真空镀膜流片传递装置及其传递方法与应用与流程

本发明属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜流片传递装置及其传递方法与应用。

背景技术：

有机薄膜电致发光显示器件（oled），是有机半导体材料在电场作用下发光的一项新兴技术，近年来得到了迅速发展。oled照明产品的低能耗、环保、超薄、高色彩饱和度、面光源等优点，使其成为未来照明产品发展的主流趋势之一。现如今oled照明器件主要通过蒸发镀膜的方法制备，在实际生产中，因为其要在高真空条件下生产，并且具有多道蒸镀工艺，传统的产线方案是采用团簇式（cluster）结构，即多个八角腔体相连，每个八角腔体的各个边上安装不同功能的蒸镀腔体，处于中间的八角腔体作为传输用，内部安装有传输用机械手，所蒸镀的产品（玻璃基片）依次通过每个八角腔体。八角腔体作为传递腔体，其主要靠真空机械手完成基片从一个功能腔体到另外一个功能腔。对于大型蒸镀生产线来说，真空机械手价格昂贵，由于传递的一般是传递玻璃基片，重量较轻，导致每个功能的蒸镀腔体都需对位装置，而且此传递方式蒸发源只能为点源，无法实现线蒸发源方式蒸发，效率低，材料利用率低。

技术实现要素：

为了解决现有技术的不足，本发明提供了一种膜流片传递装置及其传递方法与应用。

本发明的目的通过以下技术方案来实现：

一种真空镀膜流片传递装置，包括传递室、设置于传递室内的传输组件及与所述传输组件传动连接的驱动机构；所述传递室的侧壁上开设有传递窗，所述传递室通过各所述传递窗分别与不同的功能室连通；

所述驱动机构包括水平驱动组件和旋转驱动组件；所述旋转驱动组件与所述传输组件传动连接，用于周向转动所述传输组件，以调整传输组件的传输方向；

所述传输组件包括承载支架、传输轴和传输轮，所述传输轮通过传输轴设置于所述承载支架上，所述传输轮设置有一个以上，所述传输轮与所述水平驱动组件同步传动连接。

优选地，所述旋转驱动组件包括第一电机、与第一电机输出轴传动连接的磁流体密封件，所述磁流体密封件的一端与所述传输组件连接。

优选地，所述传输组件还包括固定连接于所述传输轴上的同步轮及连接于各所述同步轮之间的传输带，所述同步轮通过传输带同步传动。

优选地，所述水平驱动组件包括第二电机，与第二电机输出轴连接的驱动轮，所述驱动轮通过传动带与同步轮传动连接。

优选地，所述磁流体密封件包括轴套及转轴，所述转轴的一端与所述传输组件连接，另一端与第一电机传动连接，所述转轴内设置有中空腔体，所述驱动轮及传动带设置在所述中空腔体内，所述第二电机固定设置在所述转轴上。

优选地，所述承载支架的两侧设置有相互对应的第一限位组件，相对设置的两个第一限位组件间的距离与所述样品的宽度相当，所述第一限位组件设置于相邻传输轮之间。

优选地，所述传递室的侧壁上设置有第二限位组件，所述第二限位组件相对设置在传递窗的两侧。

优选地，所述传递室底部设置有用于支撑所述样品的传递支撑轮，所述传递支撑轮分别设置于传递窗下方。

优选地，一种真空镀膜生产线，包括至少一个如以上任意一项所述的真空镀膜流片传递装置，还包括多个功能室，所述多个功能室为依次连接的基片掩膜的贴合室、第一有机蒸镀室、第一传输过渡室、第二有机蒸镀室、基片掩膜的分离室及第二传输过渡室，所述贴合室与分离室之间通过第二传输过渡室首尾相接形成环形结构，所述真空镀膜流片传递装置的传递室设置于任意两个所述功能室之间。

