光罩制作过程中的参数优化方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于光罩制作技术领域，涉及一种光罩制作过程中的参数优化方法。
【背景技术】
[0002] 光罩（Mask)在制程过程中需要经过曝光、显影、蚀刻及除胶等过程，而这些过程 对于产品精度的均匀性、最小线缝线宽值、线条的形状等影响很大。
[0003] 对于Mask产品的影响有很多因素，例如：聚焦（Foucs)大小、能量（Dose)大小、关 键尺寸（CriticalDimension，⑶）补正值、显影（Develop)时间及蚀刻（Etch)时间等等， 每一个参数的改变都会影响产品最终的精度和线条质量。而通常对这些参数的设定都是基 于供应商所提供的数值，但是在更多情况下，由于来料原材光刻胶厚度、质量、性能的不确 定性，且经常需要测试使用新的光刻胶原材，设备本身随着时间的变化而微弱的变化、无尘 车间温度湿度的变化以及制程时人为的不确定因素等，最终导致光罩产品的质量不能达到 预期的要求。所以光罩研宄人员需要及时的根据具体情况对设备本身以及制程的工艺参数 进行有力的调节，然而对这些工艺参数的调节现在基本上都是通过大量重复性的实验来得 出最终新产品的最佳的工艺参数，既费时又费力，并不能在有限的时间内到达目的。
【发明内容】
[0004] 本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种光罩制作过程中的参数优化方 法，对光罩产品各种影响因素进行罗列分析，从而快速有效地确定出最佳的工艺参数组合， 提高光罩的精度。
[0005] 为了解决上述技术问题，本发明实施例提出了一种光罩制作过程中的参数优化方 法，所述方法包括：
[0006] 参数选取步骤：选取至少3种影响光罩品质的参数，每种参数赋予预定数目个参 数值，以构成实验用正交表，其他参数保持固定不变；
[0007] 实验步骤：根据所述正交表进行实验获得实验结果，并对每次实验的结果进行参 数设计，求出每个参数在不同取值时的平均信噪比值即S/N;及
[0008] 绘图步骤：根据所述S/N绘制S/N效应图，通过所述S/N效应图分析预测出优化参 数组合。
[0009] 进一步地，所述绘图步骤之后还包括：
[0010] 验证步骤：进行实验验证所述参数组合是否最佳。
[0011] 进一步地，所述方法采用如下公式进行参数取值优劣的判断：
[0012]
【主权项】
1. 一种光罩制作过程中的参数优化方法，其特征在于，所述方法包括： 参数选取步骤：选取至少3种影响光罩品质的参数，每种参数赋予预定数目个参数值， 以构成实验用正交表，其他参数保持固定不变； 实验步骤：根据所述正交表进行实验获得实验结果，并对每次实验的结果进行参数设 计，求出每个参数在不同取值时的平均信噪比值即S/N;及 绘图步骤：根据所述S/N绘制S/N效应图，通过所述S/N效应图分析预测出优化参数组 合。
2. 如权利要求1所述的参数优化方法，其特征在于，所述绘图步骤之后还包括： 验证步骤：进行实验验证所述参数组合是否最佳。
3. 如权利要求1所述的参数优化方法，其特征在于，所述方法采用如下公式进行参数 取值优劣的判断：
其中，S2代表对多组实验结果的平方和求平均值，n代表实验重复次数，n = 1、2、3…，yn表实验结果；S/N为信噪比即所述平均值S2的倒数；l〇g(S/N)代表对信噪比求对数；n 代表S/N无量纲化后的实验结果，通过n的大小判断实验个各项参数取值的优劣。
4. 如权利要求1所述的参数优化方法，其特征在于，参数选取步骤中每组参数进行一 次实验，一次实验至少测量2组线缝值作为最终该组实验的结果。
5. 如权利要求1所述的参数优化方法，其特征在于，参数选取步骤中所选取的影响光 罩品质的参数为能量值、关键尺寸补正值、显影时间及蚀刻时间中的至少3种，每种参数赋 予至少3个参数值，保持固定不变的其他参数至少包括聚焦值、显影液浓度。
6. 如权利要求5所述的参数优化方法，其特征在于，参数选取步骤中所选取的影响光 罩品质的参数为能量值、关键尺寸补正值、显影时间及蚀刻时间共4种，每种参数赋予5个 参数值。
7. 如权利要求1所述的参数优化方法，其特征在于，所述实验步骤至少进行曝光、显 影、蚀刻及除胶操作。
8. 如权利要求1至7中任一项所述的参数优化方法，其特征在于，所述方法对应的实验 对象为AZ型光刻胶大小为5寸的苏打原材。
【专利摘要】本发明实施例公开了一种光罩制作过程中的参数优化方法，包括参数选取步骤：选取至少3种影响光罩品质的参数，每种参数赋予预定数目个参数值，以构成实验用正交表，其他参数保持固定不变；实验步骤：根据所述正交表进行实验获得实验结果，并对每次实验的结果进行参数设计，求出每个参数在不同取值时的平均信噪比值即S/N；及绘图步骤：根据所述S/N绘制S/N？效应图，通过所述S/N？效应图分析预测出优化参数组合。本发明实施例利用正交表来挑选具有代表性的实验参数组合进行实验，以对多个主要影响光罩产品精度的参数进行优化，并确定最佳的工艺参数组合，具有优化方法简单、快速及有效的特点，大大提高了光罩产品的制作精度。
【IPC分类】G03F1-00, G03F1-38
【公开号】CN104570583
【申请号】CN201410815064
【发明人】杜武兵, 林伟
【申请人】深圳市路维光电股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月24日