一种高硬度低磨耗耐磨球及其制备方法与流程

文档序号:12698930阅读:180来源:国知局

本发明涉及耐磨材料技术领域,尤其涉及一种高硬度低磨耗耐磨球及其制备方法。



背景技术:

球磨机是水泥、电力、选矿、建材等行业中广泛应用的粉磨设备,耐磨球作为球磨机中的粉碎介质,用于粉碎球磨机中的物料,其广泛用于水泥、电力、选矿、建材等行业。近年来,随着我国工业的迅速发展,耐磨球的消耗量很大。因此提高耐磨球硬度,改善其性能,降低其磨耗,提高其使用寿命,将会产生很大的经济效益。



技术实现要素:

基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种高硬度低磨耗耐磨球及其制备方法,该耐磨球具有强度高、硬度大、韧性好、耐腐蚀、磨耗低、使用寿命长等优点。

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.2~1.85%、B:0.05~0.2%、Mg:0.08~0.2%、Si:0.9~1.5%、Al:0.05~0.12%、Ba:0.01~0.03%、Ti:0.08~0.2%、V:0.1~0.5%、Cr:18.5~24.5%、Mn:0.7~1.2%、Ni:0.35~0.55%、Cu:0.1~0.25%、Zn:0.1~0.25%、Zr:0.03~0.09%、Nb:0.04~0.12%、W:0.35~0.7%、Y:0.01~0.045%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

优选地,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.4~1.65%、B:0.1~0.15%、Mg:0.1~0.16%、Si:1.1~1.3%、Al:0.07~0.1%、Ba:0.018~0.023%、Ti:0.1~0.15%、V:0.2~0.4%、Cr:20.5~22.5%、Mn:0.85~1%、Ni:0.4~0.45%、Cu:0.15~0.2%、Zn:0.15~0.2%、Zr:0.05~0.08%、Nb:0.06~0.1%、W:0.45~0.6%、Y:0.02~0.03%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将耐磨球基体经激光熔覆、等离子熔覆后得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

优选地,在S1中,具体步骤如下:将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,升温至1400~1430℃,保温25~40min,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,升温至1450~1490℃,保温40~60min,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体。

优选地,在S3中,具体步骤如下:将激光熔覆粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经打磨清洗后的耐磨球基体表面,在120~135℃下烘干,放入激光熔覆装置中进行激光熔覆;所述激光熔覆工艺参数具体如下:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为2.2~2.8mm,扫描速度为5.4~6.2mm/s,功率为1.25~1.32KW,激光熔覆层厚度为1.5~2mm;将Co基合金粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经激光熔覆处理后的耐磨球基体上,烘干后再对其进行等离子熔覆得到初级耐磨球;所述等离子熔覆工艺参数为:离子气体流量为1.5~3.5L/min,保护气体为氩气且氩气流量为5~7.5L/min,转移弧电压为30~35V,转移电流为70~100A,喷距为11~17mm,功率为1.25~1.7KW,扫描速度为6~9mm/s,等离子弧光斑直径为2~3mm,等离子熔覆层厚度为1~1.8mm。

优选地,在S3中,粘结剂为水玻璃、硝酸纤维素、醋酸纤维素和聚乙烯醇中的一种或多种。

优选地,在S3中,激光熔覆粉末的粒径为150~300nm,Co基合金粉末的粒径为50~150nm。

优选地,在S3中,激光熔覆粉末按质量分数包括以下成分:Ni:10~15%、Cr:20~30%、Si:0.5~1.5%、W:0.8~1.2%、Co:3~8%、B:2.2~3%,其余为Fe及不可避免的杂质。

优选地,在S3中,Co基合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.8~1.2%、Cr:14~18%、Fe:5~10%、Nb:0.6~1.2%、B:1.4~2.2%、Al:1.5~2.2%、Si:0.6~0.9%、Y:0.05~0.15%,其余为Co及不可避免的杂质。

