一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法
技术领域
1.本发明涉及一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法，属于玻璃表面处理技术领域。
背景技术：
2.随着电子产品的日益发展，人们对于智能穿戴产品的要求也越来越高，尤其是对电子产品的盖板如手机面板或手表的表盖等显示屏的质量要求也更高，为了提升这些产品的使用体检，目前大多是通过对显示盖板的表面进行镀膜处理来提升其整体性能，如通过在表面镀增透膜层、防指纹af膜层、耐强碱性等性能要求，来提高透光率和表面的抗污能力或耐人体汗液腐蚀的优点，但是，现有的玻璃面板表面的af膜层都是从水接触角的性能来实现表面光滑以达到防指纹的功能，如现有的专利文献(公开号：cn206003070u)公开的在玻璃表面镀af膜的结构膜层，其仅是通过改善表面的水接触角，来实现提高表面防指纹的能力，但是，其不能很好的解决uv对膜层的影响，抗uv的性能不好，且也不能很好的解决汗液腐蚀的缺陷；还有的为了提高af膜层的抗强碱性能，有通过使在防指纹af膜表面镀设碱金属的氟化物形成氟化物膜层，来提高抗人体汗液腐蚀的功能，但是，其同样不能使表面具有抗uv的性能，在紫外照射影响下，不利于膜层性能的体现，抗uv性能不佳的问题。
技术实现要素：
3.本发明针对以上现有技术中存在的问题，提供一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法，解决的问题是如何实现具有抗uv的同时兼具高附着结合力和耐碱腐蚀的性能。
4.本发明的目的是通过以下技术方案得以实现的，一种抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法，该方法包括以下步骤：
5.a、将清洁后待镀膜的透明玻璃基板放入镀膜机的真空镀膜腔室内，抽真空后，以二氧化硅为靶源进行镀膜处理使在透明玻璃基板的正面进行镀膜形成sio2镀膜层；
6.b、关闭sio2靶源，通过将通入的氩气转换成离子束，使离子束打到sio2镀膜层的表面进行离子源清洗，再以af药剂为靶源进行蒸镀使在sio2镀膜层的表面沉积形成防指纹af膜层，得到相应的镀膜后的玻璃盖板；所述af药剂包括以下成分的重量份：
7.抗uv氟聚合物：5～6；乙基全氟丁基醚：8～12。
8.通过对af膜的药剂成分进行改进，采用抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚共同作用，能够实现具有抗uv的性能，使在uv照射下仍具有高耐强碱性；同时，通过加入乙基全氟丁基醚能够有效的改善体系的空间效应，使形成的膜层具有高致密性，而加入的抗uv氟聚合物中的氟碳键的键能较高，氟原子的电负性最大，能够增大与其相连的碳原子的斥力，使氟原子外迁排列在外侧，表面能降低，从而提高其表面的水接触角，达到防指纹的性能；另一方面，为了解决该af膜层在酒精擦拭测试中易出现脱落的问题，经过大量的研究发现，本发明通过在其之前增加离子源清洗过程，使形成的离子束冲击到sio2镀膜层(二氧化硅镀膜层)的表面进行清洗，能够改善sio2镀膜层表面的能量分布和使后续af膜层的镀膜过程
中能增加反应气体的能量，提高表面的活性能力，利用结合的稳定性；且在冲击过程中还能避免前步镀膜过程中的物质残留在内部飘浮而吸附在sio2镀膜层的表面或掺入到后续防指纹af膜层，影响到防指纹af膜层的附着力，以及直接掺入到防指纹af膜层内，破坏该防指纹af膜层的连续性，改善膜层的硬度和抗强碱的性能，实现具有高抗uv的性能，且uv照射后仍能够保持兼具高附着力和耐强碱的性能，实现酒精擦拭不会出现脱落的效果。上述的玻璃面板可以是智能产品如手机、平板电脑等电子产品的显示面可或手表的表盖等。
9.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，步骤b中所述离子源清洗的时间为3～5min。通过使离子源充分冲击sio2镀膜层的表面，能够更有效的改善sio2镀膜层的表面活化能，有利于后续的af膜层的附着结合，提高结合力的效果。最好使sio2镀膜层的厚度为15nm～18nm。
10.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，步骤b中所述抗uv氟聚合物选自大金主剂、聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和硅烷改性的氟聚合物的一种或几种。能够使形成的膜层具有更加牢固和致密的结合能力，使在uv照射后，仍具有高附着力和耐碱性时间长的效果。
11.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，所述硅烷改性的氟聚合物选自聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms。能够使得碳碳主轴作螺旋排列且被氟原子完全包裹，基团中的
‑
cf3的空间排布也更紧密，使单位体积中的氟原子含量增高，氟原子间的作用力较小，促使氟原子更易于外迁，使表层氟元素富集，从而使表面具有更好的防指纹的功能，且也能够提高膜层的耐强碱的性能，而通过硅烷进行改性，能够使镀膜过程中与二氧化硅镀膜层之间形成键合，也能更有效的提高膜层间的结合力的效果，对于聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的材料可通过全氟聚醚烯丙醇与有机硅烷进行共聚形成，这里的有机硅烷为3
‑
(丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷。进一步的，聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的分子量最好采用3500
‑
6000的范围。更进一步的优选，最好使抗uv氟聚合物中至少含有聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的材料。
