具有线宽变化的导电层的显示面板的制作方法

文档序号:9260805阅读:394来源:国知局
具有线宽变化的导电层的显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种显示面板,且特别是涉及一种具有线宽变化的导电层的显示面板。
【背景技术】
[0002]具显示面板的电子产品已是现代人不论在工作处理学习上、或是个人休闲娱乐上,不可或缺的必需品,包括智能型手机(SmartPhone)、平板电脑(Pad)、笔记本电脑(Notebook)、显不器(Monitor)到电视(TV)等许多相关广品。其中又以液晶显不面板最为普遍。由于液晶显示面板在绝大多数应用上具有更简洁、更轻盈、可携带、更低价、更高可靠度、以及让眼睛更舒适的功能,已经广泛地取代了阴极射线管显示器(CRT),成为最广泛使用的显示器,同时提供多样性包括尺寸、形状、分辨率等多种选择。
[0003]显示面板在制作时除了需注意制作工艺上的细节,例如进行导电层图案化时(如光刻和蚀刻)需精确以避免断线,其制得面板也需符合产品要求如电阻、电容等各项规格,使制得的面板具有稳定良好的电子特性。显示面板的设计不良,将造成面板良率下降和可靠度降低的问题。

【发明内容】

[0004]为解决上述问题,本发明的目的在于提供一种显示面板,其导电层对应于和非对应于下方元件的不同高度处具有不同线宽。通过特殊的线宽变化设计,使导电层在图案化步骤后可具有良好宽度,不易因过度蚀刻而断线,并可控制导电层重叠处所产生的寄生电容避免过大,进而提闻广品的良率和电性。
[0005]根据本发明,提出一种显不面板,包括一第一基板、与第一基板相对设置的一第二基板、和位于第一基板与第二基板之间的一显示层。第一基板包括位于第一基板上且沿一第一方向延伸的一导电层,导电层沿第一方向依序为位于一第一高度的一第一平面、一斜面及位于一第二高度的第二平面,第一高度大于第二高度。其中,导电层的第一平面邻近斜面沿一第二方向具有一第一线宽,导电层的斜面沿第二方向具有一第二线宽,第二方向垂直于第一方向,第一线宽小于第二线宽。
[0006]根据本发明,再提出一种显不面板,包括一第一基板、与第一基板相对设置的一第二基板、和位于第一基板与第二基板之间的一显不层。第一基板包括一基材;一第一导电层位于基材上方且沿一第二方向延伸,第一导电层于第二方向具有一第一边缘;以及一第二导电层位于第一导电层上方且沿第一方向延伸。第二导电层具有与第一导电层重叠的一第一部分、未与第一导电层重叠的一第二部分及一交界连接第一部分与第二部分。其中,第一部分于交界沿第二方向具有一第一宽度,第二部分于交界沿第二方向具有一第二宽度,第一宽度小于第二宽度。
[0007]为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解,下文特举实施例,并配合所附附图,作详细说明如下:
【附图说明】
[0008]图1是一显示面板的侧视图;
[0009]图2是本发明第一实施例的一显示面板的导电层的局部侧视图;
[0010]图3A是本发明第一实施例的显示面板中第一种导电层态样的上视图;
[0011]图3B是本发明第一实施例的显示面板中第二种导电层态样的上视图;
[0012]图4是本发明第二实施例的一显示面板的导电层的局部侧视图;
[0013]图5A是本发明第二实施例的显示面板中第一种导电层态样的上视图;
[0014]图5B是本发明第二实施例的显示面板中第二种导电层态样的上视图;
[0015]图6是本发明第三实施例的一显示面板中的导电层的局部上视图。
[0016]符号说明
[0017]11:第一基板
[0018]110:第一基材
[0019]111、111’、M1:第一导电层
[0020]112:绝缘层
[0021]113、113’、Μ2:第二导电层、
[0022]114:第一中间层
[0023]115:第一透明导电层
[0024]12:第二基板
[0025]120:第二基材
[0026]123:彩色光致抗蚀剂层
