专利名称：一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法
技术领域：
本发明涉及一种荫罩式等离子体显示屏的生产制造工艺，特别是一种掩模 荫罩与工作荫罩内壁荧光粉层涂敷的工艺，具体地说是一种底层垫掩模荫罩对 准喷涂的方法。
背景技术：
现有的荫罩式等离子体显示屏利用彩色阴极射线管CRT生产中常用的荫罩 来替代现有的离子体显示板PDP中制造工艺复杂的障壁。荫罩式等离子体显示 屏三基色荧光粉层依次按阵列涂敷在工作荫罩的内壁上，要实现这样有选择性 的涂敷，必须用掩模荫罩与工作荫罩配合。在垂直方向上掩膜荫罩和工作荫罩 的节距一致，而水平方向掩模荫罩节距是工作荫罩的三倍。当两张荫罩贴合并 将其中一色对准后，其它两色被遮挡住，这样就可实现选择性喷涂荧光粉层。 喷涂其它两色同理，只要将两张荫罩相对位置偏移一列即可。
掩模荫罩与工作荫罩是在0. 15mm厚的薄钢带上通过精密曝光刻蚀工艺而 形成的几十万至几百万个特定形状、特定排列的孔矩阵图形。要在这几十万至 几百万个特定形状、特定排列的小孔内壁上均匀涂敷一定厚度的三色荧光粉层 难度很大，现有的生产工艺是掩模荫罩与工作荫罩根据所需喷涂基色选择性 对准后直接吸附在喷涂吸附磁板框架上进行喷涂作业，这就可能出现两方面问 题 一是制作橡胶吸附磁板的磁粉材料在整张磁板的一些小区域存在分散不均 匀的现象，则在这些小区域就会相应出现磁场分布不均匀。荧光粉材料是由稀 土氧化物成分组成的，磁场对稀土氧化物中的一些金属元素会产生磁力作用， 这样磁场分布情况就会对由稀土氧化物成分组成的荧光粉浆料附着情况产生 影响。如果吸附磁场分布不均匀，则涂敷时荧光粉浆料的附着情况一致性也差。 二是雾化的浆料除了附着在掩模荫罩、工作荫罩内壁层和橡胶吸附磁板上之 外，再无其它空间可以附着。附着以外的浆料一部分可能向工作荫罩与橡胶吸 附磁板接触交界处的缝隙渗漏，造成工作荫罩小孔通气槽堵塞；另一部分动能大的雾化浆料在接触到到底部橡胶吸附磁板后会反向弹射出来，将之前已涂敷 形成的致密平滑的荧光粉层部分颗粒打掉，造成的后果是最终形成的荧光粉层 不致密、不平滑，且上粉量也有所降低，这对发光亮度及发光一致性都有较大 的不良影响。少量反弹的雾化浆料颗粒最终大部分都会散落在操作间的环境 中，这也会给操作人员的身心健康及相关作业设备带来一定的危害。因此，现 有的工作荫罩内壁层喷涂荧光粉的方法无法达到橡胶吸附磁板的磁粉分布均 匀、无法保证最终形成的荧光粉层致密、平滑，上粉量高，发光亮度和发光一 致性好，无法保证给操作人员以健康工作环境的要求，不能满足现有生产的需 要。
发明内容
本发明的目的是针对现有的大尺寸荫罩式等离子体显示屏三基色荧光粉 涂敷过程中由于吸附磁场分布不均匀而造成荧光粉附着一致性差、液态桨料向 工作荫罩小孔通气槽渗漏和少量动能大的雾化浆料反向弹射问题，提出一种底 层垫掩模荫罩对准喷涂的方法。
本发明的技术方案是
1、 一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法，其特征是它包括以下步骤
a. 在对准用玻璃平板、玻璃平板、工作荫罩、上层选色掩膜荫罩和底层 所垫掩模荫罩边框相应位置上均设置若干组定位孔，每组定位孔由三个对准孔 组成，三个对准孔之间的距离与工作荫罩网格孔中三原色之间的距离相匹配；
b. 将一块表面处理干净的对准用玻璃平板放在对准台支撑架上，底层所 垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色掩膜荫罩大孔面都朝上且对准孔位置点一致 依次放置在对准用玻璃平板上；
c. 六只对准锥销匹配插入预喷基色相应的对准孔中，取玻璃平板对准孔 匹配放置在三张荫罩的上方，放置后将六组对准锁紧装置装好，通过对准孔、 对准锥销和锁紧装置的共同作用，则底层所垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色 掩膜荫罩在对准用玻璃平板上完成对应基色选择性对准及锁紧过程；