优选地，以上任意所述的真空镀膜流片传递装置或所述的真空蒸镀生产线的样品传递方法，其传递方法包括如下步骤，

s1、启动所述旋转驱动组件，调整传输组件的传输方向，使之与待传递样品的传递窗相对应；

s2、将待传递的样品从传递室一侧通过传递窗进入传递室，并使样品支撑在传输轮上；

s3、启动水平驱动组件，驱动传输轮运转，所述传输轮带动所述样品达到旋转操作位置；

s4、旋转驱动组件驱动传输组件旋转预定角度；

s5、水平驱动组件驱动传输轮继续传输，直至样品传出传递装置。

本发明的有益效果体现在：实现对位后的样品架在各个功能腔中自由传递。采用线性传递方式，使得功能腔中的蒸发源可以用线源，提高效率以及材料利用率。同时，本发明的结构可以实现生产线的开环及闭环型结构，提高效率及场地利用率。

附图说明

图1：本发明所述真空镀膜流片传递装置的立体结构示意图。

图2：图1的另一视角立体结构示意图。

图3：本发明所述真空镀膜流片传递装置的的剖面结构示意图。

图4：本发明所述真空镀膜流片传递装置在使用时的结构示意图。

图5：本发明所述真空镀膜流片传递装置的与其它功能室配合示意图。

图6：本发明所述真空镀膜生产线示意图。

具体实施方式

以下结合实施例及附图具体阐述本发明的技术方案，本发明揭示了一种真空镀膜流片传递装置，结合图6所示，该传递装置应用于真空镀膜生产线中。所述生产线有多个功能室构成，所述多个功能室为依次连接的基片掩膜的贴合室51、第一有机蒸镀室52、第一传输过渡室53、第二有机蒸镀室54、基片掩膜的分离室55及第二传输过渡室56，所述贴合室51与分离室55之间通过第二传输过渡室53首尾相接形成环形结构，所述真空镀膜流片传递装置的传递室1设置于任意两个所述功能室之间。具体的，结合图1-图5所示，所述真空镀膜流片传递装置包括设置于机架3上的传递室1、设置于传递室1内的传输组件及与所述传输组件传动连接的驱动机构。为了方便移动，所述机架3的底部设置有移动滚轮31。所述传递室1的侧壁上开设有传递窗11，所述真空镀膜流片传递装置通过各所述传递窗11分别与不同的功能室连通。所述传递室1的结构可以多样化，采用方形、圆形或多边形，本实施例中采用四边形，所述传递窗11设置于传递室1的各侧壁上。

所述驱动机构包括水平驱动组件和用于周向转动所述传输组件的旋转驱动组件；所述旋转驱动组件与所述传输组件传动连接，以调整传输组件的传输方向。

所述传输组件包括承载支架2、传输轴21和传输轮22，所述传输轮22通过传输轴21设置于所述承载支架2上，所述传输轮22设置有一个以上，所述传输轮22与所述水平驱动组件同步传动连接。本实施例中所述传输轮22设置有四组，避免样品在传输中由于摩擦力不足造成打滑现象。同时，由于样品在传输过程中可能会出现侧向偏移的情况，为更好的进行限位，所述传输轮22周圈采用阶梯式，且传输轮22接近传输轴21端的阶梯面较低，所述样品置于相对的传输轮22之间的阶梯端面上。

所述传输轴21上固定连接有同步轮23，各所述同步轮23之间连接有传输带24，所述同步轮23通过传输带24同步传动。为更好的配合传动，避免传输带打滑,相邻的同步轮之间设置有压轮25，所述压轮25压持在传输带24上，使得传输带24保持一定张力，增大传输带24与同步轮之间的摩擦力，避免打滑，确保精确传动。

为了辅助样品在传输过程中的限位，所述承载支架2的两侧设置有相互对应的第一限位组件211，相对设置的两个第一限位组件211间的距离与所述样品的宽度相当，所述第一限位组件211设置于相邻传输轮22之间，本实施例中，所述第一限位组件211采用限位轮形式，在精确限定水平传递方向的同时，减少第一限位组件211与所述样品之间的摩擦力。所述传递室1的侧壁上设置有第二限位组件222，所述第二限位组件222相对设置在传递窗11的两侧。

所述传递室1底部设置有用于支撑所述样品的传递支撑轮223，所述传递支撑轮223分别设置于传递窗11下方，由于传输轮22距离传递窗11一定距离，当样品的一端从一个功能室通过传递窗11进入传递室1时，或者当样品从通过传递窗11进入下一个功能室时，样品4的伸出端没有受力点，易发生翻落，通过所述支撑轮223支撑在所述样品的端部，避免所述样品重心不平稳发生翻落。为避免基片端部被碰上，一般将基片置于样品架上进行传输，即本发明中的样品4优先采用样品架。

