的压强为0. 15~0. 20mPa，流量比为40-60%。载流气体起到保护和载流的作用。该 载流气体优选为Ar气。该载流气体的流量比的定义是载流气体通过管道时的流通比率，通 过电磁阀和流量计进行控制和监控。该载流气体的流量比保证了扫描修补的气体的流量和 扫描修补的气体的供应浓度，过低的载流气体流量会导致扫描修补的气体的浓度不足最终 引起沉积的扫描修补的气体的厚度不足，不良表现为欠修补或黑度不足，过高的载流气体 流量则会因扫描修补的气体的浓度过高而导致激光沉积反应不完全和修补厚度过高，最终 会引起清洗脱落等问题。扫描修补时，需要将用于气相沉积的扫描修补的气体加热，具体的 加热温度可以根据扫描修补气体具体确定。例如，当所需的扫描修补气体为铬蒸汽时，通过 加热蒸发Cr(0H) 6，形成铬蒸汽，加热蒸发的温度为35~45°C。
[0031] 具体地，激光的照射区域为长18~24 ym，宽6~9 ym的区域，优选为20X6 ym 的区域。该激光照射范围通过使用该尺寸的狭缝来实现。相对于现有技术中单光斑修复方 式（点修复），该激光的照射范围较小，因此对激光器的能量均匀性的要求降低，使本发明 的技术方案具有更好的工艺稳定性性和适应性。同时，本发明的技术方案与现有技术的修 补单位面积时激光照射的时间接近，但是由于本技术方案的狭缝尺寸较小使范围内的激光 能量更加均匀，能保证更稳定的修补质量，因此在做大尺寸白缺陷修补时整体的粘附力和 黑度要比现有技术更稳定，在黑度和粘附力测试中表现更加优异，也不容易出现局部脱落 和漏光现象。
[0032] 本发明实施例的技术方案特别适合于大尺寸的白缺陷，该白缺陷可以为直径 1000 ym以内的圆斑，或者相近尺寸的其它形状。
[0033] 下面以具体实施例，对本发明实施例的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法做进 一步的说明。
[0034] 实施例1修复铬板上的少铬缺陷
[0035] 该铬板上的少铬缺陷为直径约30 y m的圆斑。采用本发明的激光气相沉积方式修 补白缺陷的方法对该缺陷进行修补。其中，载流气体为Ar气，扫描修补气体为Cr气。具体 的修复参数如表1所示。如图2所示，为本发明实施例1的修补前的白缺陷的示意图，其中 图（a)为反射示意图，图（b)为透射示意图。如图3所示，为本发明实施例1的采用激光气 相沉积方式修补后的白缺陷的示意图，其中图（a)为反射示意图，图（b)为透射示意图。从 图1和图2的对比可以看出，通过本发明的方法修补的效果好。
[0036] 表1实施例1的激光气相沉积修补白缺陷的工艺参数
【主权项】
1. 一种激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于，包括： 在靠近所述白缺陷的一角设置修补起点，在靠近所述白缺陷的所述修补起点的对角设 置修补终点，使得在所述白缺陷所在平面上，以所述修补起点沿横向延伸的直线、所述修补 起点沿纵向延伸的直线、所述修补终点沿横向延伸的直线、所述修补终点沿纵向延伸的直 线围成的区域为扫描修补区域，所述白缺陷完全位于所述扫描修补区域内； 采用激光气相沉积方式在所述扫描修补区域内从所述修补起点扫描修补至所述修补 终点，使所述白缺陷表面完全覆盖修补薄膜完成所述修补。
2. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于，所述采用 激光气相沉积方式在所述扫描修补区域内从所述修补起点扫描修补至所述修补终点的过 程包括： 从所述修补起点沿横向扫描修补至所述扫描修补区域的另一侧，在经过的区域的表面 覆盖一层所述修补薄膜； 从所述修补起点沿纵向移动一行，沿横向从所述扫描修补区域的一侧扫描修补至所述 扫描修补区域的另一侧，在经过的区域的表面覆盖一层所述修补薄膜，重复该步骤直到扫 描修补到所述修补终点。
3. 如权利要求2所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：相邻两行 所述修补薄膜的沿纵向的重叠区域的尺寸为2~4 ym。
4. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于，所述采用 激光气相沉积方式在所述扫描修补区域内从所述修补起点扫描修补至所述修补终点的过 程包括： 从所述修补起点沿纵向扫描修补至所述扫描修补区域的另一侧，在经过的区域的表面 覆盖一层所述修补薄膜； 从所述修补起点沿横向移动一列，沿纵向从所述扫描修补区域的一侧扫描修补至所述 扫描修补区域的另一侧，在经过的区域的表面覆盖一层所述修补薄膜，重复该步骤直到扫 描修补到所述修补终点。
5. 如权利要求4所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：相邻两列 所述修补薄膜的沿横向的重叠区域的尺寸为2~4 ym。
6. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：所述修补 起点沿纵向延伸的直线距与其相邻的所述白缺陷的一侧的距离为10~20ym，所述修补起 点沿横向延伸的直线距与其相邻的所述白缺陷的一侧的距离为5~10 ym ;所述修补终点 沿纵向延伸的直线距与其相邻的所述白缺陷的一侧的距离为10~20ym，所述修补终点沿 横向延伸的直线距与其相邻的所述白缺陷的一侧的距离为5~10 ym。
7. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：激光的照 射区域为长18~24 y m，宽6~9 y m的区域。
8. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：所述扫描 修补的速度为7~11 ym/s，和/或，所述扫描修补的过程中激光功率为1. 8~2. 2mw。
9. 如权利要求1所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在于：所述扫描 修补采用的载流气体的压强为〇. 15~0. 20mPa，流量比为40-60%。
10. 如权利要求1~9任一项所述的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，其特征在 于：所述扫描修补的过程还伴随有抽废气的过程，所述抽废气的过程包括抽走并加热所述 废气使所述废气排放，抽走所述废气的流量为16~20L/min。
【专利摘要】本发明公开了一种激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，包括：在靠近所述白缺陷的一角设置修补起点，在靠近所述白缺陷的所述修补起点的对角设置修补终点，使得在所述白缺陷所在平面上，以所述修补起点沿横向延伸的直线、所述修补起点沿纵向延伸的直线、所述修补终点沿横向延伸的直线、所述修补终点沿纵向延伸的直线围成的区域为扫描修补区域，所述白缺陷完全位于所述扫描修补区域内；采用激光气相沉积方式在所述扫描修补区域内从所述修补起点扫描修补至所述修补终点，使所述白缺陷表面完全覆盖修补薄膜完成所述修补。本发明实施例的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，通过扫描修补的方式，可以修补大尺寸的白缺陷。
【IPC分类】C23C16-44, C23C14-28
【公开号】CN104746041
【申请号】CN201510097968
【发明人】张俊, 李跃松
【申请人】深圳清溢光电股份有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年3月4日