手机中摄像头的保护镜片及其加工工艺的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于机械技术领域，涉及一种手机中摄像头的保护镜片以及该手机中摄像 头的保护镜片的加工工艺。
【背景技术】
[0002] 手机作为无线通讯工具已经是人们日常生活中不可缺少的工具，时代发展，技术 的不断进步，人们以及更多的使用了智能手机(Smartphone )，它像个人电脑一样，具有独立 的操作系统，大多数是大屏机，而且是触摸电容屏，也有部分是电阻屏，功能强大实用性高。 可以由用户自行安装包括游戏等第三方服务商提供的程序，通过此类程序来不断对手机的 功能进行扩充。
[0003] 为了丰富手机的功能，现有的手机上基本都标配有摄像头。为了保护摄像头不受 到外界的干扰，通常在摄像头处安装有保护镜片。
[0004] 中国专利其公开号CN202889425U提供了一种摄像头密封装置，用于对移动通讯设 备的摄像头进行密封，该摄像头密封装置包括摄像头镜片、摄像头镜片背胶和摄像头密封 泡棉。摄像头镜片背胶将摄像头镜片与移动通讯设备的外壳相粘接。摄像头密封泡棉设置 于摄像头镜片背胶开口内，并间隔设置于摄像头镜片与摄像头之间。
[0005] 可以看出，上述装置解决了手机等移动通讯装置厚度较厚的技术问题，使移动通 信装置的厚度减小，便于携带。但是，它并没有提供如何保持防止镜面透光稳定以及干净的 问题。
[0006] 现有的其它摄像头镜片也都存在着类似的问题。
【发明内容】
[0007] 本发明的第一个目的是针对现有技术存在的上述问题，提供一种结构紧凑且稳定 性高的手机中摄像头的保护镜片。
[0008] 本发明的第二个目的是提供上述手机中摄像头的保护镜片的加工工艺。
[0009] 本发明的第一个目的可通过下列技术方案来实现：
[0010] -种手机中摄像头的保护镜片，包括为蓝宝石镜片的本体，所述本体呈片状，其特 征在于，所述本体的两侧分别固连一能减少光线反射的减反射层一和减反射层二，所述的 减反射层一用于与手机相联，所述减反射层二上还固连有防污层，上述的减反射层二位于 防污层与本体之间。
[0011] 蓝宝石镜片材料的本体两侧设置有减反射层一和减反射层二，有效的提高了光线 透过率。防污层的设置使得镜片出现灰尘、污物或者印迹时，很容易擦拭干净。
[0012] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述的减反射层一和减反射层二均通过胶 水固连在本体上。
[0013] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述的防污层通过胶水固连在减反射层二 上。
[0014] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述的减反射层一和减反射层二均为氧化 错月旲片。
[0015] 由于蓝宝石的主要材质也是氧化铝，这样使得减反射层一、二与本体的材质相近， 三者连接后稳固，不容易脱落。
[0016] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述减反射层一的层数为4一8层。
[0017] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述减反射层一的层数为7层。
[0018] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述减反射层二的层数为4一8层。
[0019] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述减反射层二的层数为7层。
[0020] 在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述减反射层一和减反层二的厚度相同， 所述减反射层一的厚度为200-300纳米。
[0021]在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述防污膜的层数为一层且防污层的厚度 为15-25纳米。
[0022]在上述的手机中摄像头的保护镜片中，所述的防污膜为高透防指纹AF膜。
[0023]高透防指纹AF膜，简称AF膜，使用台湾天雄研发的980AF-3材料，是目前市场极具 销售卖点的防指纹保护膜，解决了以前磨砂膜和高透膜的"鱼和熊掌不可兼得"的问题，既 能有效防指纹防油防灰尘，又具有非常高的透光率，没有磨砂膜那种雾面的感觉。
[0024]为达到上述目的，本发明采用了下列技术方案:本手机中摄像头的保护镜片加工 工艺包括如下步骤：
[0025] A、备料:制备蓝宝石本体、AL203材料、S i 02材料和AF材料；
[0026] B、抽真空:将蓝宝石本体放入镀膜腔体伞架中，关门抽真空，然后旋转工件盘，镀 膜腔体内在常温下抽真空且镀膜腔体内被抽真空后镀膜腔体内的真空度为8.0E_4Pa;工件 盘设置在镀膜腔体伞架内并与旋转驱动机构连接。旋转驱动机构为自动化驱动。
[0027] C、镀层:将AL203材料、Si02材料和AF材料分别放入相应的蒸发源中，蒸发源与镀 膜腔体连通，相应的蒸发源分别通过蒸发工艺依次将AL203材料、Si02材料和AF材料镀在蓝 宝石本体上，g卩，在蓝宝石本体上形成AL203材料镀膜层、Si02材料镀膜层和AF材料镀膜层， 制得蓝宝石成品；设置了 AL203材料镀膜层、Si02材料镀膜层和AF材料镀膜层能够使结构更 加紧凑，同时，进一步提高了牢靠度和防污能力。
