一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法与流程

1.本技术涉及电镀领域，更具体地涉及一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法。


背景技术：

2.管件是工业部件中常见的结构件类型，在核电、石油化工、电气电工等领域有广泛应用，而针对各不同应用环境的服役工况，管件材料选择和所采取的表面镀层防护的功能需求都各不相同。不同的表面镀层材料性能需求则要求镀膜工艺可实现对膜层材料的微观结构和组织具有调控能力，如实现高耐腐蚀作用的非晶态薄膜，高耐磨作用的杂晶薄膜，以及一定光学作用的定向晶薄膜等。目前，热梯度调节法是实现管件表面防护镀膜材料微观晶体调控的有效方法之一。
3.磁控溅射是目前制备表面纳米至亚毫米厚度范围内薄膜镀层的常用手段，利用磁控溅射镀制管件表面镀层防护已有较多产业应用。在磁控溅射镀膜过程中，被镀件(也称衬底或基材)的沉积温度梯度控制对薄膜微观结构的调控起到至关重要的作用，尤其可以通过热梯度的调控来改变薄膜微观生长方向，从而改变薄膜的晶体学结构，使膜层表现出不同的宏观性能。目前，多数磁控溅射装备的研制已经通过热管辐射或加热带烘烤的方式实现在真空环境的密闭空间内对被镀件的加热，但这种稳态的恒温沉积方式热梯度为零，无法实现对微观晶体结构的调控。
4.要实现管件产品表面的单晶、定向晶或者等轴晶型微观晶体结构的薄膜均匀镀制，需利用管件产品作为半封闭结构的优势，设计一种用于磁控溅射真空腔体内的管件产品高热梯度薄膜沉积的自旋装置，进而通过自旋装置的均匀自旋方式和温度调控以实现均匀镀膜。
5.目前，镀膜长管产品较为麻烦，因此设计一种专用于长管产品的自转工装，进而通过工装的自转和温度调控以实现均匀镀膜的方式是很有必要的。
6.因此提供一种能镀膜长管产品、结构简单、使用便捷的用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法的需求是存在的。


技术实现要素：

7.本技术主要目的在于提供一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置，其中，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置能够有效地利用其自身的结构配置实现能镀膜长管产品、结构简单的优势。
8.本技术的另一目的在于提供一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置，其中所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置包括一自旋装置，所述自旋装置被设置能够转动，且具有冷却循环，进而实现均匀镀膜和温度调控。
9.为了实现上述至少一发明目的，本技术提供了一种用于磁控溅射实现管件产品高
热梯度薄膜沉积的装置，其中所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置包括：
10.一自旋装置，所述自旋装置被用于安装一长管产品，其中所述自旋装置包括一第一连接件，所述第一连接件的顶部具有一进水口，且所述第一连接件的侧壁具有一出水口，且所述第一连接件背离所述进水口的一端具有一进水管和一出水管；
11.一管体，所述管体被可转动地连接于所述第一连接件背离所述进水口的一端，且所述进水管和所述出水管均穿过所述管体；
12.一第二转动件，所述第二转动件具有一通孔，且管体背离所述第一连接件的一端与所述通孔固定连接，且所述长管产品与所述通孔背离所述管体的一端可拆卸连接，其中所述进水管和所述进水管均被置于所述长管产品内，置于所述长管产品内的所述进水管靠近所述长管产品背离所述第二转动件的一端，置于所述长管产品的所述出水管靠近所述第二转动件；以及
13.一冷却装置，所述进水口和所述出水口均与所述冷却装置相连。
14.在本技术一个或多个实施例中，所述自旋装置还包括一架体，所述架体由第一板体、一第二板体和两相对设置的第三板体组成，所述第一板体和所述第二板体相对设置，其中两所述第三板体的两端分别被固定连接于两所述第一板体和所述第二板体相互靠近的一侧，所述第一板体和所述第二板体均具有一第一插入孔和一安装槽，且所述第一插入孔和所述安装槽均贯穿所述第一板体和所述第二板体，所述第一连接件的一端被插入到所述第一板体的所述第一插入孔内，且所述管体被置于所述第一板体和所述第二板体之间。
