专利名称：一次曝光微型景像合成机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种景像合成装置，属于特技摄影专用附件。
ZL92235653．X公开了一种二次曝光摄影合成装置，是由罩体和二块装于前端的遮光板组成，其中一块板的任意部位设有透光部分，另一块板相应部位设有遮光部分，分别使用两块板曝光两次，就可达到特技摄影效果。这种摄影装置要在同一张底片上曝光两次，因此操作繁琐，不易掌握，失败率高。
ZL93241263．7提供的景像合成装置是在相机与被摄物之间顺序设置了布景图、平面镜和凹透镜，并且使凹透镜位置与布景图和平面镜上的摄影孔位置相一致。摄影时，布景图映射在平面镜内，与凹透镜内的被摄物合为一体，构成景像合成图。该装置巧妙地利用了平面镜成像原理，使一次曝光合成景像成为可能。但是该装置的不足之处是必须在布景图上开一个洞作为摄影孔，由于每张布景图只允许有一个摄影孔，使得每张布景图上的人像位置固定，不能摄出人像位于布景图上不同位置的合成照片来。另外，实践中发现摄影孔的大小对于景像合成的效果有很大的影响，如果摄影孔大小选择不适当，就会出现遮挡镜头，造成部分底片不曝光或者布景图孔与平面镜孔不相吻合等现象。
本实用新型的目的是对背景技术中的一次曝光景像合成装置进行改进，提供一种合成效果更佳、使用更加方便的一次曝光微型景像合成机。
本实用新型的景像合成机包括有机壳2、凹透镜3、凸透镜4、平面镜5、机盖8和布景图9。在机壳2前端的开孔活动镶嵌有凹透镜3，后端开孔活动镶嵌有凸透镜4，平面镜5倾斜放置在机壳内，镜面向上并面向凸透镜，在平面镜的任意部位开有一个摄影孔。布景图9图案向下水平放置在机壳2的上部，其上盖有机盖8。
在机壳内布景图的下面还可安装一个灯泡7用于照亮布景图以便起观察作用，布景图下机壳内前后两边对应各设有一个闪光管10，用作布景图的摄影光源。平面镜5的倾斜角度为45°。
与
背景技术：
相比，本实用新型改变了光路系统的配制，大大缩小了合成机的体积，使其使用和携带更加方便。同时，本实用新型不必在布景图上开孔，只需更换不同开孔位置的平面镜，就可摄出人像位于布景图上不同位置的合成照片来，提高了布景图的利用率。
图1是本实用新型一次曝光微型景像合成机的剖视图。
以下结合附图对本实用新型的实施例作进一步的详细说明如
图1所示，在景像合成机机壳2的前后两端各开一孔，前端开孔活动镶嵌有一块凹透镜3，后端开孔活动镶嵌有一块凸透镜4，机壳内呈45°倾斜放置有一块平面镜5，该平面镜镜面向上并对着凸透镜，平面镜的任意部位开有一个摄影孔。机壳的一侧开有一条狭缝，用于更换摄影孔位置不同的平面镜。机壳2上部有机盖8，机盖8下面水平放置有布景图9并图案向下。在布景图的下部还有一个灯泡7，用于将布景图图案清晰地映照在平面镜上以便于观察。布景图下机壳内前后两边对应各设有一个闪光管10，用作布景图的摄影光源。摄影时，镜头对着凸透镜4，布景图图案映射在平面镜5上，通过凹透镜3和平面镜5上的摄影孔将人像与布景图显现在一个画面中，一次曝光即可合成一张特技照片。
出于合成机其它辅助功能的考虑，在机壳前凹透镜上部可以安装一台闪光灯1，后部安装一台电压表6用于调节闪光灯电压。
权利要求1．一次曝光微型景像合成机，包括有机壳(2)、凹透镜(3)、凸透镜(4)、平面镜(5)、机盖(8)和布景图(9)，其特征是机壳(2)的前端开孔活动镶嵌有凹透镜(3)，后端开孔活动镶嵌有凸透镜(4)；布景图(9)图案向下水平放置在机壳(2)上部机盖(8)的下面；平面镜(5)倾斜放置在机壳(2)内，镜面向上并面对凸透镜(4)，在平面镜(5)的任意部位开摄影孔。
2．根据权利要求1所述的一次曝光微型景像合成机，其特征是所述平面镜倾斜角度为45°。
3．根据权利要求1或2所述的一次曝光微型景像合成机，其特征是在机壳内设置有灯泡(7)。
4．根据权利要求1或2所述的一次曝光微型景像合成机，其特征是在机壳内前后两边对应各设有一个闪光管(10)。
专利摘要一次曝光微型景像合成机,在机壳的前后端分别设有凹透镜和凸透镜,机壳内倾斜放置任意部位开孔的平面镜,布景图图案向下水平放置在机壳上部。该景像合成机体积小、结构合理、布景图利用率高、使用携带方便。
文档编号G03B15/08GK2303317SQ9720152
公开日1999年1月6日 申请日期1997年2月28日 优先权日1997年2月28日
发明者焦尚财 申请人:焦尚财