一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置的制作方法

本实用新型涉及磁控溅射领域，尤其涉及一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置。

背景技术：

现有磁控溅射镀膜中，需要向磁控溅射镀膜腔室内输入工艺气体，才能产生溅射，现有技术方案是由盖板顶部开孔进行供气，盖板在腔室外，由于盖板在保养时要卸载，盖板上的气管接头也需要拆下，会造成漏气现象，且要多次安装，极其不便。

技术实现要素：

为了解决现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，使工艺气体在腔室内均匀分布出气分布更均匀，提升溅射均匀性，所述技术方案如下：

本实用新型提供一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，所述供气装置设置在磁控溅射镀膜腔室内，所述供气装置通过连接部与外部气源连通，所述供气装置用于向腔室内输送工艺气体，所述供气装置包括两个相对设置且相连通的供气单元，每一个供气单元包括容置腔及至少一个管路单元，所述容置腔与管路单元平行设置，所述容置腔沿磁控溅射镀膜腔室长度方向延伸；所述管路单元具有进口端和出口端，所述进口端与外部气源连通，所述出口端与容置腔连通以用于向容置腔内输送工艺气体，所述容置腔的一侧壁在长度方向上设置有多个间隔设置的出气孔。

进一步地，所述容置腔为具有中空空间的长方体结构，所述容置腔的外侧壁设置有至少一个用于供所述管路单元的出口端穿过的安装孔。

进一步地，所述供气单元外设置有用于计量流经其的气体的流量计。

进一步地，多个所述出气孔均匀分布在所述容置腔上，每相邻两个出气孔之间的间距为100-150mm。

进一步地，当每个供气单元中包括多个管路单元时，两侧的管路单元一一对应且相互连通。

进一步地，所述连接部为方体结构，所述连接部上设置有至少一个供所述管路单元通过的开孔。

进一步地，两侧的容置腔上具有出气孔的一侧壁平行设置，使得两侧的出气孔的延伸方向平行。

进一步地，所述供气装置还包括设置在所述容置腔及多个管路单元外的支撑架，所述支撑架的一端为开放结构。

进一步地，所述供气单元外设置有与管路单元连接的可控阀。

进一步地，所述管路单元包括多个依次连接的管路，多个管路之间通过接头连接。

本实用新型提供的技术方案带来的有益效果如下：

a.本实用新型提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，使工艺气体在腔室内均匀分布出气分布更均匀，提升溅射均匀性；

b.本实用新型提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，安装简单方便，一次安装后，无需拆装。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置的立体图；

图2是本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置的图1的放大图；

图3是本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置在腔室内俯视图；

图4是本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置的支撑架的立体图。

其中，附图标记包括：1-供气单元，11-容置腔，12-管路单元，13-接头，14-出气孔，15-进口端，16-出口端，2-连接部，3-支撑架，4-腔室。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本实用新型的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、装置、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。

在本实用新型的一个实施例中，提供了一种磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，具体结构参见图1、图2和图3，所述供气装置设置在磁控溅射镀膜腔室4内，腔室4为中空的长方体结构，所述供气装置通过连接部2与外部气源连通。所述供气装置用于向腔室4内输送工艺气体，所述供气装置包括两个相对设置且相连通的供气单元1，每一个供气单元1包括容置腔11及至少一个管路单元12，所述容置腔11与管路单元12平行设置，所述容置腔11沿磁控溅射镀膜腔室4长度方向延伸，即磁控溅射镀膜腔室4长度方向的两侧分别设置有容置腔11，两个容置腔11相对设置。

所述管路单元12和容置腔11的具体结构如下：所述管路单元12具有进口端15和出口端16，参见图1和图2，所述进口端15与外部气源连通，所述出口端16与容置腔11连通以用于向容置腔11内输送工艺气体，所述容置腔11的一侧壁在长度方向上设置有多个间隔设置的出气孔13，多个所述出气孔13优选均匀分布在所述容置腔11上，每相邻两个出气孔13之间的间距为100-150mm，优选为100mm，使得供气十分均匀，间距更小，气体分布更均匀；出气孔13为圆形结构、方形结构、菱形结构、星形结构、多边形结构等。两侧容置腔11上的所述出气孔13优选相对设置，两个容置腔11上具有出气孔13的一侧壁平行设置，使得两侧的出气孔13的延伸方向平行。

所述容置腔11的具体结构如下：参见图2，所述容置腔11为具有中空空间的长方体结构，所述容置腔11的外侧壁设置有至少一个用于供所述管路单元12的出口端16穿过的安装孔，当管路单元12设置为多个时，安装孔设置多个，多个所述管路单元12的出口端16均设置在对应的安装孔内，多个安装孔设置在一侧壁，且多个安装孔之间保持间距，以使得多个管路单元12均与容置腔11连通，外部气源通过管路单元12向容置腔11内通气，再通过容置腔11上的出气孔13向腔室4内供气，所述安装孔所在侧壁与出气孔所在侧壁相对设置。

所述供气装置还包括设置在所述容置腔11及多个管路单元12外的支撑架3，参见图4，所述支撑架3为中空结构，即支撑架3的一端为开放结构，所述容置腔11设置在支撑架3内，多个管路单元12均穿过支撑架3与容置腔11平行设置，支撑架3上设置多个供管路单元12穿过的开孔31，所述容置腔11和管路单元12为细长型结构，设置支撑架3来支撑和固定所述容置腔11和管路单元12，支撑架3通过紧固件(螺栓螺母组件)固定在腔室4内侧壁，方便拆卸安装。

所述管路单元12包括多个依次连通的管路，多个管路之间通过接头14连接，接头14优选为快速接头。当每个供气单元1中包括多个管路单元12时，两侧的管路单元12一一对应且数量一致且相互连通。所述管路单元12包括直线段和弯折段，以便于在腔室4内分布，所述管路单元12从腔室4宽度方向的一侧壁进入腔室4，且向两侧的长度方向的侧壁延伸，必须有弯折段才使得管路能沿三个侧壁延伸。

进一步地，所述供气单元1外设置有用于计量流经其的气体的流量计，所述供气单元1外设置有与管路单元12连接的可控阀，打开可控阀时，气体进入腔室4；关闭可控阀时，气体无法进入腔室4。每个供气单元1中，每个管路单元12单独供气，当使用某一管路单元12时，外部控制器控制外部供气流量计即可对该段独立供气。

所述连接部2的具体结构如下：所述连接部2设置在腔室4外侧壁，其为方体结构，所述连接部2上设置有至少一个供所述管路单元12通过的开孔，所述连接部2用于连接外部气源，也方便拆卸安装。

本实用新型提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，使工艺气体在腔室内均匀分布出气分布更均匀，提升溅射均匀性；本实用新型提供的磁控溅射镀膜工艺气体供气装置，安装简单方便，一次安装后，无需拆装。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。