15.在本技术一个或多个实施例中，所述自旋装置还包括一第一转动件和和一第一驱动部件，所述第一转动件与所述管体套接连接，并靠近所述第一连接件，所述第一驱动部件被固定连接于第一板体背离所述第二板体的一侧，且所述第一驱动部件正对所述第一板体的所述安装槽，所述第一驱动部件具有一转动端，所述转动端穿过所述第一板体的所述安装槽，并与所述第一转动件转动连接，其中当所述第一驱动部件运作时，所述转动端带动所述第一转动件转动，同时所述第一转动件带动所述管体进行转动。
16.在本技术一个或多个实施例中，所述自旋装置还包括两支撑件和两第二连接件，两所述支撑件分别位于所述管体的两侧，两所述第二连接件的两端分别与两所述支撑件相互靠近的一侧固定连接，且两所述第二连接件相对设置，进而使得两所述支撑件无法脱离所述管体，且两所述第二连接件均与所述管体相接触。
17.在本技术一个或多个实施例中，所述自旋装置还包括一插入件，所述插入件的一端被插入到所述第二板体的第一插入孔内，且另一端所述第二板体背离所述第一板体的一侧固定连接，且所述管体与所述插入件套接连接，其中所述第二转动件与所述插入件背离所述第二板体的一端转动连接。
18.在本技术一个或多个实施例中，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一镀膜室，所述镀膜室的具有一镀膜腔，且所述镀膜室的顶部具有一第三插入孔，且所述镀膜室与所述第三插入孔相连通，其中设于所述自旋装置上的所述长管产品被可滑动地插入到所述第三插入孔内，且所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一升降装置，所述升降装置被设于所述镀膜室的顶部，所述架体设于所述自旋装置上，且所述升降装置被设置能够控制所述自旋装置的高度，进而便于装卸设于
所述自旋装置上的所述长管产品。
19.为实现上述至少一发明目的，本技术提供了上述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置的工作方法，其中该工作方法包括：
20.s1：将所述管件产品插入到所述第二转动件的通孔内，并进行密封紧固；
21.s2:利用升降装置将所述长管产品插入到所述第三通孔内，以使所述长管产品被置于所述镀膜腔内，同时密封所述第三插入孔，以确保镀膜腔的密封性；
22.s3:外部水源与所述进水口相连，并往所述进水口内注水，从而使得所述长管产品内蓄满水；
23.s4：将所述进水口和所述出水口与所述冷却装置相连；
24.s5：利用所述抽气装置将所述镀膜腔抽至真空；
25.s6：利用所述充气装置向所述镀膜腔内通入氩气，再开启冷却装置，然后对所述长管产品加偏压，以对所述长管产品进行辉光溅射清洗；
26.s7：通过所述电动阀调节氩气流量，以使所述镀膜腔内的气压达到预定值，同时调节所述长管产品的偏压和和所述靶材的溅射电源功率，然后溅射靶材，并制备薄膜。
27.在本技术一个或多个实施例中，所述靶材为能被加工成靶材的任意材料。
28.在本技术一个或多个实施例中，所述长管产品为不与冷却水反应的任意金属、陶瓷材料所制产品。
29.在本技术一个或多个实施例中，s5和s6步骤中所述抽气装置将所述镀膜腔内的气压抽至低于8
×
10-2pa，通入氩气后控制气压为0.4～2.0pa，基材施加-200～-600v偏压，辉光溅射清洗所述长管产品≥5分钟。
30.在本技术一个或多个实施例中，s7步骤中镀膜腔内通入氩气并控制气压为0.2～1.6pa，所述长管产品施加-30v～-300v偏压，溅射靶材从而制备薄膜的时间＞5分钟。
附图说明
31.从下面结合附图对本技术实施例的详细描述中，本技术的这些和/或其它方面和优点将变得更加清楚并更容易理解，其中：
32.图1图示了自旋装置(未与冷却装置相连)的结构示意图一。
33.图2图示了图1中a的放大图。
34.图3图示了自旋装置(与冷却装置相连)的结构示意图二。
35.图4自旋装置的部分结构示意图。
36.图5图示了一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置的结构示意图。
37.图6图示了一种用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置的工作方法流程图。
具体实施方式