d. 然后通过两次翻转，将底层所垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色掩膜 荫罩从对准用玻璃平板上转到喷涂吸附磁板框架上，此时底层所垫掩模荫罩、 工作荫罩、上层选色掩膜荫罩和橡胶吸附磁板完成对准、吸附过程；
4e. 将上述完成对准、吸附的底层所垫掩模荫罩、工作荫罩、上层选色掩 膜荫罩、橡胶吸附磁板和喷涂吸附磁板框架装入水幕箱内进行对应基色荧光粉 的喷涂、分离和烘干；
f. 工作荫罩烘干后重复步骤b e，直至三基色荧光粉全部完成喷涂、分 离和烘干，然后将喷涂好三基色荧光粉的工作荫罩流水至下道工序烧结。
2、本发明所述的底层所垫掩模荫罩和上层选色掩膜荫罩的外观、材质、 孔型尺寸和节距尺寸均一致即两张荫罩为同一种荫罩，且底层所垫掩模荫罩和 上层选色用掩膜荫罩均为纯铁材质。
本发明的有益效果
1、 本发明通过底层所垫掩模荫罩传导并均匀分布橡胶吸附磁板所形成的 磁场，由稀土氧化物成分组成的三色荧光粉浆料附着情况将随吸附磁场分布一 致性情况的改善而改善，特别是在某些磁场分布差别较大的小区域改善更为明 显，显著提高了最终形成的荧光粉层的附着一致性，改善了显示屏白场效果。
2、 本发明通过底层所垫掩模荫罩在橡胶吸附磁板与工作荫罩之间建立容 纳空间，在喷涂时多余的液态浆料可以在底层所垫掩模荫罩的槽孔空间内容 积，而不会直接通过工作荫罩与橡胶吸附磁板接触交接处的缝隙向工作荫罩小 孔面通气槽渗漏，有效保持了小孔通气槽通畅，可以显著提高后续抽排气工序 的效率。
3、 本发明通过底层所垫掩模荫罩在橡胶吸附磁板与工作荫罩之间建立容 纳空间，可减轻少量动能大的雾化浆料的反弹作用，浆料颗粒反弹数量减少既 利于保护已涂敷形成的荧光粉层不受破坏，又可以减轻对操作间环境的污染。
4、 本发明采用的底层所垫掩模荫罩与上层选色掩膜荫罩为同一种荫罩， 两种掩模荫罩都是可以回收使用的。因此底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法不会 增加生产成本，却可以提高了荫罩式等离子体显示屏的产品质量和生产效率。
图1是本发明的底层所垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色掩膜荫罩依次放 置的结构示意图。 ，
图2是本发明的底层所垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色掩膜荫罩在玻璃 平板上对准结构示意图。图3是本发明的底层所垫掩模荫罩、工作荫罩和上层选色掩膜荫罩在喷涂 吸附磁板框架上的结构示意图。
图4是采用本发明的方法对准喷涂后工作荫罩与掩模荫罩内壁荧光粉层附 着情况示意图。
图5是本发明的工作荫罩喷涂、烘干和分离后内壁荧光粉层附着情况示意图。
具体实施例方式
下面结合附图1-5和实施例对本发明作进一步说明。
一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法，它包括以下步骤
a. 在对准用玻璃平板l、玻璃平板、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3和 底层所垫掩模荫罩4边框相应位置上均设置若干组定位孔，每组定位孔由三个 对准孔5组成，三个对准孔5之间的距离与工作荫罩2网格孔中三原色之间的 距离相匹配；
b. 将一块表面处理干净的对准用玻璃平板1放在对准台支撑架上，底层 所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和上层选色掩膜荫罩3大孔面都朝上且对准孔位 置点一致依次放置在对准用玻璃平板1上；
c. 六只对准锥销6匹配插入预喷基色相应的对准孔5中，取玻璃平板对 准孔匹配放置在三张荫罩的上方，放置后将六组对准锁紧装置装好，通过对准 孔5、对准锥销6和锁紧装置的共同作用，则底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2 和上层选色掩膜荫罩3在对准用玻璃平板1上完成对应基色选择性对准及锁紧 过程；