所述旋转驱动组件包括设置在传递室1外部的第一电机61、磁流体密封件28，所述磁流体密封件28一端与第一电机输出轴传动连接，所述磁流体密封件28的另一端穿过传递室1的腔壁与所述传输组件连接。所述磁流体密封件28设置于传递室1下方，所述磁流体密封件28包括转轴及套设在所述转轴外的轴套，所述转轴的一端与承载支架2连接，另一端通过传动带与第一电机61的输出轴传动连接，所述第一电机输出轴转动带动所述转轴转动，从而驱动所述传输组件整体转动，从而调节传输组件的水平传递方向，与各传递窗相对应。

所述水平驱动组件包括第二电机6，与第二电机6输出轴连接的驱动轮26，所述驱动轮26通过传动带27与同步轮23传动连接。具体地，所述磁流体密封件的转轴内设置有一端开口的中空腔体，所述驱动轮26及传动带27设置在所述中空腔体内，所述第二电机6固定设置在所述转轴上。所述第二电机6的输出轴穿过所述转轴的侧壁，与所述中空腔体内的驱动轮同轴连接，所述传动带27的一端绕过驱动轮26，另一端通过所述开口传动所述同步轮23，第二电机转动带动同步轮转动，从而驱动传输轮转动，沿水平方向输送所述样品。所述驱动轮26也可以采用齿轮或链轮形式，在此不做限制。本发明还揭示了以上所述的真空镀膜流片传递装置或所述的真空蒸镀生产线的样品传递方法，其传递方法包括如下步骤，

s1、启动所述旋转驱动组件，调整传输组件的传输方向，使之与待传递的样品4的传递窗相对应；

s2、将待传递的样品4从传递室1一侧通过传递窗11进入传递室，并使样品支撑在传输轮22上；

s3、启动水平驱动组件，驱动传输轮22运转，所述传输轮22带动所述样品达到旋转操作位置；

s4、旋转驱动组件驱动传输组件旋转预定角度；若需要在相互垂直的第一功能室71或第二功能室72中传输，则传输组件的旋转角度为90°。

s5、水平驱动组件驱动传输轮继续传输，直至样品4传出传递装置。

本发明中的样品可以为基片也可以为样品架，其通过旋转驱动组件及水平驱动组件相结合，可以随生产要求，将样品在各个功能腔中自由传递，大大的提高了传输效率。

以下，结合真空镀膜生产线工作过程阐述真空镀膜流片传递装置的具体应用，本实施例中，所述传递室1具有四个，分别设置在第一传输过渡室53两端，以及第二传输过渡室56两端。所述真空镀膜生产线在工作时，基片清洗后导入基片掩膜贴合室51，与mask对位后一起固定在mask卡夹上，与mask卡夹一起由腔体内部的传输机构向前传动，经过第一有机蒸镀室52完成第一次有机材料蒸镀，然后经过两个所述传递室1及第一传输过渡室回转180°后再经过第二有机蒸镀室54完成第二次有机材料蒸镀。蒸镀完成后，基片传输至基片mask分离室，将基片与mask卡夹分离，基片由机械手取走进行后端的电极蒸镀，mask卡夹经由两个所述传递室1及第二传输过渡室回转180°后再次传输至基片掩膜贴合室51，装载下一个基片后继续蒸镀。在蒸镀过程中，基片作均速运动，线源静止，简化的线性蒸镀源的结构和基片运动的控制逻辑。上一片蒸镀完的mask直接回流至起点接下一片基片，提高了mask的利用率，大大提高了生产效率。所述真空镀膜流片传递装置应用在所述环形生产线中，相比于机械手等传递转向方式能够更加有效的利用真空蒸镀产线的空间，能够快速精确的调整大型基片或样品架的传递方向，提高整个生产线的工作效率。

当然本发明尚有多种具体的实施方式，在此就不一一列举。凡采用等同替换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本发明要求保护的范围之内。