技术特征:
技术总结
一种通过PEALD在衬底上形成膜的方法包含沉积循环,每个沉积循环包含:(i)以脉冲形式将前体馈送到反应空间以使前体吸附在衬底的表面上;(ii)在步骤(i)之后,将RF功率施加于第二电极以在所述反应空间中产生等离子体,前体吸附的所述表面暴露于所述等离子体,由此在所述表面上形成子层;以及(iii)在步骤(ii)中施加RF功率时将偏置电压施加于所述第二电极,参考第一电极的表面上的电位,所述偏置电压为负,其中所述循环重复以沉积多个子层,直到由所述子层构成的膜具有所要厚度。
技术研发人员:铃木俊哉
受保护的技术使用者:ASMIP控股有限公司
技术研发日:2018.06.26
技术公布日:2019.02.05