d. 然后通过两次翻转180。程序，将底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和 上层选色掩膜荫罩3从对准用玻璃平板1上转到喷涂吸附磁板框架7上，此时 底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3和橡胶吸附磁板8完 成对准、吸附过程；
.e.将上述完成对准、吸附的底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色 掩膜荫罩3、橡胶吸附磁板8和喷涂吸附磁板框架7装入水幕箱内进行对应基 色荧光粉的喷涂、分离和烘干；
f.工作荫罩2烘干后重复步骤b e，直至三基色荧光粉全部完成喷涂、
6分离和烘干，然后将喷涂好三基色荧光粉的工作荫罩2流水至下道工序烧结。 本发明的底层所垫掩模荫罩4和上层选色掩膜荫罩3的外观、材质、孔型
尺寸和节距尺寸均一致即两张荫罩为同一种荫罩，且底层所垫掩模荫罩4和上
层选色用掩膜荫罩3均为纯铁材质。 具体实施时
首先，在对准用玻璃平板l、玻璃平板、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3 和底层所垫掩模荫罩4边框相应位置上均设置若干组定位孔，每组定位孔由三 个对准孔5组成，三个对准孔5之间的距离与工作荫罩2网格孔中三原色之间 的距离相匹配；如图1所示是本发明底层所垫掩模荫罩、工作荫罩及上层
选色用掩模荫罩依次放置结构示意图。然后，将一块表面处理干净的对准用玻
璃平板l放在对准台支撑架上，底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和上层选色 掩膜荫罩3大孔面都朝上且对准孔位置点一致依次放置在对准用玻璃平板1 上；六只对准锥销6匹配插入预喷基色相应的对准孔5中，取玻璃平板对准孔 匹配放置在三张荫罩的上方，放置后将六组对准锁紧装置装好，通过对准孔5、 对准锥销6和锁紧装置的共同作用，将底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和上 层选色掩膜荫罩3在对准用玻璃平板1上完成对应基色选择性对准及锁紧过 程；如图2所示是本发明上述三张荫罩依次放置在对准用玻璃平板上，并通 过荫罩与玻璃平板边框上所设的对准孔及对准锥销进行对准操作的结构示意 图。然后通过两次翻转18(T程序，将底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和上 层选色掩膜荫罩3从对准用玻璃平板1上转到喷涂吸附磁板框架7上，此时底 层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3和橡胶吸附磁板8完成 对准、吸附过程，如图3所示是本发明三张荫罩在对准玻璃平板上完成对准 后通过对倒翻转程序转移至吸附框架上结构示意图。将上述完成对准、吸附的 底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3、橡胶吸附磁板8和喷 涂吸附磁板框架7装入水幕箱内进行对应基色荧光粉的喷涂、分离和烘干；如 图4所示是本发明采用底层垫掩模荫罩对准喷涂后工作荫罩与掩模荫罩内壁 荧光粉层附着情况示意图。如图5所示是本发明工作荫罩与掩膜荫罩喷涂烘 干分离后工作荫罩内壁荧光粉层附着情况示意图。工作荫罩2烘干后重复步骤 以上步骤，直至三基色荧光粉全部完成喷涂、分离和烘干，然后将喷涂好三基 色荧光粉的工作荫罩2流水至下道工序烧结。实施例一
a. 在对准用玻璃平板l、玻璃平板、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3和 底层所垫掩模荫罩4边框相应位置上均设置若干组定位孔，每组定位孔由三个 对准孔5组成，三个对准孔5之间的距离与工作荫罩2网格孔中三原色之间的 距离相匹配；
b. 将一块表面处理干净的对准用玻璃平板1放在对准台支撑架上，底层 所垫掩模荫罩4、工作荫罩2和上层选色掩膜荫罩3大孔面都朝上且对准位置 点一致依次放置在对准用玻璃平板1上；
