本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体为一种铝板加工用多弧型离子镀膜机。
背景技术：
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
申请号为CN201020539482.5，名称为真空多弧离子镀膜机的实用新型专利，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套上的靶材、设于靶材上方的磁铁，在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体，磁铁缸体的上端固定连接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与调节螺杆的里端固定连接，磁铁置于磁铁缸体中。可调节磁铁与靶材的相对位置，从而使真空室中的磁场强度发生变化，镀膜机具有可针对不同靶材和工况下，达到最佳工作状态的优点。
但是在对板材进行加工的时候，尤其是铝板，不容易放置在镀膜机内部进行加工，导致铝板镀膜加工效率低，且在加工的时候铝板容易出现镀膜不完全的情况，因此设计了一种铝板加工用多弧型离子镀膜机。
技术实现要素：
为了克服现有技术方案的不足, 本实用新型提供一种铝板加工用多弧型离子镀膜机，通过溅射靶配合弧靶产生等离子体，对铝板进行多弧形镀膜加工操作，内部设置了可调节角度的屏蔽挡板，可以有效的避免等离子体溅射出现偏差，提高了镀膜的加工效率，通过特殊的固定装置，可以很好的将铝板固定住，并且将铝板的绝大部分暴露在外，方便等离子体对铝板表面进行镀膜操作，提高了镀膜操作的完整性，使得铝板得到更加全面的镀膜，值得推广。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种铝板加工用多弧型离子镀膜机，包括真空炉体，所述真空炉体内部设置有若干个弧形溅射靶，所述弧形溅射靶两端设置有屏蔽挡板，所述屏蔽挡板通过万向轴连接在真空炉体上，所述真空炉体内壁上设置有若干个弧靶，所述真空炉体内部设置有旋转轴，所述旋转轴连接有支撑杆，所述支撑杆通过四个固定杆连接有铝板固定装置；
所述铝板固定装置包括两个不锈钢框架，其中一个不锈钢框架四个拐角处设置有安装脚，所述安装脚内设置有安装螺孔，所述不锈钢框架之间通过铰链连接在一起，所述不锈钢框架内部设置有若干根碳纤维细绳，所述不锈钢框架上设置有锁紧扣。
作为本实用新型一种有选的技术方案，所述真空炉体外侧设置有圆弧形的散热板，所述散热板采用铜材料制成。
作为本实用新型一种有选的技术方案，所述真空炉体下端设置有支撑足，所述支撑足内部设置有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧下端设置有防滑垫层。
作为本实用新型一种有选的技术方案，所述支撑杆与旋转轴之间设置有加强筋，所述加强筋横截面为三角形结构。
作为本实用新型一种有选的技术方案，所述不锈钢框架上设置有连接块，所述连接块内部设置有吸附磁铁。
作为本实用新型一种有选的技术方案，所述碳纤维细绳上设置有若干个硅胶防滑套。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
（1）本实用新型通过溅射靶配合弧靶产生等离子体，对铝板进行多弧形镀膜加工操作，内部设置了可调节角度的屏蔽挡板，可以有效的避免等离子体溅射出现偏差，提高了镀膜的加工效率；
（2）本实用新型通过特殊的固定装置，可以很好的将铝板固定住，并且将铝板的绝大部分暴露在外，方便等离子体对铝板表面进行镀膜操作，提高了镀膜操作的完整性，使得铝板得到更加全面的镀膜，值得推广。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型的铝板固定装置结构示意图。
图中：1-真空炉体，2-弧形溅射靶，3-屏蔽挡板，4-万向轴，5-弧靶，6-旋转轴，7-支撑杆，8-固定杆，9-铝板固定装置，10-不锈钢框架，11-安装脚，12-安装螺孔，13-铰链，14-碳纤维细绳，15-锁紧扣，16-散热板，17-支撑足，18-缓冲弹簧，19-防滑垫层，20-加强筋，21-连接块，22-吸附磁铁，23-硅胶防滑套。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
以下各实施例的说明是参考附图，用以示例本实用新型可以用以实施的特定实施例。本实用新型所提到的方向和位置用语，例如「上」、「中」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向和位置。因此，使用的方向和位置用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。
实施例：
如图1与图2所示，本实用新型提供了一种铝板加工用多弧型离子镀膜机，包括真空炉体1，采用真空炉体1对铝板加工提供真空环境，真空的环境可以使得等离子体在内部高速流动，所述真空炉体1内部设置有若干个弧形溅射靶2，弧形溅射靶2利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，所述弧形溅射靶2两端设置有屏蔽挡板3，所述屏蔽挡板3通过万向轴4连接在真空炉体1上，屏蔽挡板3可以很好的避免等离子出现扩散的情况，可以保持等离子流束集中，所述真空炉体1内壁上设置有若干个弧靶5，所述真空炉体1内部设置有旋转轴6，所述旋转轴6连接有支撑杆7，所述支撑杆7通过四个固定杆8连接有铝板固定装置9，在使用的时候，将铝板放置在铝板固定装置9内，随后驱动装置开启后，带动旋转轴6转动，使得铝板在真空炉体1内部匀速转动，均匀的接收到各个方向上的等离子，进行很好的镀膜操作，确保铝板每个部位都能接收到等离子，而且可同时加工多个铝板，提高了加工效率；
如图2所示，所述铝板固定装置9包括两个不锈钢框架10，其中一个不锈钢框架10四个拐角处设置有安装脚11，所述安装脚11内设置有安装螺孔12，所述不锈钢框架10之间通过铰链13连接在一起，所述不锈钢框架10内部设置有若干根碳纤维细绳14，所述不锈钢框架10上设置有锁紧扣15，将铝板放置在不锈钢框架10内部，通过纤细的碳纤维细绳14固定，避免遮挡铝板，使得铝板各个部位都暴露在外，接收到等离子的镀膜加工。
如图1所示，所述真空炉体1外侧设置有圆弧形的散热板16，所述散热板16采用铜材料制成，提高了真空炉体1的散热能力。
如图1所示，所述真空炉体1下端设置有支撑足17，所述支撑足17内部设置有缓冲弹簧18，所述缓冲弹簧18下端设置有防滑垫层19，提高了设备的稳定性，避免振动影响镀膜工作进行。
如图1所示，所述支撑杆7与旋转轴6之间设置有加强筋20，所述加强筋20横截面为三角形结构，提高了支撑杆7的结构强度。
如图2所示，所述不锈钢框架10上设置有连接块21，所述连接块21内部设置有吸附磁铁22，提高了不锈钢框架10连接的紧密性，很好的固定铝板。
如图2所示，所述碳纤维细绳14上设置有若干个硅胶防滑套23，防止铝板在不锈钢框架10内部滑动。
综上所述，本实用新型的主要特点在于：
（1）本实用新型通过溅射靶配合弧靶产生等离子体，对铝板进行多弧形镀膜加工操作，内部设置了可调节角度的屏蔽挡板，可以有效的避免等离子体溅射出现偏差，提高了镀膜的加工效率；
（2）本实用新型通过特殊的固定装置，可以很好的将铝板固定住，并且将铝板的绝大部分暴露在外，方便等离子体对铝板表面进行镀膜操作，提高了镀膜操作的完整性，使得铝板得到更加全面的镀膜，值得推广。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。