本发明中通过控制C、Cr、Si、Ni的含量,为耐磨球基体具有良好的强度、硬度、抗氧化性、韧性、耐磨性奠定了基础;Nb、Y、Zr配合,使耐磨球基体内部组织致密,细化组织晶粒,避免晶间腐蚀,提高了耐磨球基体耐腐蚀性与抗氧化性,同时提高耐磨球基体的强度、硬度、韧性等力学性能;在制备过程中,对耐磨球坯体进行热处理,然后在耐磨球基体表面进行激光熔覆和等离子熔覆,激光熔覆选用Fe基合金粉末作为过渡层,由于与耐磨球基体同是以Fe、Cr为主要元素,在等离子熔覆时两者进行冶金结合,具有良好的结合强度,通过合理选择等离子熔覆工艺参数,使等离子熔覆层中组织晶粒细化,与耐磨球基体达到良好的冶金结合,等离子熔覆层过程中选用Co基合金粉末,其中,Al、Nb、Si、Y配合,使激光熔覆层具有优异的耐腐蚀性与抗氧化性,Cr、Si、B与C配合形成微小的碳化物,同时生成强化相CrB,提高激光熔覆层的硬度、韧性与耐磨性,通过合理选择激光熔覆层粉末和等离子熔覆层粉末的成分和含量,且合理设置等离子熔覆和激光熔覆的工艺参数,使熔覆层与耐磨球基体具有较高的结合强度与韧性,提高了耐磨球表面的平整度,同时使耐磨球的硬度与韧性得到同步提高;再经低温回火消除耐磨球中的残留应力,对耐磨球各项性能进一步强化。本发明通过合理设定温度和时间及各成分含量,实现成分设计所需达到的性能,使得熔覆层与耐磨球基体保持良好的冶金结合,没有出现裂纹、孔洞等现象,综合提高了耐磨球强度、硬度、韧性、抗冲击性等力学性能,同时使得耐磨球具有良好的抗腐蚀性能、抗氧化性、耐磨性能,降低了耐磨球的磨耗,大大增加了耐磨球的使用寿命。本发明提出的高硬度低磨耗耐磨球,其具有强度高、硬度大、韧性好、耐腐蚀、磨耗低、使用寿命长等优点。

对所述高硬度低磨耗耐磨球进行性能测试,测试结果如下:硬度值达70~74HRC,抗压强度为580~620MPa,屈服强度为360~400MPa,冲击韧性≥13.5J/cm2,平均球耗为45~60g/t,破碎率为0.04~0.06%,寿命约为普通耐磨球的8~9倍,具有十分显著的经济效益。

具体实施方式

下面,通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明。

实施例1

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.2%、B:0.2%、Mg:0.08%、Si:1.5%、Al:0.05%、Ba:0.03%、Ti:0.08%、V:0.5%、Cr:18.5%、Mn:1.2%、Ni:0.35%、Cu:0.25%、Zn:0.1%、Zr:0.09%、Nb:0.04%、W:0.7%、Y:0.01%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将耐磨球基体经激光熔覆、等离子熔覆后得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

实施例2

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.85%、B:0.05%、Mg:0.2%、Si:0.9%、Al:0.12%、Ba:0.01%、Ti:0.2%、V:0.1%、Cr:24.5%、Mn:0.7%、Ni:0.55%、Cu:0.1%、Zn:0.25%、Zr:0.03%、Nb:0.12%、W:0.35%、Y:0.045%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将耐磨球基体经激光熔覆、等离子熔覆后得到初级耐磨球;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

实施例3

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.5%、B:0.12%、Mg:0.14%、Si:1.15%、Al:0.09%、Ba:0.02%、Ti:0.14%、V:0.32%、Cr:21.5%、Mn:0.95%、Ni:0.45%、Cu:0.18%、Zn:0.15%、Zr:0.06%、Nb:0.08%、W:0.52%、Y:0.03%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,升温至1420℃,保温30min,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,升温至1470℃,保温50min,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将激光熔覆粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经打磨清洗后的耐磨球基体表面,在128℃下烘干,放入激光熔覆装置中进行激光熔覆;所述激光熔覆工艺参数具体如下:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为2.5mm,扫描速度为5.8mm/s,功率为1.28KW,激光熔覆层厚度为1.8mm;将Co基合金粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经激光熔覆处理后的耐磨球基体上,烘干后再对其进行等离子熔覆得到初级耐磨球;所述等离子熔覆工艺参数为:离子气体流量为2.5L/min,保护气体为氩气且氩气流量为6.5L/min,转移弧电压为32V,转移电流为85A,喷距为15mm,功率为1.5KW,扫描速度为7.5mm/s,等离子弧光斑直径为2.5mm,等离子熔覆层厚度为1.4mm;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

其中,在S3中,粘结剂水玻璃;

在S3中,激光熔覆粉末的粒径为240nm,Co基合金粉末的粒径为100nm;

激光熔覆粉末按质量分数包括以下成分:Ni:12.5%、Cr:25%、Si:1.1%、W:0.98%、Co:5%、B:2.8%,其余为Fe及不可避免的杂质;

Co基合金粉末按质量分数包括以下成分:C:1%、Cr:15.5%、Fe:7.5%、Nb:0.86%、B:1.85%、Al:1.86%、Si:0.75%、Y:0.1%,其余为Co及不可避免的杂质。