[0027]125:第二透明导电层
[0028]13:液晶层
[0029]131:液晶分子
[0030]14a:第一偏光片
[0031]14b:第二偏光片
[0032]Dl:第一方向
[0033]D2:第二方向
[0034]Hl:第一高度
[0035]H2:第二高度
[0036]Pl:第一平面
[0037]P2:第二平面
[0038]S:斜面
[0039]Wl:第一线宽
[0040]W2:第二线宽
[0041]W3:第三线宽
[0042]W4:第四线宽
[0043]01:第一部分
[0044]02:第二部分
[0045]L1:第一边界
[0046]L2:第二边界
[0047]El:第一边缘
[0048]E2:交界
[0049]Al:第一线宽变化区
[0050]A2:第二线宽变化区
【具体实施方式】
[0051]本发明的实施例提出一种显不面板,对于一导电层对应于和非对应于下方兀件的不同高度处,例如第二导电层与下方第一导电层的重叠处和非重叠处,设计不同的线宽。通过特殊的线宽变化设计,使导电层在图案化步骤后可具有良好宽度,不易因过度蚀刻而断线,并可控制上下两导电层其重叠处所产生的寄生电容避免过大,进而提高产品的良率和电性。
[0052]以下是参照所附的附图详细叙述实施态样。需注意的是,实施例所提出的结构和内容仅为举例说明之用,本发明欲保护的范围并非仅限于所述的该些态样。实施例中相同或类似的标号是用以标示相同或类似的部分。需注意的是,本发明并非显示出所有可能的实施例。可在不脱离本发明的精神和范围内对结构加以变化与修饰,以符合实际应用所需。因此,未于本发明提出的其他实施态样也可能可以应用。再者,附图已简化以利清楚说明实施例的内容,附图上的尺寸比例并非按照实际产品等比例绘制。因此,说明书和图示内容仅作叙述实施例之用,而非作为限缩本发明保护范围之用。
[0053]图1简示一显示面板的侧视图。以下提出如图1所示的相关结构作一实施例的说明,但此结构并非用以限制本发明的保护范围。显示面板包括一第一基板11、一第二基板12和一显不层13位于第一基板11和第二基板12之间。第一基板11和第二基板12例如分别是一薄膜晶体管基板(TFT substrate)和一彩色滤光片基板(CF substrate)。
[0054]如图1所示,一实施例的第一基板11例如是包括一第一基材110、一第一导电层111、一第二导电层113、位于第一和第二导电层之间的一绝缘层112、和一第一透明导电层115。其中,第一透明导电层115例如是一 ITO层用以做为像素电极,导电层具有多条图案化走线。第一基板11还包括多个TFT单元(图未示)形成于第一基材110上;一第一中间层114位于第一基材110和第一透明导电层115之间并覆盖图案化走线;和一第一配向膜(图未示)例如是聚酰亚胺(polyimide, PI)位于第一透明导电层115上。第一基板11的层结构与配置为本技术领域人员所周知,在此不多赘述。
[0055]如图1所示,一实施例的第二基板12包括一第二基材120、彩色光致抗蚀剂层123形成于第二基材120上与一第二透明导电层125于彩色光致抗蚀剂层123上。第二基板12例如还包括一第二配向膜(图未示)位于第二透明导电层125,和一遮光图案层(图未示,即一般所称的黑色矩阵BM)形成于第二基材120上。第二透明导电层125例如是一 ITO层。
[0056]一实施例中,显示面板还包括多个间隔物(spacers),第二基板12与第一基板11之间是通过该些间隔物的设置而维持实质上等距的间隔而令液晶分子填充其中而形成显不层13。在其他实施例中,显不层13也可为有机发光层。再者,一第一偏光片14a和一第二偏光片14b分别形成第一基材111和第二基材120的外侧。
[0057]实施例中,通过设计使同一条导电层,如位于TFT基板(第一基板11)的第二导电层113(如数据信号线),在
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