[0028] AL203材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:AL203材料在常温和真空度为8.0E-4Pa 的条件下，通速率为ll/s进行蒸发，蒸发时间为90-llOs;
[0029] Si02材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:Si02材料在常温和真空度为8.0E_4Pa的 条件下，通速率为??/ S进行蒸发，蒸发时间为40-60S;
[0030] AF材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:AF材料在常温和真空度为8.0E-4Pa的条件 下，通速率为5A/s进行蒸发，蒸发时间为2〇-4〇 s<4为长度单位:埃;s为时间单位秒。
[0031] D、取料:入气开门，将制得蓝宝石成品取出。
[0032] 通过上述的工艺可以具有以下优点：
[0033] 1、操作时不会产生指纹、赃物、印迹；
[0034] 2、如果有灰尘、赃物、印迹出现在表面时，很容易擦拭干净；
[0035] 3、具有极强的抗划伤效果，莫氏硬度高达9H。
[0036] 4、提高了光线透过率，透过率T 2 98%以上，亮度增强，成像清晰。
[0037]在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的Α步骤中，所述的AL203 材料、Si02材料和AF材料均呈固态结构。
[0038]优化方案，在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，在 蓝宝石本体上形成AL203材料镀膜层后间隔lmin然后再在AL203材料镀膜层上形成Si02材 料镀膜层，AL203材料镀膜层上形成Si02材料镀膜层后间隔lmin然后再在Si02材料镀膜层 形成AF材料镀膜层。
[0039]在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，当将AL203材 料、Si02材料和AF材料分别放入相应的蒸发源中后，蒸发源内的相应电子枪打击所述的 AL203材料、Si02材料和AF材料，通过蒸发源使均呈固态的AL203材料、Si02材料和AF材料转 变为液态AL203材料、液态Si02材料与液态AF材料，然后又转变为气态AL203材料、气态Si02 材料与气态AF材料，再然后转变为液态AL203材料、液态Si02材料与液态AF材料，最后转变 为镀在蓝宝石本体上的AL203材料镀膜层、Si02材料镀膜层和AF材料镀膜层。
[0040] 在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，所述的AL203 材料镀膜层厚度为100 Λ。
[0041] 在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，所述的Si02材 料镀膜层厚度为50 A。
[0042]在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，所述的AF材料 镀膜层厚度为1δ〇
[0043]在上述的手机中摄像头的保护镜片加工工艺中，在上述的C步骤中，
[0044] AL203材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:AL203材料在常温和真空度为8.0E-4Pa 的条件下，通速率为lA/s进行蒸发，蒸发时间为100s;
[0045] Si02材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:Si02材料在常温和真空度为8.0E-4Pa的 条件下，通速率为1 A/ s进行蒸发，蒸发时间为50s;
[0046] AF材料镀膜层的具体蒸发工艺条件为:AF材料在常温和真空度为8.0E_4Pa的条件 下，通速率为5 A/ S进行蒸发，蒸发时间为30s。
[0047] 与现有技术相比，本手机中摄像头的保护镜片由于在本体的两侧都设置有减反射 膜一，因此，能有效的提高本镜片的光线透过率。
[0048] 同时，本镜片出现污物时也很容易擦拭干净。另外，氧化铝膜片的减反射膜还具有 极强的抗划伤效果，莫氏硬度能达到9H，具有很高的实用价值。
【附图说明】
[0049] 图1是本手机中摄像头的保护镜片的剖视结构示意图。
[0050] 图中，1、本体;2、减反射层一;3、减反射层二;4、防污层。
【具体实施方式】 [0051 ] 实施例一
[0052]如图1所示，本手机中摄像头的保护镜片包括为蓝宝石镜片的本体1，所述本体1呈 片状，所述本体1的两侧分别固连一能减少光线反射的减反射层一 2和减反射层二3,所述的 减反射层一 2用于与手机相联，所述减反射层二3上还固连有防污层4,上述的减反射层二3 位于防污层4与本体1之间。
[0053]当然，本体1、减反射层一2、减反射层二3和防污层4都是相匹配的，它们紧密的连 接在一起。
[0054]所述的减反射层一 2和减反射层二3均通过胶水固连在本体1上。
[0055] 所述的防污层4通过胶水固连在减反射层二3上。
[0056] 所述的减反射层一 2和减反射层二3均为氧化铝膜片。
[0057] 所述减反射层一 2的层数为7层，根据实际情况，减反射层一 2的层数为6层或者8层 也都是可行的。
[0058] 所述减反射层二3的层数为7层，根据实际情况，减反射层二3的层数为6层或者8层 也都是可行的
[0059] 所述减反射层一2和减反层二3的厚度相同，所述减反射层一2和减反层二3的厚度 都是235纳米，根据实际情况，200或者240纳米也都是可行的。
[0060] 所述防污膜4