38.以下说明书和权利要求中使用的术语和词不限于字面的含义，而是仅由本发明人使用以使得能够清楚和一致地理解本技术。因此，对本领域技术人员很明显仅为了说明的目的而不是为了如所附权利要求和它们的等效物所定义的限制本技术的目的而提供本申
请的各种实施例的以下描述。
39.可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。
40.虽然比如“第一”、“第二”等的序数将用于描述各种组件，但是在这里不限制那些组件。该术语仅用于区分一个组件与另一组件。例如，第一组件可以被称为第二组件，且同样地，第二组件也可以被称为第一组件，而不脱离发明构思的教导。在此使用的术语“和 /或”包括一个或多个关联的列出的项目的任何和全部组合。
41.在这里使用的术语仅用于描述各种实施例的目的且不意在限制。如在此使用的，单数形式意在也包括复数形式，除非上下文清楚地指示例外。另外将理解术语“包括”和/或“具有”当在该说明书中使用时指定所述的特征、数目、步骤、操作、组件、元件或其组合的存在，而不排除一个或多个其它特征、数目、步骤、操作、组件、元件或其组的存在或者附加。
42.申请概述
43.管件是工业部件中常见的结构件类型，在核电、石油化工、电气电工等领域有广泛应用，而针对各不同应用环境的服役工况，管件材料选择和所采取的表面镀层防护的功能需求都各不相同。不同的表面镀层材料性能需求则要求镀膜工艺可实现对膜层材料的微观结构和组织具有调控能力，如实现高耐腐蚀作用的非晶态薄膜，高耐磨作用的杂晶薄膜，以及一定光学作用的定向晶薄膜等。目前，热梯度调节法是实现管件表面防护镀膜材料微观晶体调控的有效方法之一。
44.磁控溅射是目前制备表面纳米至亚毫米厚度范围内薄膜镀层的常用手段，利用磁控溅射镀制管件表面镀层防护已有较多产业应用。在磁控溅射镀膜过程中，被镀件(也称衬底或基材)的沉积温度梯度控制对薄膜微观结构的调控起到至关重要的作用，尤其可以通过热梯度的调控来改变薄膜微观生长方向，从而改变薄膜的晶体学结构，使膜层表现出不同的宏观性能。目前，多数磁控溅射装备的研制已经通过热管辐射或加热带烘烤的方式实现在真空环境的密闭空间内对被镀件的加热，但这种稳态的恒温沉积方式热梯度为零，无法实现对微观晶体结构的调控。
45.要实现管件产品表面的单晶、定向晶或者等轴晶型微观晶体结构的薄膜均匀镀制，需利用管件产品作为半封闭结构的优势，设计一种用于磁控溅射真空腔体内的管件产品高热梯度薄膜沉积的自旋装置，进而通过自旋装置的均匀自旋方式和温度调控以实现均匀镀膜。
46.目前，镀膜长管产品较为麻烦，因此设计一种专用于长管产品的自转工装，进而通过工装的自转和温度调控以实现均匀镀膜的方式是很有必要的。
47.基于此，需要一种能镀膜长管产品、结构简单、使用便捷的用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法。
48.示意性用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置
49.参考图1至图5，依本发明一较佳实施例的用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置，值得一提的是，本发明被用于镀膜长管产品600，特设计一种专用于长管产品600的自转工装，进而通过工装的自转和温度调控以实现均匀镀膜的目的。下面对本发明进行阐述，以便于理解本发明。
50.具体地，用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置包括一自旋装置，所述自旋装置包括一架体10，所述架体10由第一板体11、一第二板体12和两相对设置的第三板体13组成，所述第一板体11和所述第二板体12相对设置，其中两所述第三板体13 的两端分别被固定连接于两所述第一板体11和所述第二板体12相互靠近的一侧，其中需要说明的是，所述第一板体11和所述第三板体13的连接方式以及所述第二板体12和所述第三板体13的连接方式均为焊接连接。
51.值得一的是，所述第一板体11和所述第二板体12均具有一第一插入孔101和一安装槽102，且所述第一插入孔101和所述安装槽102均贯穿所述第一板体11和所述第二板体 12，且两所述第一插入孔101均位于同一直线上，且两所述安装槽102也均位于同一直线上。
52.具体地，所述自旋装置包括一第一绝缘件20，所述第一绝缘件20被固定连接于所述第一板体11背离所述第二板体12的一侧。