12.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，所述抗uv氟聚合物选自大金主剂和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且所述大金主剂与聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.3～0.5。能够保证实现具有高抗uv的性能，且通过加入一定量的聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms能够更好的实现兼具耐碱性和提高膜层结合力的效果。作为另一优选方案，所述抗uv氟聚合物为聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且所述聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.5～0.6：0.3～0.5。通过聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯的加入能够实现具有高抗uv的性能，同时结合采用的聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms以及它们之间的用量比例，有效的实现兼具uv照射后仍具有高耐碱的性能和结合力的效果，采用酒精擦拭不会出现膜脱落的效果。
13.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，步骤a中所述sio2镀膜层镀膜前，先将通入的氩气转换成离子束，使离子束打到玻璃面板正面的表面进行离子源清洗10min～15min。能进一步的提高sio2镀膜层与玻璃面板之间的结合力，进一步的提升膜层之间的结合效果。
14.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，步骤a中所述玻璃基板采用有机玻璃、pmma或亚克力制成。能够与sio2镀膜层之间形成更有效的结合，有利于保证具有更好的附着结合力的效果。
15.在上述抗uv耐碱玻璃盖板表面的镀膜方法中，作为优选，所述玻璃盖板选自智能显示屏的显示面板或手表表盖。
16.综上所述，与现有技术相比，本发明具有以下优点：
17.1.通过在二氧化硅镀膜之后先进行离子源清洗处理和采用上述的抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚的共同作用，能够有效的实现兼具高附着力和高抗uv的性能，uv照射下仍保持有高耐强碱的性能，使实现酒精擦拭不会出现脱落的效果，具有高结合力的性能，兼具高防指纹的性能。
18.2.本发明通过进一步的控制使至少加入一定量的聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms能够更好的实现兼具耐碱性和提高膜层结合力的效果。
具体实施方式
19.下面通过具体实施例，对本发明的技术方案作进一步具体的说明，但是本发明并不限于这些实施例。
20.实施例1
21.将待加工的透明的透明玻璃基板(手表的表盖)进行除污、除油后，再进行超声波清洗并干燥，得到清洁后的玻璃基板，将清洁后待镀膜的玻璃基板放入电子束蒸镀机(韩一2050镀膜机)的真空镀膜腔室内，进行抽真空后，待真空值小于或等于2.0x10
‑5托，启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到玻璃基板表面进行离子源清洗10min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机，等待3min后，再进行抽真空，将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，控制温度在60℃～65℃，采用电子枪将二氧化硅靶源进行蒸发后，使以纳米级分子形式沉积在玻璃基板的表面形成相应的纳米级的sio2镀膜层，厚度控制在16nm，沉积结束后，关闭sio2靶源，以及关闭氧气通入，再启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到sio2镀膜层表面进行离子源清洗3min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机后，先停留3min后进行操作，继续抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，采用电阻蒸发的蒸镀方式将af药剂蒸发沉积在sio2镀膜层的表面形成相应的防指纹af膜层，控制膜层的厚度为16nm，这里的af药剂采用的材料为抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚的混合药剂，且抗uv氟聚合物：乙基全氟丁基醚的质量比为5：8，抗uv氟聚合物为日本大金主剂，结束后，关闭靶源，降温，排空后，取出，得到镀膜后的玻璃盖板。
22.进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射48小时后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持60小时无损伤，膜层完好，且经过7000次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
23.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
24.上述抗ph值耐强碱性能测试采用的碱性汗液采用以下条件如下：
25.①
准备好汗液调试材料冰乙酸、氯化钠、无水磷酸氢二钠、氢氧化钠；
26.②
分别取5g氯化钠(分析纯)和5g无水磷化氢二钠(分析纯)并加入到250ml的a烧杯中(烧杯中无水)；
27.③
用量筒取100ml的纯水(ph7.0)并倒入烧杯中；
28.④
用离子搅拌机搅拌溶液使固体充分溶解，肉眼看不见明显颗粒物；
29.⑤
用吸管小心的向混合溶剂中滴入氢氧化钠溶液(95ml的纯水，5g氢氧化钠(分析纯)调配)使其ph值达到9.5或继续调至10.5；将混合溶液倒50ml进入b烧杯中，b烧杯溶液即为所需碱性汗液。
30.以下实施例中的抗ph值耐强碱性能测试采用相同的碱性汗液进行测试。
