一种光刻机工件台及其垂向位置初始化方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及半导体制造技术领域，更进一步地，涉及一种光刻机工件台及其垂向 位置初始化方法。
【背景技术】
[0002] 光刻机用于将掩模的图形复制到娃片或玻璃基板上。工件台携带娃片或玻璃基板 水平向与掩模台同步运动，垂向根据调焦调平系统（FLS)的设定值实现调焦调平运动。工件 台运动误差直接影响投影物镜的成像性能。为降低垂向调焦调平误差，工件台垂向采用低 刚度的重力补偿器支撑垂向运动模块，W隔离基座传递到垂向模块的低频振动。典型的低 刚度重力补偿器设计如专利CN201010571517. 8。典型的工件台如专利CN201010618373. 7。
[0003] 在专利CN201010618373. 7所示的工件台中，垂向采用相对光栅尺反馈控制工件 台实现精确定位，但是其垂向零位的建立依赖于初始化过程中的回零流程。垂向回零之前， 工件台垂向的初始位置由重力补偿器保证。然而，重力补偿器采用压力环路控制，缺乏位置 反馈环路，初始位置极易受气源压力波动及负载扰动的影响。重力补偿器的刚度越低，气源 的压力波动和负载的直接扰动导致的工件台垂向初始位置相对零位的偏移也越大。
[0004] 垂向初始位置漂移较大，导致如下问题；（1)工件台圆环气浮轴承产生气振，造成 工件台初始化失败；（2)初始化过程中，垂向回零误差较大，工件台相对整机的零位偏差较 大；（3)初始化后垂向的运动精度超差。
[0005] 测试数据显示，工件台垂向偏移达0. 3mm，而允许的偏移为0. 1mm。通过增大压力 阀的控制精度可W缓解，但是无法从根源上消除。目前垂向位置偏移的问题是工件台可靠 性不足的首要因素。垂向初始位置偏移的根源是工件台垂向缺乏绝对的零位基准。
【发明内容】
[0006] 为了克服现有技术中的缺陷，本发明在现有工件台上增加了垂向位置的零位基 准，同时描述了垂向位置初始化的流程。
[0007] 本发明提出一种光刻机工件台，包括水平向模块、微动模块、预对准模块和衬底交 接模块，其特征在于：所述微动模块包括多个重力补偿器，多个绝对位置传感器，多个光栅 尺传感器W及微动板；所述多个绝对位置传感器用于工件台的垂向位置回零；所述多个光 栅尺传感器用于工件台的垂向伺服控制。
[0008] 较优地，还包括位置传感器反馈控制回路，所述位置传感器反馈控制回路反馈所 述绝对位置传感器的测量值，控制所述重力补偿器压力，使所述微动板的位置调整到给定 范围内。
[0009] 较优地，还包括切换器，实现光栅尺反馈控制回路和所述位置传感器控制环路的 控制切换。
[0010] 较优地，所述绝对位置传感器为电润流位置传感器。
[0011] 本发明还提出一种光刻机工件台的垂向位置初始化方法，其特征在于，包括如下 步骤： 1) 垂向初始位置判断； 2) 调整重力补偿器压力； 3) 采用光栅尺反馈实现垂向电机闭环控制； 4) 垂向搜零； 5) 调整零位偏差。
[0012] 其中，所述步骤1)垂向初始化位置判断方法为比较位置传感器测量值与设定值的 差是否小于阔值。
[0013] 其中，所述步骤2)调整重力补偿器压力是根据重力补偿器所在位置与设定值的差 乘W比例系数作为调整压力。
[0014] 在本发明的另一个实施例中，提出了一种光刻机工件台的垂向位置初始化方法， 其特征在于，包括如下步骤： 1) 位置传感器反馈控制回路控制调整重力补偿器压力； 2) 微动板的位置调整到给定范围内； 3) 采用光栅尺反馈实现垂向电机闭环控制； 4) 垂向搜零； 5) 调整零位偏差。
[0015] 在本发明的再一个实施例中，提出了一种光刻机工件台的垂向位置初始化方法， 其特征在于，包括如下步骤： 1) 位置传感器反馈控制回路闭环控制垂向电机； 2) 微动板的位置调整到给定范围内； 3) 光栅尺传感器清零； 4) 切换到光栅尺闭环控制垂向电机回路。
[0016] 较优地，位置传感器控制回路带宽范围mz^20Hz，光栅尺控制回路带宽 30Hz^00Hz。