53.具体地，所述自旋装置还包括一第一连接件30，所述第一连接件30的一端与所述第一绝缘件20套接件，并穿过所述第一插入孔101，且所述第一连接件30穿过所述第一插入孔101的一端靠近所述第一板体11靠近所述第二板体12的一侧。其中需要说明的是，所述第一绝缘件20具有一第二插入孔，所述第二插入孔对应所述第一插入孔101，即所述第一连接件30的一端依次穿过所述第二插入孔和所述第一插入孔101，并位于所述第一板体11靠近所述第二板体12的一侧。
54.具体地，所述自旋装置还包括一第一转动件40，所述第一转动件40被设于所述第一板体11和所述第二板体12之间，且所述第一转动件还靠近所述第一连接件30。
55.其中需要说明的是，所述自旋装置还包括一第一驱动部件50，所述第一驱动部件50 被固定连接于第一板体11背离所述第二板体12的一侧，且所述第一驱动部件50正对所述第一板体11的所述安装槽102，值得一提的是，所述第一驱动部件50的尺寸大于所述第一板体11的所述安装槽102的尺寸。另需说说明的是，所述第一驱动部件50还具有一转动端51，所述转动端51穿过所述第一板体11的所述安装槽102，并且所述转动端51 与所述第一转动件40的中段啮合连接，其中当所述第一驱动部件50运作时，所述第一驱动部件50的所述转动端51进行自转，同时所述转动端51带动所述第一转动件40进行转动。
56.进一步地，所述第一驱动部件50可被实施为电机。
57.值得一提的是，所述自旋装置还包括一管体60，所述管体为中空的管体，所述管体 60的一端与所述第一转动件40背离所述第一板体11的一端固定连接，另一端穿过所述第二板体12的所述第一插入孔101，并被置于外部。其中另外需要说明的是，所述管体60 还贯穿所述第一转动件，并可转动地连接于所述第一连接件30的端部。
58.具体地，所述自旋装置还包括一第二绝缘件70，所述第二绝缘件70与所述管体60 套接连接，并且所述第二绝缘件70靠近所述第一转动件40。
59.具体地，所述自旋装置还包括两支撑件80和两第二连接件90，两所述支撑件80分别位于所述管体60的两侧，两所述第二连接件90的两端分别与两所述支撑件80相互靠近的一侧固定连接，且两所述第二连接件相对设置，进而使得两所述支撑件80无法脱离所述管体60。
60.值得一提的是，两所述第二连接件均与所述管体相接触。
61.进一步地，所述支撑件80可被实施为铜块。
62.值得一提的是，所述支撑件80位于所述第二绝缘件70背离所述第一转动件40的一侧。
63.具体地，所述自旋装置还包括一第三绝缘件200，所述第三绝缘件200被固定连接于所述第二板体12靠近所述第一板体11的一侧，且所述第三绝缘件200还与所述管体60 套接连接，其中所述第三绝缘件200的两侧分别抵靠在所述第二连接件70和所述第二板体12上。
64.具体地，所述自旋装置还包括一插入件300，所述插入件300的一端被插入到所述第二板体12的第一插入孔内，且另一端所述第二板体12背离所述第一板体11的一侧固定连接。
65.进一步地，所述第一绝缘件20、所述第二绝缘件70和所述第三绝缘件200均为聚四氟垫。
66.值得一提的是，所述管体60的另一端贯穿所述插入件300。
67.具体地，自旋装置还包括一第二转动件400，所述第二转动件400与所述插入件300 背离所述第二板体12的一端转动连接，且所述第二转动件400还具有一通孔，所述管件 60的端部被固定连接于通孔内。
68.具体地，所述自旋装置还包括一长管产品600，所述长管产品600的一端被可拆卸连接于通孔背离所述管体60的一端。值得一提的是，当所述第一驱动部件50运作时，所述第一驱动部件50带动带动所述第一转动件40转动，所述第一转动件40带动所述管体60 转动，所述管体60带动所述第二转动件400转动，所述第二转动件400带动所述长管产品600转动，进而实现均匀镀膜。
69.下面对所述自旋装置的温度调节进行详细阐述，以便于理解本发明。
70.具体地如图3和4所示，需要说明的是，所述第一连接件30背离所述第一板体11的一端具有一进水口301，且所述第一连接件的侧壁具有一出水口302。
71.进一步地，所述第一连接件与所述管体60相连的一端延伸有一进水管31和一出水管 32，所述进水管31和所述出水管32相对设置，其中所述进水管31和所述出水管32均穿过所述管体60，并被置于所述长管产品600内，置于所述长管产品600内的所述进水管 31靠近所述长管产品600背离所述第二转动件400的一端，置于所述长管产品600的所述出水管32靠近所述第二转动件400。其中本领域技术人员应当理解的是，所述长管产品600与所述通孔相连处的一端设有一密封件，从而确保所述长管产品600内部的密封性，且所述进水管31和所述出水管32均与所述密封件套接连接。