31.实施例2
32.将待加工的透明的透明玻璃基板(手表的表盖)进行除污、除油后，再进行超声波清洗并干燥，得到清洁后的玻璃基板，将清洁后待镀膜的玻璃基板放入电子束蒸镀机(韩一2050镀膜机)的真空镀膜腔室内，进行抽真空后，待真空值小于或等于2.0x10
‑5托，启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到玻璃基板表面进行离子源清洗15min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机，等待3min后，再进行抽真空，将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，控制温度在60℃～65℃，采用电子枪将二氧化硅靶源进行蒸发后，使以纳米级分子形式沉积在玻璃基板的表面形成相应的纳米级的sio2镀膜层，厚度控制在18nm，沉积结束后，关闭sio2靶源，以及关闭氧气通入，再启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到sio2镀膜层表面进行离子源清洗5min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机后，先停留5min后进行操作，继续抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，采用电阻蒸发的蒸镀方式将af药剂蒸发沉积在sio2镀膜层的表面形成相应的防指纹af膜层，控制膜层的厚度为16nm，这里的af药剂采用的材料为抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚的混合药剂，且抗uv氟聚合物：乙基全氟丁基醚的质量比为6：10，且抗uv氟聚合物为日本大金主剂和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且日本大金主剂与聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.3，结束后，关闭靶源，降温，排空后，取出，得到镀膜后的玻璃盖板。
33.进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射5分钟后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持80小时无损伤，膜层完好，且经过8000次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
34.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
35.实施例3
36.将待加工的透明的透明玻璃基板(手表的表盖)进行除污、除油后，再进行超声波清洗并干燥，得到清洁后的玻璃基板，将清洁后待镀膜的玻璃基板放入电子束蒸镀机(韩一2050镀膜机)的真空镀膜腔室内，进行抽真空后，待真空值小于或等于2.0x10
‑5托，启动霍尔
离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到玻璃基板表面进行离子源清洗12min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机，等待3min后，再进行抽真空，将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，控制温度在60℃～65℃，采用电子枪将二氧化硅靶源进行蒸发后，使以纳米级分子形式沉积在玻璃基板的表面形成相应的纳米级的sio2镀膜层，厚度控制在17nm，沉积结束后，关闭sio2靶源，以及关闭氧气通入，再启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到sio2镀膜层表面进行离子源清洗4min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机后，先停留4min后进行操作，继续保持抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，采用电阻蒸发的蒸镀方式将af药剂蒸发沉积在sio2镀膜层的表面形成相应的防指纹af膜层，控制膜层的厚度为15nm，这里的af药剂采用的材料为抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚的混合药剂，且抗uv氟聚合物：乙基全氟丁基醚的质量比为5：12，且抗uv氟聚合物为日本大金主剂和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且日本大金主剂与聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.5，结束后，关闭靶源，降温，排空后，取出，得到镀膜后的玻璃盖板。
37.进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射5分钟后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持80小时无损伤，膜层完好，且经过8000次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
38.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃面盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
39.实施例4
40.本实施例的镀膜层后的玻璃基板的具体镀膜加工方法同实施例3一致，区别仅在于其中的af药剂的成分组成及含量不同，本实施例具体采用的af药剂为抗uv氟聚合物为聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且所述聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.5：0.5，聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的重均分子量在3500
