技术特征：
技术总结
本发明公开了一种V纳米线增强的宽滞后NiTiV形状记忆合金，属于新型金属的生产技术领域。该合金由镍、钛和钒三种原料组成，其中：钒的原子百分比为9～25％，镍和钛原子百分比满足：|Ni％‑Ti％|≤2％。该合金是通过熔炼、锻造和拉拔的方法得到的；在熔炼过程中镍钛与钒发生共晶反应，生成尺寸十分细小的片层状β‑V相，片层厚度小于300纳米；而在锻造和拉拔过程中，细小的钒片层继续发生变形，最终形成直径小于50纳米的纳米线。与NiTiNb合金相比，NiTiV具有较小的密度，有利于其应用为航空航天材料；与Nb相比，V的熔点更低，方便熔炼和热处理；相比已有的NiTiV合金，本发明中V含量较高，原子百分比为9～25％，能够更有效的提高合金的相变滞后。
技术研发人员：史晓斌;毛虎;杨宏亮;李永涛
受保护的技术使用者：安徽工业大学
技术研发日：2018.04.11
技术公布日：2018.09.14