[0017] 本发明提出的一种光刻机工件台及其垂向位置初始化方法，提高了工件台相对整 机的垂向零位稳定性，解决了由于垂向回零不准导致的工件台垂向运动精度差的可靠性不 足的问题，同时还为光栅尺垂向装调过程带来了便利。
【附图说明】
[0018] 关于本发明的优点与精神可W通过W下的发明详述及所附图式得到进一步的了 解。
[0019]图1为本发明光刻机工作台结构示意图； 图2为本发明光刻机工件台微动模块机构示意图； 图3为本发明光刻机工件台垂向位置初始化方法图； 图4为本发明光刻机工件台垂向位置初始化控制方法图； 图5为本发明第二实施例光刻机工件台垂向位置回零方法图； 图6为本发明第二实施例光刻机工件台垂向位置回零控制方法图； 图7为本发明第H实施例光刻机工件台垂向位置回零方法图。
【具体实施方式】
[0020] 下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。
[0021] 如图1所示，图1为本发明光刻机工作台结构示意图。本发明光刻机工件台包括 长行程运动模块100、微动模块200、预对准旋转模块300和衬底交接模块400。长行程运 动模块100包括X向导轨、X向滑块、X向驱动电机、Y向导轨、Y向滑块、Y向电机、反力外 引等组件，用于实现水平向大范围定位。预对准旋转模块400包括；预对准电机、光栅尺、导 向滚轮及转盘等。衬底交接模块400包括支撑点组件、真空组件等。
[0022] 微动模块200结构如图2所示，包括：底座201、重力补偿器202、垂向电机203、垂 向光栅尺204、电润流传感器205、化电机206、化光栅尺207、长条镜208、圆形气浮209、微 动板210、化电润流传感器211。电润流传感器205、211在本发明中用于实现底座201和 微动板210之间绝对位置测量的传感器，使用时无需重新建立零位，典型如电润流传感器、 LVDT传感器、线性差分传感器等，在本发明中不局限于电润流传感器，但是为描述方便，仅 仅W电润流传感器为例。光栅尺204、207用于实现底座201和微动板210之间相对位置测 量的传感器，其零位需要重新标定，典型的如激光干涉仪、激光尺、相对光栅尺等，在本发明 中不局限于光栅尺但是为描述方便，仅仅W光栅尺为例。
[0023] 重力补偿器202包括：T4个组成，用于支撑微动板210的重力，其水平向和垂向具 有极低的刚度。圆形气浮209用于微动板210垂向和化的运动导向。圆形气浮结构上包 括分体式和一体式结构。圆形气浮209和重力补偿器202的组合使用后，微动板210的Z 向固有频率和化的固有频率在15化W内。垂向光栅尺204包括3个光栅尺204-U204-2、 204-3,用于实现Z、Rx、Ry位置测量。垂向电机203包括3个电机203-1、203-2、203-3，用 于实现垂向Z、Rx、Ry的驱动力。化光栅尺207包括207-1和207-2,当然也可W只用1个 光栅尺，用于测量化的位置。化电润流传感器211用于测量微动板的化绝对位置，可W对 称布置2个或只布置1个。化电机208包括208-1和208-2,两个电机成对称布置，形成力 偶驱动微动板210作化旋转运动。电润流传感器205包括3个205-1、205-2、205-3,用于 测量Z、Rx、Ry的绝对位置。
[0024] 垂向光栅尺204受限于尺寸一般选用高精度的相对光栅尺传感器。典型的相对光 栅尺测量分辨率达到5nnT50nm。但是相对光栅尺的垂向零位建立需要通过搜零来实现。而 一旦垂向初始姿态偏离零位太大，则会导致垂向回零不准确，甚至导致搜零搜不到。
[0025] 重力补偿器202 -般采用比例压力阀控制。在垂向回零之前，微动板210的垂向 初始位置受限于比压阀的控制精度及微动板的扰动大小。比压阀的控制精度往往受气源波 动影响较大。重力补偿器支撑微动板210时，其垂向初始姿态难W保证，直接影响垂向初始 化及回零过程可靠性。
[0026] 电润流传感器205用于测量微动板210的垂向的绝对位置。其测量精度在 0.广lOum之间。W电润流传感器205测量得到的微动板的绝对位置，反馈调整重力补偿器 202气压大小，使得微动