实施例4

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.35%、B:0.15%、Mg:0.11%、Si:1.35%、Al:0.075%、Ba:0.025%、Ti:0.11%、V:0.42%、Cr:19.8%、Mn:1.1%、Ni:0.39%、Cu:0.21%、Zn:0.14%、Zr:0.08%、Nb:0.06%、W:0.62%、Y:0.018%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,升温至1400℃,保温40min,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,升温至1450℃,保温60min,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将激光熔覆粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经打磨清洗后的耐磨球基体表面,在120℃下烘干,放入激光熔覆装置中进行激光熔覆;所述激光熔覆工艺参数具体如下:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为2.2mm,扫描速度为5.4mm/s,功率为1.25KW,激光熔覆层厚度为1.5mm;将Co基合金粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经激光熔覆处理后的耐磨球基体上,烘干后再对其进行等离子熔覆得到初级耐磨球;所述等离子熔覆工艺参数为:离子气体流量为1.5L/min,保护气体为氩气且氩气流量为5L/min,转移弧电压为30V,转移电流为70A,喷距为11mm,功率为1.25KW,扫描速度为6mm/s,等离子弧光斑直径为2mm,等离子熔覆层厚度为1mm;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

其中,在S3中,粘结剂为硝酸纤维素、醋酸纤维素和聚乙烯醇按重量比1:1:1组成;

在S3中,激光熔覆粉末的粒径为150nm,Co基合金粉末的粒径为50nm;

激光熔覆粉末按质量分数包括以下成分:Ni:10%、Cr:30%、Si:0.5%、W:1.2%、Co:3%、B:3%,其余为Fe及不可避免的杂质;

Co基合金粉末按质量分数包括以下成分:C:0.8%、Cr:18%、Fe:5%、Nb:1.2%、B:1.4%、Al:2.2%、Si:0.6%、Y:0.15%,其余为Co及不可避免的杂质。

实施例5

本发明提出的一种高硬度低磨耗耐磨球,包括熔覆层与耐磨球基体,耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分:C:1.65%、B:0.08%、Mg:0.18%、Si:1.12%、Al:0.95%、Ba:0.015%、Ti:0.18%、V:0.22%、Cr:23.5%、Mn:0.85%、Ni:0.5%、Cu:0.14%、Zn:0.22%、Zr:0.04%、Nb:0.09%、W:0.45%、Y:0.035%、P≤0.015%,其余为Fe及不可避免的杂质。

本发明还提出了一种高硬度低磨耗耐磨球的制备方法,包括以下步骤:

S1、将废钢、锰铁合金、铬铁合金和生铁置于中频感应炉中进行熔炼,升温至1430℃,保温25min,再加入稀土合金、钒铁合金、铌铁合金和钨铁合金,升温至1490℃,保温40min,经脱氧、扒渣、浇注,得到耐磨球坯体;

S2、将耐磨球坯体淬火处理,然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体;

S3、将激光熔覆粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经打磨清洗后的耐磨球基体表面,在135℃下烘干,放入激光熔覆装置中进行激光熔覆;所述激光熔覆工艺参数具体如下:单道扫描,氩气保护激光池,光斑直径为2.8mm,扫描速度为6.2mm/s,功率为1.32KW,激光熔覆层厚度为2mm;将Co基合金粉末与粘结剂混合均匀后制成膏状,然后涂覆在经激光熔覆处理后的耐磨球基体上,烘干后再对其进行等离子熔覆得到初级耐磨球;所述等离子熔覆工艺参数为:离子气体流量为3.5L/min,保护气体为氩气且氩气流量为7.5L/min,转移弧电压为35V,转移电流为100A,喷距为17mm,功率为1.7KW,扫描速度为9mm/s,等离子弧光斑直径为3mm,等离子熔覆层厚度为1.8mm;

S4、将初级耐磨球经低温回火后得到所述高硬度低磨耗耐磨球。

其中,粘结剂为水玻璃、硝酸纤维素按重量比1:1组成;

在S3中,激光熔覆粉末的粒径为300nm,Co基合金粉末的粒径为150nm;

激光熔覆粉末按质量分数包括以下成分:Ni:15%、Cr:20%、S i:1.5%、W:0.8%、Co:8%、B:2.2%,其余为Fe及不可避免的杂质;

Co基合金粉末按质量分数包括以下成分:C:1.2%、Cr:14%、Fe:10%、Nb:0.6%、B:2.2%、Al:1.5%、Si:0.9%、Y:0.05%,其余为Co及不可避免的杂质。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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