一种解决半球凹面镜成像不良的方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及镜片生产技术领域，尤其涉及镜片光学真空镀膜中半球凹面镜成像不 良的方法。
【背景技术】
[0002] 目前，半球形凹面镜广泛运用于倒车影像，监控仪器设备，由于其作用明显，国内 外均积极推广。镜片光学镀膜，是半球凹面镜成像效果好坏的关键工序。近半球凹面镜镀 膜通常会因为高度差(镜片凹面中心与边缘部的距离)原因，导致凹面研磨面的边缘的色差 较大，从而造成镜头组装后拍照成像出现"鬼影"（成像图的边缘与中心位置有较明显的颜 色差)，主要原因是：1、设定的镀膜规格及光波段要求范围不够宽，最高设定420-780nm不 足以做到凹面镜全面较广的镀膜范围；2、膜系设计方面，各层之间的膜厚搭配对凹面镜不 够精准，所以在目前光学镜片真空镀膜领域，解决凹面镜组装后成像出现"鬼影"的现象就 显得非常重要了。
【发明内容】
[0003] 为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种解决半球凹面镜成像不良 的方法，是通过设计广波段的薄膜和镀膜加工膜系设定来得到一种半球凹面镜成像不良 的方法。
[0004] 本发明的目的通过以下技术解决方案来实现的：一种解决半球凹面镜成像不良的 方法，包括以下步骤：1)薄膜设计、2)光学反射率规格设定、3)镀膜加工膜系设定、4)真空 镀膜；特征在于： 1) 、薄膜设计：使用TFC薄膜设计软件设定广波段的范围：425nm-1050nm; 2) 、光学反射率规格设定：425nm-1050nm:Rmax< 1. 2%，Rave< 0. 8% ; 3) 、镀膜加工膜系设定：H4:Ti02与La203混合物，MGF2氟化镁；
【主权项】
1. 一种解决半球凹面镜成像不良的方法，包括以下步骤：1)薄膜设计、2)光学反射率 规格设定、3)镀膜加工膜系设定、4)真空镀膜；特征在于： 1) 、薄膜设计：使用TFC薄膜设计软件设定广波段的范围：425nm-1050nm ; 2) 、光学反射率规格设定：425nm-1050nm :Rmax < 1. 2%，Rave < 0. 8% ; 3) 、镀膜加工膜系设定：H4:Ti02与La203混合物，MGF2氟化镁；
4) 、真空镀膜：将设定好膜系的光学镜片放在真空镀膜机内，待镀膜镜片面朝下放在套 环里，再把镜片套环放在镀膜机运转卡伞上，关上真空腔门抽真空，设定抽真空时间30分 钟，镀膜温度320±20°C，镀膜真空度在2. 0*10-5Torr以下镀膜，镀膜结束即得到光学镜 片。
【专利摘要】一种解决半球凹面镜成像不良的方法,包括以下步骤：1）薄膜设计、2）光学反射率规格设定、3）镀膜加工膜系设定、4）真空镀膜。本发明,设计合理，构造简单，作用可靠，能够切实满足镜片生产过程中半球凹面镜片镀膜的工艺要求，确保产品质量。经多方面综合测试，半球凹面镜光学反射率最大值要在1.2%以下，且平均值要在0.8%以下时，整个成像面没有色差且易于生产加工，稳定性强，又能完全达到光学成像要求。
【IPC分类】C23C14-22, G02B1-10
【公开号】CN104762594
【申请号】CN201510147654
【发明人】马云燕, 彭伟森
【申请人】江苏双仪光学器材有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年3月31日