专利名称：含有楔形均流坝的气刀的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及用于涂镀、表面处理的气刀，尤其涉及含有均匀气流的气刀。
背景技术：
气刀机构广泛应用于涂镀、表面处理等领域。对气刀最基本的要求是其出口气流量或压力尽可能的均匀，只有这样才能保证在整个宽度方向上镀层或涂层厚度的均匀性。现有的气刀结构包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，在气刀体内由于气刀进气口管径相对于气刀狭缝长度要小的多，正对着进气口区域的出口气流或压力较偏离进气口区域的出口气流或压力要大，导致了气刀出口气流或压力在气刀狭缝长度方向上的不均匀。有些在气刀长度方向上采用多个进气口的结构，多进气口结构虽然在整个气刀长度方向上出口气流或压力的均匀性有所改善，但仍然会有局部差异，正对着进气口的区域与偏离进气口的区域出口气流或压力有高低差别；出口气流或压力的高低差异会影响到涂镀层或表面处理层的均匀性。
发明内容本实用新型的目的在于提供一种含有楔形均流坝的气刀。该气刀克服了现有气刀出气口气流或压力不均的缺陷，提高了气刀出气口气流或压力的均匀性，结构简单，加工容易，成本低。
为解决上述技术问题，本实用新型给出一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，其特征是气刀体内含有楔形均流坝，楔形均流坝置于进气口前方，出气口位于楔形均流坝后方。
上述的含有楔形均流坝的气刀，所述楔形均流坝面对进气口侧的楔面斜角小于出气口侧的楔面斜角。
上述的含有楔形均流坝的气刀，所述楔形均流坝为多块，沿气刀体内气流方向排列。
本实用新型是在气刀体内设置楔形均流坝，楔形均流坝能防止气流直接从进气口冲向出气口狭缝。当气流经过楔形均流坝的阻挡均流，在气刀体内被充分混合均流后，再到达出气口狭缝时，气流在出气口长度方向上的分布就变得更均匀了。如果气刀体内的空间允许，可采用多级挡坝，气流的均匀作用效果会更好。该气刀结构简单，加工容易，成本低。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型含有楔形均流坝的气刀结构示意图。
图中1进气口，2气刀体，3楔形均流坝，4出气口，5壳体、6盖板，7螺钉。
具体实施方式
参见图1，一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口1、出气口4、气刀体2，出气口4为狭缝，气刀体3内含有楔形均流坝3，楔形均流坝3置于进气口1前方，出气口4位于楔形均流坝3后方。楔形均流坝3面对进气口1侧的楔面斜角小于出气口4侧的楔面斜角，这样气流经进气口1进入气刀体2内后，容易经楔形斜面的过渡均流，再经过另一楔形斜面流向出气口4，气流的均匀性得到提高。如果气刀体2内的空间允许，楔形均流坝3可设置为多块，楔形均流坝3沿气刀体2内的气流方向排列，在出气口4狭缝可得到更加均匀的气流。
本实用新型含有楔形均流坝的气刀是由壳体5和盖板6组成，壳体5和盖板6由螺钉7连接组成封闭体2，在壳体5上开有进气口1管孔，用以连接进气管，在盖板6侧留有一道狭缝作为出气口4，在盖板6内侧由螺钉7固定楔形块3，构成在封闭体2内含有楔形均流坝3。
权利要求1.一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，其特征是气刀体内含有楔形均流坝，楔形均流坝置于进气口前方，出气口位于楔形均流坝后方。
2.根据权利要求1所述的含有楔形均流坝的气刀，其特征是楔形均流坝面对进气口侧的楔面斜角小于出气口侧的楔面斜角。
3.根据权利要求1或2所述的含有楔形均流坝的气刀，其特征是楔形均流坝为多块，沿气刀体内气流方向排列。
专利摘要本实用新型涉及用于涂镀、表面处理的气刀，尤其涉及含有均匀气流的气刀。一种含有楔形均流坝的气刀，包括进气口、出气口、气刀体，出气口为狭缝，其特征是气刀体内含有楔形均流坝，楔形均流坝置于进气口前方，出气口位于楔形均流坝后方。楔形均流坝面对进气口侧的楔面斜角小于出气口侧的楔面斜角。楔形均流坝为多块，沿气刀体内气流方向排列。本实用新型提高了气刀出气口气流或压力的均匀性，气刀结构简单，加工容易，成本低。
文档编号C23C2/16GK2717976SQ20042003694
公开日2005年8月17日 申请日期2004年6月29日 优先权日2004年6月29日
发明者史良权 申请人:宝山钢铁股份有限公司