本实用新型涉及一种抛光装置，尤其涉及一种显微镜支架的抛光装置。
背景技术：
显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，是人类进入原子时代的标志。显微镜主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器，在使用显微镜时需要用到显微镜支架。显微镜支架制作完成后，表面难免会存在毛刺，因此，需要对其表面进行抛光处理。现有的用于对显微镜支架表面进行处理的装置，结构简单，功能也相对比较单一，不仅抛光效果不好，而且工作人员的工作量大，工作效率低，不能满足使用需求。因此，应该提供一种新的技术方案解决上述问题。
技术实现要素：
本实用新型提供一种结构合理，使用效果好的显微镜支架的抛光装置。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
一种显微镜支架的抛光装置，包括底座，所述底座上设有支架，所述支架上设有抛光机构和纵向调节机构，所述抛光机构包括抛光头，抛光头与转轴的一端连接，转轴的另一端与电动机连接，所述纵向调节机构包括导轨、滑座，所述导轨沿竖直方向设置在支架的一侧，所述滑座设置于导轨上，所述滑座与抛光机构连接，所述底座上设有用于固定显微镜支架的固定机构，所述固定机构包括固定座，所述固定座的顶端设有固定卡盘，所述固定座的下方与设置在底座下侧的电机的电机轴连接，所述抛光头包括研磨本体和背绒层，所述研磨本体为多孔隙状结构，所述研磨本体的中心具有穿孔，所述背绒层设置在研磨本体的表面，并环绕于所述穿孔的周围。
进一步的技术方案：
纵向调节机构还包括驱动气缸，所述驱动气缸的下端与滑座连接。
所述固定卡盘为三爪卡盘。
所述背绒层为绒布材料或化纤材料。
背绒层的外缘朝所述研磨本体的外缘延伸形成延伸部。
由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
1、本实用新型的显微镜支架的抛光装置，结构合理，纵向调节机构可以用来精确调节抛光机构的位置，固定机构可以用来精确调节显微镜支架的位置，两者的配合可以提高整个抛光装置的抛光效果，还可以降低工作人员的劳动强度，提高工作效率。
2、本实用新型的显微镜支架的抛光装置，在研磨本体的表面设置背绒层，且背绒层环绕于穿孔的周围，可通过背绒层强化研磨本体附着在转轴上的附着力，由此可降低因高速转动而造成抛光体提早损坏。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图2为抛光头结构示意图。
以上附图中：1、底座，2、支架，3、抛光头，3-1、研磨本体，3-2、背绒层，3-3、穿孔，4、转轴，5、电动机，6、导轨，7、滑座，8、固定座，9、固定卡盘，10、电机，11、驱动气缸。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：
实施例一：
如图1和2所示，本实用新型的一种显微镜支架的抛光装置，包括底座1，所述底座1上设有支架2，所述支架2上设有抛光机构和纵向调节机构，所述抛光机构包括抛光头3，抛光头3与转轴4的一端连接，转轴4的另一端与电动机5连接，所述纵向调节机构包括导轨6、滑座7，所述导轨6沿竖直方向设置在支架2的一侧，所述滑座7设置于导轨6上，所述滑座7与抛光机构连接，所述底座1上设有用于固定显微镜支架的固定机构，所述固定机构包括固定座8，所述固定座8的顶端设有固定卡盘9，所述固定座8的下方与设置在底座下侧的电机10的电机轴连接，所述抛光头3包括研磨本体3-1和背绒层3-2，所述研磨本体3-1为多孔隙状结构，所述研磨本体3-1的中心具有穿孔3-3，所述背绒层3-2设置在研磨本体3-1的表面，并环绕于所述穿孔3-3的周围。
优选的，作为本实用新型的第二个实施例，本实施例是对实施例一的进一步改进，纵向调节机构还包括驱动气缸11，所述驱动气缸11的下端与滑座7连接。
优选的，作为本实用新型的第三个实施例，本实施例是对实施例一的进一步限定，所述固定卡盘9为三爪卡盘。
优选的，作为本实用新型的第四个实施例，本实施例也是对实施例一的进一步限定，所述背绒层3-2为绒布材料或化纤材料，背绒层3-2的外缘朝所述研磨本体的外缘延伸形成延伸部。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。