72.值得一提的是，所述自旋装置还包括一冷水装置500，所述进水口301和所述出水口 302均通过外部软管与所述冷水装置500相连。其中本领域技术人员应当理解的是，所述冷水装置500具有水泵，从而确保冷却循环为，所述进水口301进水，所述出水口302出水，所述冷水装置500冷却从所述出水口302出来的热水。其中需要说明的是，由于所述长管产品600内部具有冷却循环，进而当所述长管产品600电镀时，用户能够有效的防止所述长管产品600的热变形，从而确保所述长管产品600的电镀效果。
73.其中需要说明的是，所述磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩弧离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。
74.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包一镀膜室
700，所述镀膜室700的具有一镀膜腔701，且所述镀膜室700的顶部具有一第三插入孔702，且所述镀膜室700与所述第三插入孔702相连通，其中所述自旋装置的一端(所述自旋装置的所述长管产品600)被可滑动地插入到所述第三插入孔702内。
75.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括四个靶材 800，四个所述靶材800被均布的设于所述镀膜腔701内，且四个所述靶材800还位于所述长管产品600的周侧。
76.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一抽气装置 901，所述抽气装置901被固定连接于镀膜室700的一侧，并且所述抽气装置901与所述镀膜腔701相连通，进而使得所述抽气装置901能将所述镀膜腔701内的空气抽出，以使得所述镀膜腔701内呈真空状态，其中需要说明的是所述抽气装置901具有抽气泵。
77.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一充气装置 902，所述充气装置902被固定连接于所述镀膜室700的外壁上，且所述充气装置902与所述镀膜室700的镀膜腔体701相连通，进而使得充气装置902能能向所述镀膜腔701内冲入气体。优先的，气体为氩气。
78.其中需要说明的是，所述充气装置902包括一充气管道9021，所述充气管道9021的一端与所述镀膜室700固定连接，并与所述镀膜室700的所述镀膜腔701相连通，且所述充气管道9021的另一端与外部气体源相连接。且所述充气装置902还包括一电动阀9022 和一流量计9023，所述电动阀9022被设于所述充气管道9021背离所述镀膜室700的一端，并且所述电动阀9022被用于开关所述充气管道9021，以控制所述充气管道9021内气体的流通，所述流量计9023被设于所述充气管道9021上，并靠近所述镀膜室700，且所述流量计9023被用于检测所述充气管道9021内的气体的流量，其中需要说明的是所述镀膜腔701内的所述充气管道9021的端部还固定有一喷气部件，以使所述充气管道9021 内的气体从所述喷气部件流向所述镀膜腔701。
79.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一气压计，所述气压计被设于所述镀膜室700的外壁，且所述气压计被用于检测所述镀膜腔701内的气压，进而使得用户可通过开关所述电动阀9022还控制所述镀膜腔701内的气压值。
80.具体地，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一升降装置 904，所述升降装置904被设于所述镀膜室700的顶部
81.进一步地，所述升降装置904包括四个杆件9041，四个所述杆件9041被竖直的固定连接于所述镀膜室700的顶部，所述四个杆件9041呈矩形布置，并位于所述第三插入孔 702的周侧。
82.值得一提的是，所述升降装置904还包括一第一支撑板9042，第一支撑板9042的一侧与四个所述件9041的顶部固定连接，且升降装置904还包括两第二驱动部件9043，两所述第二驱动部件9043被固定连接于所述第一支撑板9042靠近所述镀膜室700的顶部的一侧，且两所述第二驱动部件9043分别位于所述自旋装置的两侧。
