技术特征：
技术总结
提供被加工物的评价方法，能够对能够成为产品的被加工物的吸杂性进行评价。一种被加工物的评价方法，对在正面上形成有多个器件并且在内部形成有吸杂层的器件晶片的吸杂性进行评价。被加工物的评价方法包含如下的工序：激发光照射工序，对器件晶片照射用于激发出载流子的激发光；微波照射工序，分别对器件晶片的激发光的照射范围和激发光的照射范围外照射微波；测定工序，分别对来自器件晶片的微波MR的反射波的强度进行测定，导出从来自照射范围的反射波的强度中减去来自照射范围外的反射波的强度而得的差分信号；以及根据在测定工序中计算出的差分信号的强度对吸杂性进行判断的工序。
技术研发人员：介川直哉;原田晴司
受保护的技术使用者：株式会社迪思科
技术研发日：2017.03.23
技术公布日：2017.10.10