专利名称：一种铈基抛光液残留物的清洗方法
技术领域：
本发明涉及清洗技术领域，特别涉及一种抛光液残留物的新型清洗方法。
技术背景
目前用于超光滑表面加工的抛光液，因其具有高抛光效率和高表面质量等优点而备受加工者的青睐，但由于抛光液的成分多样化，组成复杂，配方比例呈保密状态，导致针对此类抛光液清洗的技术可靠性低，清洗后零件仍有少量抛光液的残留物，使得抛光后的零件表面清洗不干净，从而引起超精密器件产品合格率降低，占次品率的50%左右。因此， 清洗质量的高低已严重影响到先进精密仪器的性能，超光滑表面的超精密清洗技术也随之成为超精密加工技术中急待解决的关键性难题之一。发明内容
本发明的目的是提供一种针对抛光液残留物的清洗方法，与传统方法相比，该方法既可以有效的去除抛光液残留物，提高零件洁净度；又可以改善超光滑零件的表面质量， 避免清洗液对零件表面质量的损伤和腐蚀，对零件表面的微粗糙度影响甚小，从而提高了零件的良品率。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案
一种铈基抛光液残留物的清洗方法，包括以下步骤
1)采用体积比为HNO3 H2O2 H2O = 1 1 1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉；
2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗5min ；
3)量取纯水600ml，称取乙二胺四乙酸(EDTA) 8g和氢氧化钠3. 5_4g并完全溶解于所述600ml纯水中；
4)取步骤幻中已经配制好的溶液稀释至2-5倍纯水中，放置电炉上煮沸；
5)将步骤2)中洗好的零件放入步骤4)的溶液中煮沸；
6)用纯水喷淋的方式清洗从步骤幻中取出的零件，清洗5min，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
步骤1)中所述酸性溶液清洗的时间为1-1.证。
步骤2)中所述纯水的温度为40_50°C。
步骤4)中所述溶液煮沸时间为3-5min。
与传统清洗技术相比，本发明具有以下优点本发明方法利用HNO3 H2O2 H2O的酸性溶液溶解大部分残余抛光粉；利用EDTA试剂可以与铈基金属铬合的特点，将零件表面残余金属离子经络合、沉淀后脱离零件表面；再利用氢氧化钠可以去除抛光液中有机物的特点，使得零件表面的残留抛光粉易清洗，清洗时间短，对零件表面的微粗糙度影响小。综上所述，本发明方法研制的铈基抛光液残留物的新型清洗方法能够有效去除顽固的抛光液残留物，从而获得表面高洁净度高的超光滑表面。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做进一步详细描述。
实施例1:
1)采用体积比为HNO3 H2O2 H2O = 1 1 1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉Ih ；
2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗5min ；
3)向600ml、45°C的纯水中加入8克乙二胺四乙酸(EDTA)和3. 5g的氢氧化钠，搅拌至充分溶解；
4)将步骤3)中已经配制好的溶液稀释5倍，并煮沸^iin ；
5)将步骤2)中清洗的零件放入步骤4中煮％iin，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
清洗效果如下
通过奥林巴斯工具显微镜和Talysurf CCI Lite白光三维形貌测量仪对采用不同溶液清洗的零件表面洁净度和粗糙度进行检测，采用本实施例清洗的零件表面无抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了可达到0. lnm，传统方法清洗的零件表面存有抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了 0. 3nm。
实施例2
1)采用HNO3 H2O2 H2O = 1 1 1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉1. 2h ；
2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗时间5min ；
3)向600ml、40°C的纯水中加入8克乙二胺四乙酸(EDTA)和4g的氢氧化钠，搅拌至充分溶解；
4)将步骤3)中已经配制好的溶液稀释2倍，并煮沸;3min ；
5)将步骤2、中清洗的零件放入步骤4中煮3min，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
清洗效果如下
通过奥林巴斯工具显微镜和Talysurf CCI Lite白光三维形貌测量仪对采用不同溶液清洗的零件表面洁净度和粗糙度进行检测，采用本实施例清洗的零件表面无抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了可达到0. lnm，传统方法清洗的零件表面存有抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了 0. 2nm。
实施例3
1)采用HNO3 H2O2 H2O = 1 1 1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉1. 5h ；
2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗时间5min ；
3)向600ml、50°C的纯水中加入8克乙二胺四乙酸(EDTA)和4g的氢氧化钠，搅拌至充分溶解；
4)将步骤3)中已经配制好的溶液稀释3倍，并煮沸5min ；
5)将步骤2~)中清洗的零件放入步骤4中煮5min，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
清洗效果如下
通过奥林巴斯工具显微镜和Talysurf CCI Lite白光三维形貌测量仪对采用不同溶液清洗的零件表面洁净度和粗糙度进行检测，采用本实施例清洗的零件表面无抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了可达到0. 2nm，传统方法清洗的零件表面存有抛光粉残留物，且粗糙度相比清洗前零件的粗糙度增大了 0. 4nm。
以上所述仅为本发明给出的有限的实施方式，不是全部或限定的实施方式，本领域普通技术人员通过阅读本发明说明书而对本发明技术方案采取的任何等效的变换，均为本发明的权利要求所涵盖。
权利要求
1.一种铈基抛光液残留物的清洗方法，包括以下步骤1)采用体积比为HNO3 H2O2 H2O = 1 1 1的酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉；2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件，清洗5min;3)量取纯水600ml，称取乙二胺四乙酸8g和氢氧化钠3.5_4g，并完全溶解于所述 600ml纯水中；4)取步骤幻中已经配制好的溶液稀释至2-5倍纯水中，放置电炉上煮沸；5)将步骤幻中洗好的零件放入步骤4)的溶液中煮沸；6)用纯水喷淋的方式清洗从步骤幻中取出的零件，清洗5min，即完成铈基抛光液残留物的清洗。
2.如权利要求1所述一种铈基抛光液残留物的新型清洗方法，其特征在于步骤1)中所述酸性溶液清洗的时间为1-1.证。
3.如权利要求1所述一种铈基抛光液残留物的新型清洗方法，其特征在于步骤2)中所述纯水的温度为40-50°C。
4.如权利要求1所述一种铈基抛光液残留物的新型清洗方法，其特征在于步骤4)中所述溶液煮沸时间为3-5min。
全文摘要
本发明公开了一种铈基抛光液残留物的清洗方法，包括1)采用HNO3∶H2O2∶H2O酸性溶液清洗零件表面残留的铈基抛光粉；2)用纯水喷淋的方式清洗从步骤1)中取出的零件；3)量取纯水，称取乙二胺四乙酸(EDTA)和氢氧化钠，并完全溶解于纯水中；4)取步骤3)中已经配制好的溶液稀释于纯水中，放置电炉上煮沸；5)将步骤2)洗好的 零件放入步骤4)溶液中煮沸；6)用纯水喷淋方式清洗从步骤5)中取出的零件。本发明方法利用酸性溶液溶解大部分残余抛光粉；利用EDTA试剂与铈基金属铬合，将零件表面残余金属离子经络合、沉淀后脱离零件表面；再利用氢氧化钠去除抛光液中有机物，使得零件表面的残留抛光粉易清洗、时间短，对零件表面的微粗糙度影响小。
文档编号C23G1/02GK102517594SQ20111043032
公开日2012年6月27日 申请日期2011年12月15日 优先权日2011年12月15日
发明者张艳, 郭云飞, 马瑾 申请人:西安北方捷瑞光电科技有限公司