专利名称：半亚光真空电镀工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种真空电镀工艺，具体讲是一种半亚光真空电镀工艺。
背景技术：
亚光是涂层的一种效果，与亮光相对应，亚光的表面反射光是漫反射，没有眩光， 不刺眼，给人以稳重素雅的视觉效果。亮光的表面反射光为镜面反射，有眩光，较为刺眼，给人以明亮华丽的视觉效果。半亚光则是介于亚光与亮光之间的一种涂层效果。对产品实现半亚光效果的涂装，可以同时兼具亮光效果和亚光效果的优点，既保持鲜艳的色泽，又可减少反光、保护人的眼睛。通常要实现塑料制品或玻璃制品涂装面的半亚光效果，需要经过以下工艺流程 产品表面清洁、去静电、底漆喷涂及干燥、电镀、面漆喷涂及干燥。通过电镀可以对塑料制品和玻璃制品实现金属化涂装，通常此工序是通过水电镀来实现的，利用电解的方法使金属或合金沉积在玻璃表面，形成具有高光泽度的均勻金属涂层，从而起到增加保护性、耐磨性和美观度的目的。因为塑料或玻璃半成品的表面往往不够平整、或者会残留空气泡，直接电镀会造成表面不光滑，光泽度低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况.喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。而在镀层表面喷上面漆，可以进一步对镀层起到保护作用。此外，在底漆中加入一定量的消光剂，在面漆中加入相应量的消光浆，即可得到所需的半亚光视觉效果。但是水电镀具有以下弊端(1)加工时间长，生产效率低；(2)物料利用率低，水资源和金属资源需求量大且过程损耗严重；(2)废液对环境污染大，为达到环保的要求，需要增加大量废液处理成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种对环境污染小、物料利用率高、节约成本的半亚光真空电镀工艺。为解决上述技术问题，本发明的半亚光真空电镀工艺，它采用如下步骤(1)产品表面处理，所述产品包括塑料制品和玻璃制品；(2)底漆调制在底漆中加入5% -30%重量比的消光剂，所述底漆中包括 0. 4% -0. 6%重量比的佑谦fllO附着力促进剂；(3)底漆喷涂及干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为25nm-500nm，镀膜层为铝层或铬层；(5)面漆调制在面漆中加入5% -30%重量比的消光浆；(6)面漆喷涂及干燥。
作为优选，所述产品为塑料制品，所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到 30°C-60°C，流水线线速为5m/min-15m/min ；所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到 30°C _60°C，流水线线速为 5m/min-15m/min。作为另一优选，所述产品为玻璃制品，所述底漆中含有0.4% -0.6%的佑谦FllO 附着力促进剂。所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到60°C-8(TC，流水线线速为 5m/min-15m/min ；所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到60°C _80°C，流水线线速为 5m/min-15m/min0作为优选，所述步骤C3)和步骤(5)中的喷涂均采用空气净化喷涂；作为优选，所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥均采用紫外线光照干燥。作为优选，所述步骤O)中的消光剂为超细二氧化硅、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙、低分子热塑性树脂的至少一种。作为优选，所述步骤(5)中的消光浆为佑谦3802A。真空电镀是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在产品表面沉积各种金属和非金属薄膜的镀膜方法。因此，本发明的半亚光真空电镀工艺与现有技术相比，具有以下优点(1)通过真空镀膜可以迅速得到非常薄的表面镀层，速度快，附着力好；(2)对物料的利用率高，中间损耗小；(3)对环境的污染小，降低环保成本；(4)喷涂玻璃制品的底漆中包括0. 4% -0. 6%重量比的涂料添加剂，可增加底漆涂层的软度，提高金属镀层的附着力；(5)对喷涂温度和流水线线速加以控制，可提高涂层的附着力；(6)采用紫外线光照干燥，既缩短干燥时间，也容易控制产品的品质。
具体实施例方式下面结合实施例对本发明作进一步详细的说明，但本发明不局限于以下实施例。实施例1(1)将PP (聚丙烯)料半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入15%重量比的纯聚酯消光剂RB33^ ；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到50°C -70°C，流水线线速为Sm/min ； 采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为25nm-500nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入10%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到50°C -70°C，流水线线速为8m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。实施例2(1)将PC (聚碳酸酯)料半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入20%重量比的纯聚酯消光剂RB33^ ；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到35°C，流水线线速为15m/min ；采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为25nm-500nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入25%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到40°C，流水线线速为 15m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。实施例3(1)将玻璃半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入25%重量比的硬脂酸钙消光剂，所述底漆中包括 0. 6%重量比的佑谦fllO附着力促进剂；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到60°C -80°C，流水线线速为5m/min ； 采用空气净化喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为15nm-400nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入20%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到60°C _80°C，流水线线速为5m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。实施例4(1)将PP (聚丙烯)料半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入25%重量比的美国格雷斯RAD2105 二氧化硅消光剂；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到50°C _70°C，流水线线速为15m/min ； 采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为15nm-400nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入30%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到50°C _70°C，流水线线速为lOm/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。