‑
6000。
41.将得到的镀膜后的玻璃基板进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射15min后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持90小时无损伤，膜层完好，且经过8500次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
42.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
43.实施例5
44.本实施例的镀膜后的玻璃基板的具体镀膜加工方法同实施例3一致，区别仅在于其中的af药剂的成分组成及含量不同，本实施例具体采用的af药剂为抗uv氟聚合物为聚偏
氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且所述聚偏氟乙烯、聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.6：0.3，聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的重均分子量在3500
‑
6000。
45.将得到的镀膜后的玻璃盖板进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射15min后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持90小时无损伤，膜层完好，且经过8500次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
46.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
47.实施例6
48.本实施例的镀膜后的玻璃盖板的具体镀膜加工方法同实施例3一致，区别仅在于其中的af药剂的成分组成及含量不同，本实施例具体采用的af药剂为抗uv氟聚合物为聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且聚偏二氟乙烯和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.5，聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的重均分子量在3500
‑
6000。
49.将得到的镀膜后的玻璃盖板进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射5min后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持80小时无损伤，膜层完好，且经过8000次/往返的橡皮摩擦，也没有出现脱落的效果，表明uv照射后仍能保持具有较好的耐磨性能，具有较好的抗uv的耐侯性能，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
50.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层没有出现脱落或破损现象，说明具有较好的附着结合力的效果。
51.比较例1
52.为了说明本发明采用的af膜药剂后，在二氧化硅镀膜之后先进行离子源清洗对膜层结合力的影响，本比较例将该步骤省略进行具体的实施。
53.将待加工的透明的透明玻璃基板(手表的表盖)进行除污、除油后，再进行超声波清洗并干燥，得到清洁后的玻璃基板，将清洁后待镀膜的玻璃基板放入电子束蒸镀机(韩一2050镀膜机)的真空镀膜腔室内，进行抽真空后，待真空值小于或等于2.0x10
‑5托，启动霍尔离子源(韩一2050镀膜机)进行等离子清洗，即打开电源，功率控制在5kw左右，通入氩气使生成等离子体形成等离子束，将等离子束打到玻璃基板表面进行离子源清洗15min，清洗结束后，关闭氩气和霍尔离子源机，等待3min后，再进行抽真空，将真空镀膜腔室内抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，控制温度在60℃～65℃，采用电子枪将二氧化硅靶源进行蒸发后，使以纳米级分子形式沉积在玻璃基板的表面形成相应的纳米级的sio2镀膜层，厚度控制在18nm，沉积结束后，关闭sio2靶源，继续保持抽真空到小于或等于2.0x10
‑5托，待稳定后，采用电阻蒸发的蒸镀方式将af药剂蒸发沉积在sio2镀膜层的表面形成相应的防指纹af膜层，控制膜层的厚度为16nm，这里的af药剂采用的材料为抗uv氟聚合物和乙基全氟丁基醚的混合药剂，且抗uv氟聚合物：乙基全氟丁基醚的质量比为6：10，且抗uv氟聚合物为
日本大金主剂和聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的混合物，且日本大金主剂与聚合物pfpe
‑
co
‑
paptms的质量比为1：0.3，结束后，关闭靶源，降温，排空后，取出，得到镀膜后的玻璃盖板。
54.进行表面性能测试，使用uv(波段为10nm
‑
400nm)对产品进行照射5分钟后，模拟产品在太阳光强度照射，然后再进行测试，结果表明，经过模拟的uv照射下产品仍具有高抗ph值耐强碱性能，在人工汗液ph值为9.5的环境下保持70小时无损伤，膜层完好，且经过7000次/往返的橡皮摩擦，有出现脱落的现象，产品初始水接触角≥110
゜
，且经过摩擦后仍能保持水接触角≥100
゜
。
55.采用无纺布浸泡酒精后，对玻璃盖板的镀膜层表面进行擦拭，结果表明镀膜层出现局部脱落或破损现象，说明附着结合力有明显下降。
56.本发明中所描述的具体实施例仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
57.尽管对本发明已作出了详细的说明并引证了一些具体实施例，但是对本领域熟练技术人员来说，只要不离开本发明的精神和范围可作各种变化或修正是显然的。