83.进一步地，所述升降装置904还包括一第二支撑板9044，所述第二支撑板9044具有一第四插入孔，所述自旋组件的所述管体60被可滑动地穿过所述第四插入孔，并插入到所述第三插入孔702内，同时所述自旋组件的所述架体被固定连接于所述第二支撑板9044 背离所述镀膜室700的一侧，且每一所述第二驱动部件9043还具有一升降杆，两所述升降杆与
所述第二支撑板9044固定连接。值得一提的是，所述升降杆可伸缩预定角度，以控制所述第二支撑板9044的高度，从而便于安装所述自旋装置。其中本领域技术人员应当理解的是，所述第三插入孔702的侧壁还设有至少一密封件，所述密封件被置于所述第三插入孔702内，并与所述自旋装置的所述长管产品600套接连接，从而确保镀膜腔701 的密封性。
84.其中本领域技术人员应当理解的是，所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置还包括一电源组件903，其中需要说明的是，所述电源组件903与所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置的用电部件电连接。其中需要说明的是，所述电源组件903还与所述支撑块电连接，进而使得所述长管产品600通过所述支撑块与所述电源组件903电连接。即所述管体60、所述第二连接件、所述第二转动件400都具有导电性。
85.下面阐述上述装置的工作方法，具体地如图6所示，
86.s1：将所述长管产品600插入到所述第二转动件400的通孔内，并进行密封紧固；
87.s2:利用升降装置904将长管产品600插入到所述第三通孔内，以使所述长管产品600 被置于所述镀膜腔701内，同时密封所述第三插入孔702，以确保镀膜腔701的密封性；
88.s3:外部水源与所述进水口301相连，并往所述进水口301内注水，从而使得所述长管产品600内蓄满水；
89.s4：将所述进水口301和所述出水口302与所述冷却装置相连；
90.s5：利用所述抽气装置901将所述镀膜腔701抽至真空；
91.s6：利用所述充气装置902向所述镀膜腔701内通入氩气，再开启冷却装置，然后对所述长管产品600加偏压，以对所述长管产品600进行辉光溅射清洗；
92.s7：通过所述电动阀9022调节氩气流量，以使所述镀膜腔701内的气压达到预定值，同时调节所述长管产品600的偏压和和所述靶材800的溅射电源功率，然后溅射靶材800，并制备薄膜。
93.具体地，所述靶材800为能被加工成靶材800的任意材料。
94.具体地，所述长管产品600为不与冷却水反应的任意金属、合金、陶瓷材料所制产品。
95.其中需要说明的是，s5和s6中所述抽气装置901将所述镀膜腔701内的气压抽至低于8
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10-2pa，通入氩气后控制气压为0.4～2.0pa，基材施加-200～-600v偏压，辉光溅射清洗所述长管产品600≥5分钟。
96.另需说明的是，s7中镀膜腔701内通入氩气并控制气压为0.2～1.6pa，所述长管产品 600施加-30v～-300v偏压，溅射靶材800从而制备薄膜的时间＞5分钟。
97.其中需要说明地是，所述第一驱动部件50和所述第二驱动部件9043均被实施为电机，但不限于此，可以是能够发挥其功能范围内的其他动力装置。
98.其中需要说明地是，气体为氩气，但不限于此，可以是能够发挥其功能范围内的其他气体。在本发明实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
99.综上，基于本技术实施例的所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的
装置及其工作方法被阐明，其为所述用于磁控溅射实现管件产品高热梯度薄膜沉积的装置及其工作方法提供能镀膜长管产品、结构简单、使用便捷等优势。
100.本领域的技术人员应理解，上述描述及附图中所示的本发明的实施例只作为举例而并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中展示和说明，在没有背离该原理下，本发明的实施方式可以有任何变形或修改。