫外线固化引发剂的basf公司制“irgacure184”(1-羟基环己基苯基酮)，将所得的组合物成型，利用平面型准分子灯(滨松光子(株)“ex-400”)照射紫外线10秒，由此形成了形成有微细凹凸结构的膜。需说明的是，防反射膜31的形成如图5的(a)所示，使用模具100、100’(东洋纺(株)制“a4300pet film”、厚度：125μm)进行成型，在模具100、100’与防反射膜31之间，通过溅射分别形成si膜或ito膜作为脱模处理层101、101’后，在设置涂布有脱模剂(3m公司制“novec1720”)的层的状态下，进行紫外线照射。而且，所形成的防反射膜30的微细凹凸结构的凹凸周期p为190nm，凹凸高度h为225nm，厚度t2为1μm。
138.另外，对于所制作的防反射膜31，如图5的(b)～(d)所示，在使防反射膜31的一个面露出(图5的(b))后，在与粘接剂21(材料参照表1。)压接的状态下，利用平面型准分子灯(滨松光子(株)“ex-400”)照射10秒紫外线(图5的(c))，然后，除去不需要的防反射膜31(图5的(d))，从而在粘接层20上形成防反射膜30。
139.(评价)
140.对各实施例和各比较例中得到的层叠体的各样品进行以下的评价。将评价结果示于表1。
141.(1)粘接层的储能模量
142.关于各样品的粘接层中使用的材料的储能模量，在与粘接层的形成相同的条件(使用相同的材料，相同的紫外线的照射条件)下，制作厚度200μm、宽度5mm、长度40mm的试验片后，使用动态粘弹性装置((株)日立高新技术制“dms6100”等)，在频率：1hz、张力/压缩力：98mn、温度范围：-50～200℃的条件下测定40℃时的储能模量(mpa)。将测定结果示于表1。
143.(2)褶皱的产生
144.对于各样品的带防反射结构体的基材，制作后，在常温时间下放置72小时后，利用
光学显微镜(10倍)及三维形状测定器(株式会社日立高新技术制“vertscan”)观察表面，确认有无由防反射膜的固化收缩引起的褶皱产生。按照以下的基准对确认结果进行评价，将评价结果示于表1。
145.○
：未确认到由防反射膜的固化收缩引起的褶皱产生
146.×
：确认到由防反射膜的固化收缩引起的褶皱产生
147.(3)粘接层与基材的粘接性
148.对于各样品的带防反射结构体的基材，在制作后，通过目视和横切法(jis-k-5600)确认粘接层是否粘接于玻璃基材。按照以下的基准对确认结果进行评价，将评价结果示于表1。
149.○
：以作为产品没有问题的水平粘接
×
：无法粘接
150.[表1]
[0151]
[0152]
*1对于粘接剂1～10的成分，使用以下的紫外线固化性树脂。
[0153]
粘接剂1：东亚合成(株)制“bu-333v”[0154]
粘接剂2：将东亚合成(株)制“bu-333v”和东亚合成(株)制“m-305”以质量比95∶5混合而成的粘接剂
[0155]
粘接剂3：东亚合成(株)制“uvx-5800”[0156]
粘接剂4：东亚合成(株)制“lcr-0632”[0157]
粘接剂5：将东亚合成(株)制“lcr-0632”和东亚合成(株)制“m-5400”以质量比70：30混合而成的粘接剂
[0158]
粘接剂6：将东亚合成(株)制“lcr-0632”和东亚合成(株)制“m-5400”以质量比50：50混合而成的粘接剂
[0159]
粘接剂7：(株)三键制“tb3021”[0160]
粘接剂8：(株)三键制“tb3042”[0161]
粘接剂9：迪睿合(株)制“sa1110”[0162]
粘接剂10：将东亚合成(株)制“uvx-6366”和东亚合成(株)制“m-240”以质量比60：40混合而成的粘接剂
[0163]
由表1可知，对于本发明范围所包含的实施例1～5的样品，表面未产生褶皱，基材与粘接层的粘接性也没有问题。
[0164]
产业上的可利用性
[0165]
根据本发明，能够提供防反射性能和透明性优异、减少了表面的褶皱产生的防反射结构体、带防反射结构体的基材。另外，根据本发明，使用上述带防反射结构体的基材，能够提供防反射性能和透明性优异的相机模块以及能够得到视觉辨认性、画质优异的拍摄图像的信息终端设备。
[0166]
符号说明
[0167]
1：带防反射结构体的基材，10：防反射结构体，20：接着层，21：粘接剂，30、31：防反射膜，40：基材，100、100’：模具，101、101’：脱模处理层，t1：粘接层的厚度，t2：防反射膜的厚度，p：防反射膜中的微细凹凸结构的凹凸周期，h：防反射膜中的微细凹凸结构的凹凸高度。