一种凹面抛光冶具的制作方法

文档序号:21868333发布日期:2020-08-14 19:36阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种凹面抛光冶具,包括底板(1),其特征在于,本凹面抛光冶具还包括设置底板(1)上且相对于底板(1)凸起的抛光底座(2),以及设置在所述抛光底座(2)侧边的限位件(3),所述抛光底座(2)上设有防磨贴(4),且所述限位件(3)的高度大于所述抛光底座(2)与防磨贴(4)的高度之和。

2.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述底板(1)上设置有呈中空状的定位套(5),所述定位套(5)的内侧面与所述限位件(3)的外侧面抵靠。

3.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)包括呈环状的限位环(3a),所述限位环(3a)固定设置在所述底板(1)上,且所述限位环(3a)的内侧面与所述抛光底座(2)的外侧面形成抵靠。

4.根据权利要求2所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)包括设置在底板(1)上且呈环状的第一限位环(3b)以及叠加设置在第一限位环(3b)上且与所述第一限位环(3b)同轴设置的第二限位环(3c),所述第一限位环(3b)的内侧面与所述抛光底座(2)的外侧面形成抵靠。

5.根据权利要求4所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述第二限位环(3c)与所述第一限位环(3b)的外径相等,且所述第二限位环(3c)的外侧面与所述定位套(5)的内侧面抵靠。

6.根据权利要求5所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述第一限位环(3b)的横截面积大于第二限位环(3c)的横截面积,且所述第一限位环(3b)的顶面所在平面低于所述抛光底座(2)的顶面所在平面。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述限位件(3)由硅胶材料制成。

8.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述防磨贴(4)为铁氟龙胶带。

9.根据权利要求1所述的一种凹面抛光冶具,其特征在于,所述防磨贴(4)为丁基防水胶带。


技术总结
本实用新型提供了一种凹面抛光冶具,属于抛光技术领域。它解决了在扫光过程中现有冶具与工件的接触表面会被冶具磨伤的问题。一种凹面抛光冶具,包括底板、设置底板上且相对于底板凸起的抛光底座,以及设置在所述抛光底座侧边的限位件,所述抛光底座上设有防磨贴,且所述限位件的高度大于所述抛光底座与防磨贴的高度之和。本实用新型通过将高度大于工件与抛光底座以及防磨贴三者的最大高度之和的限位环与防磨贴共同配合,保证在毛刷对凹面打磨扫光的时候,工件的凸面不会被毛刷打磨到,保证工件各个部分的尺寸精度,不会出现薄厚不一的情况。

技术研发人员:夏永光;王芳
受保护的技术使用者:浙江星星科技股份有限公司
技术研发日:2019.12.25
技术公布日:2020.08.14
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