c. 六只对准锥销6匹配插入预喷基色相应的对准孔5中，取玻璃平板对 准孔匹配放置在三张荫罩的上方，放置后将六组对准锁紧装置装好，通过对准 孔5、对准锥销6和锁紧装置的共同作用，将底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2 和上层选色掩膜荫罩3在对准用玻璃平板1上对对应基色进行选择性对准，然 后锁紧；
d. 在三张荫罩上方的玻璃平板上放置橡胶吸附磁板8并压紧，橡胶吸附 磁板8通过上层玻璃平板与工作荫罩2吸紧，将对准锁紧的底层所垫掩模荫罩 4、工作荫罩2、上层的玻璃平板和上层选色掩膜荫罩3及压紧的橡胶吸附磁板 8 —起对倒翻转放到喷涂吸附磁板框架7上，通过两次翻转180°程序底层所 垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色掩膜荫罩3和橡胶吸附磁板8完成对准、 吸附过程；
e. 将上述完成对准、吸附的底层所垫掩模荫罩4、工作荫罩2、上层选色 掩膜荫罩3、上层的玻璃平板、橡胶吸附磁板8和喷涂吸附磁板框架7装入水 幕箱内进行对应基色荧光粉的喷涂、分离和烘干；
f. 工作荫罩2烘干后重复步骤b e，直至三基色荧光粉全部完成喷涂、 分离和烘干，然后将喷涂好三基色荧光粉的工作荫罩2流水至下道工序烧结。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
权利要求
1、一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法，其特征是它包括以下步骤a. 在对准用玻璃平板(1)、玻璃平板、工作荫罩(2)、上层选色掩膜荫罩(3)和底层所垫掩模荫罩(4)边框相应位置上均设置若干组定位孔，每组定位孔由三个对准孔(5)组成，三个对准孔(5)之间的距离与工作荫罩(2)网格孔中三原色之间的距离相匹配；b. 将一块表面处理干净的对准用玻璃平板(1)放在对准台支撑架上，底层所垫掩模荫罩(4)、工作荫罩(2)和上层选色掩膜荫罩(3)大孔面都朝上且对准孔位置点一致依次放置在对准用玻璃平板(1)上；c. 六只对准锥销(6)匹配插入预喷基色相应的对准孔(5)中，取玻璃平板对准孔匹配放置在三张荫罩的上方，放置后将六组对准锁紧装置装好，通过对准孔(5)、对准锥销(6)和锁紧装置的共同作用，则底层所垫掩模荫罩(4)、工作荫罩(2)和上层选色掩膜荫罩(3)在对准用玻璃平板(1)上完成对应基色选择性对准及锁紧过程；d. 然后通过两次翻转，将底层所垫掩模荫罩(4)、工作荫罩(2)和上层选色掩膜荫罩(3)从对准用玻璃平板(1)上转到喷涂吸附磁板框架(7)上，此时底层所垫掩模荫罩(4)、工作荫罩(2)、上层选色掩膜荫罩(3)和橡胶吸附磁板(8)完成对准、吸附过程；e. 将上述完成对准、吸附的底层所垫掩模荫罩(4)、工作荫罩(2)、上层选色掩膜荫罩(3)、橡胶吸附磁板(8)和喷涂吸附磁板框架(7)装入水幕箱内进行对应基色荧光粉的喷涂、分离和烘干；f. 工作荫罩(2)烘干后重复步骤b～e，直至三基色荧光粉全部完成喷涂、分离和烘干，然后将喷涂好三基色荧光粉的工作荫罩(2)流水至下道工序烧结。
2、 根据权利要求1所述的一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法，其特征是所 述的底层所垫掩模荫罩(4)和上层选色掩膜荫罩(3)的外观、材质、孔型尺 寸和节距尺寸均一致即两张荫罩为同一种荫罩，且底层所垫掩模荫罩(4)和 上层选色用掩膜荫罩(3)均为纯铁材质。
全文摘要
本发明的一种底层垫掩模荫罩对准喷涂的方法，通过底层所垫掩模荫罩(4)传导并均匀分布橡胶吸附磁板(8)所形成的磁场，由稀土氧化物成分组成的三色荧光粉浆料附着情况将随吸附磁场分布一致性情况的改善而得到明显改善，本发明可以减轻少量动能大的雾化浆料的反向弹射作用，浆料颗粒反弹数量的减少既利于保护已涂敷形成的荧光粉层不受破坏，又可以减轻对操作间环境的污染。本发明具有使得最终形成的荧光粉层致密、平滑，上粉量高，发光亮度高和发光一致性好的优点。
文档编号H01J29/07GK101422773SQ200810234808
公开日2009年5月6日 申请日期2008年11月18日 优先权日2008年11月18日
发明者洁 凌, 朱立锋, 王保平, 进 花 申请人:南京华显高科有限公司