实施例5(1)将玻璃半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入25%重量比的格雷斯RAD2105 二氧化硅消光剂，所述底漆中包括0. 6%重量比的佑谦fllO附着力促进剂；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到60°C -80°C，流水线线速为lOm/min ； 采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为15nm-400nm，镀膜层为铬层；(5)面漆调制在面漆中加入25%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到60°C _80°C，流水线线速为lOm/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。
实施例6(1将PVC(聚氯乙烯)半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入30%重量比的德固萨化学0K-500 二氧化硅消光剂；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到50°C，流水线线速为lOm/min ；采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为15nm-500nm，镀膜层为铬层；(5)面漆调制在面漆中加入30%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到50°C，流水线线速为 10m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。实施例7(1)将PVC(聚氯乙烯)半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入10%重量比的德固萨化学0K-500 二氧化硅消光剂；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到60°C，流水线线速为15m/min ；采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为10nm-400nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入15%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到60°C，流水线线速为 10m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。实施例8(1)将PVC(聚氯乙烯)半成品进行表面清洁处理；(2)底漆调制在底漆中加入15%重量比的纯聚酯消光剂RB33^ ；(3)底漆喷涂及干燥底漆和半成品均加热到40°C，流水线线速为5m/min ；采用空气喷涂将底漆喷涂在半成品表面，用紫外线光照干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为20nm-500nm，镀膜层为铝层；(5)面漆调制在面漆中加入15%重量比的佑谦3802A消光浆；(6)面漆喷涂及紫外线光照干燥面漆和镀膜产品均加热到40°C，流水线线速为 5m/min ；采用空气喷涂将面漆喷涂在镀膜产品表面，用紫外线光照干燥；产品表面呈现半亚光的金属效果。
权利要求
1.一种半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述工艺采用如下步骤一(1)产品表面处理，所述产品为塑料制品或玻璃制品；(2)底漆调制在底漆中加入5%-30%重量比的消光剂；(3)底漆喷涂及干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为25nm-5000nm，镀膜层为铝层或铬层；(5)面漆调制在面漆中加入5%-30%重量比的消光浆；(6)面漆喷涂及干燥。
2.根据权利要求1所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述产品为塑料制品，所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到30°C -60°C，流水线线速为5m/min-15m/min ； 所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到30°C -60°C，流水线线速为5m/min-15m/mirio
3.根据权利要求1所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述产品为玻璃制品，所述底漆中含有0.4% -0.6%的佑谦FllO附着力促进剂。所述步骤(3)的喷涂中底漆和半成品均加热到60°C -80°C，流水线线速为5m/min-15m/min ；所述步骤(6)的喷涂中面漆和镀膜产品均加热到60°C _80°C，流水线线速为5m/min-15m/min。
4.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(3) 和步骤(5)中的喷涂均采用空气净化喷涂。
5.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(3) 和步骤(6)中的干燥均采用紫外线光照干燥。
6.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(2) 中的消光剂为超细二氧化硅、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙、低分子热塑性树脂的至少一种。
7.根据权利要求1-3任一项所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(5) 中的消光浆为佑谦3802A。
8.根据权利要求2所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(3)和步骤(5) 中的喷涂均采用空气净化喷涂；所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥采用紫外线光照干燥。
9.根据权利要求3所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(3)和步骤 (5)中的喷涂均采用空气净化喷涂；所述步骤(3)和步骤(6)中的干燥采用紫外线光照干O
10.根据权利要求8或9所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(2)中的消光剂为超细二氧化硅、滑石粉、硬脂酸铝、硬脂酸钙、低分子热塑性树脂的至少一种。
11.根据权利要求8或9所述的半亚光真空电镀工艺，其特征在于所述步骤(5)中的消光浆为佑谦3802A。
全文摘要
本发明公开了一种半亚光真空电镀工艺，所述工艺采用如下步骤(1)产品表面处理，所述产品为塑料制品或玻璃制品；(2)底漆调制在底漆中加入5％-30％重量比的消光剂；(3)底漆喷涂及干燥；(4)真空镀膜真空镀膜的膜厚为25nm-5000nm，镀膜层为铝层或铬层；(5)面漆调制在面漆中加入5％-30％重量比的消光浆；(6)面漆喷涂及干燥。本发明的半亚光真空电镀工艺，通过真空镀膜可以迅速得到非常薄的表面镀层，速度快，附着力好；对物料的利用率高，中间损耗小；对环境的污染小，降低环保成本；涂层附着力强，电镀产品兼具亮光效果和亚光效果的优点，既保持鲜艳的色泽，又可减少反光、保护人的眼睛。
文档编号C23C14/20GK102268640SQ20111020512
公开日2011年12月7日 申请日期2011年7月21日 优先权日2011年7月21日
发明者陆琪宏 申请人:杭州三晶工艺塑料有限公司