掩膜板及其制作方法、掩膜组件的制作方法

掩膜板及其制作方法、掩膜组件的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种掩膜板及其制作方法、掩膜组件，该掩膜板包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板上设置弯曲缓解结构，当该掩膜板焊接在框架上被拉伸时，通过弯曲缓解结构可以有效缓解掩膜板上蒸镀有效区的边缘卷曲，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。
【专利说明】
掩膜板及其制作方法、掩膜组件
技术领域
[0001]本发明涉及显示领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法、掩膜组件。
【背景技术】
[0002]目前，有机电致发光显不器件(OrganicElectroluminesecent Display，0LED)凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，已经逐渐成为显示领域的主流。
[0003]OLED显示面板包括阵列排布的多个子像素单元，每一个子像素单元包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机发光材料形成，目前主要采用掩膜板(例如精细金属掩膜版，英文为Fine metal mask，简称FMM)并通过蒸镀工艺制作在各子像素单元中，在进行蒸镀工艺时，掩膜板必须焊接在框架上放在蒸镀机里面使用，掩膜板和框架焊接在一起称为MFA(Mask Frame Assemble，掩膜组件)，当掩膜板焊接在框架上时，掩膜板在框架的作用下通常处于被拉伸的状态，从而容易使掩膜板上蒸镀有效区两侧的边缘存在不同程度的卷曲问题，在蒸镀工艺中，容易在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。

【发明内容】

[0004](一)要解决的技术问题
[0005]本发明要解决的技术问题是:如何解决现有的掩膜板安装在框架时，由于掩膜板被拉伸而造成的蒸镀有效区边缘卷曲问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供了一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。
[0008]优选地，所述弯曲缓解结构包括第一条状结构，且所述第一条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向不平行。
[0009]优选地，所述第一条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向垂直。
[0010]优选地，所述弯曲缓解结构还包括与所述第一条状结构相交叉的第二条状结构。
[0011]优选地，所述第二条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向平行。
[0012]优选地，每一个所述弯曲缓解结构包括多个所述第一条状结构。
[0013]优选地，所述边缘区域包括在所述第一边沿的延伸方向上相邻的第一区域和第二区域，所述第一区域与所述蒸镀有效区中心的距离大于所述第二区域与所述蒸镀有效区中心的距离，所述第一区域上相邻两个第一条状结构之间的距离大于所述第二区域上相邻两个第一条状结构之间的距离。
[0014]优选地，每一个掩膜单元包括多个所述弯曲缓解结构。
[0015]优选地，所述弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度。
[0016]优选地，所述弯曲缓解结构的周边为镂空区域。
[0017]优选地，所述掩膜板包括多个掩膜单元，所述多个掩膜单元按照所述第一边沿的延伸方向排列。
[0018]优选地，所述弯曲缓解结构与所述掩膜单元的蒸镀有效区为相同材料。
[0019]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种掩膜组件，其特征在于，包括框架以及上述的掩膜板，所述掩膜板安装在所述框架上并配置为在所述第一边沿的延伸方向被拉伸。
[0020]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种掩膜板的制作方法，包括形成至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，还包括在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。
[0021]优选地，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括:
[0022]通过半刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度。
[0023]优选地，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括:
[0024]通过全刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为镂空区域。
[0025](三)有益效果
[0026]本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板上设置弯曲缓解结构，当该掩膜板焊接在框架上被拉伸时，通过弯曲缓解结构可以有效缓解掩膜板上蒸镀有效区的边缘卷曲，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。
【附图说明】
[0027]图1是本发明实施方式提供的一种掩膜板的示意图；
[0028]图2是本发明实施方式提供的一种掩膜板上弯曲缓解结构的示意图；
[0029]图3是图2中弯曲缓解结构被拉伸时的示意图；
[0030]图4是本发明实施方式提供的另一种掩膜板上弯曲缓解结构的示意图；
[0031 ]图5是本发明实施方式提供的一种掩膜组件的示意图。
【具体实施方式】
[0032]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0033]本发明实施方式提供了一种掩膜板，该掩膜板包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲(即减小蒸镀有效区的边缘卷曲程度)。
[0034]本发明实施方式提供的掩膜板，通过在掩膜板上设置弯曲缓解结构，当该掩膜板焊接在框架上被拉伸时，通过弯曲缓解结构可以有效缓解掩膜板上蒸镀有效区的边缘卷曲，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。
[0035]例如，可以在掩膜板的上述边缘区域设置一个或多个条状结构作为弯曲缓解结构，并且该条状结构的延伸方向与第一边沿的延伸方向不平行，当该掩膜板按照第一边沿的延伸方向被拉伸时，该条状结构会产生弯曲变形，使蒸镀有效区产生向外的拉伸效果，进而缓解蒸镀有效区边缘的卷曲状态。优选地，该条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向垂直。
[0036]参见图1，图1是本发明实施方式提供的一种掩膜板的示意图，该掩膜板的形状为矩形，其包括两条第一边沿Ia和两条第二边沿Ib，其上设置有多个掩膜单元(FMM SheetCelI) 100，该多个掩膜单元按照第一边沿Ia的延伸方向排列，其中，每一个掩膜单元100包括蒸镀有效区110以及位于蒸镀有效区110与掩膜板第一边沿Ia之间的边缘区域，该边缘区域上设置有弯曲缓解结构120，该弯曲缓解结构120用于当掩膜板按照所述第一边沿Ia的延伸方向被拉伸时缓解蒸镀有效区的边缘卷曲；
[0037]参见图2，图2是图1中虚线框内的放大示意图，其中，每一个弯曲缓解结构120包括第二条状结构121以及与第二条状结构121相交叉的第一条状结构122，且第一条状结构122的延伸方向与第一边沿Ia的延伸方向不平行；
[0038]如图3所示，当该掩膜板按照第一边沿Ia的延伸方向被拉伸时，拉伸力F和F’通过第二条状结构121进行传动，带动第一条状结构122进行形变，第一条状结构122的弯曲变形，会带动掩膜单元边缘区域的外边沿向内收缩，所以产生力f和f’，由于弯曲缓解结构120与掩膜单元的蒸镀有效区110是相互连接的，所以内缩的力f会通过相互作用力使蒸镀有效区110产生向外的拉伸效果，进而缓解蒸镀有效区110边缘的卷曲状态；
[0039]优选地，在上述的弯曲缓解结构120中，第一条状结构122的延伸方向与第一边沿Ia的延伸方向垂直，第二条状结构121的延伸方向与第一边沿Ia的延伸方向平行，即第一条状结构122与第二条状结构121可以垂直设置，以提高缓解蒸镀有效区边缘卷曲的效果，另夕卜，还可以如图2所示，每一个弯曲缓解结构120可以包括多个第一条状结构122。
[0040]优选地，在同一个掩膜单元中，所述边缘区域包括在所述第一边沿的延伸方向上相邻的第一区域和第二区域，所述第一区域与所述蒸镀有效区中心的距离大于所述第二区域与所述蒸镀有效区中心的距离，所述第一区域上相邻两个第一条状结构之间的距离大于所述第二区域上相邻两个第一条状结构之间的距离，即对于同一个掩膜单元，可以在其中边缘区域的中间部分(即边缘区域上距离蒸镀有效区中心较近的部分)设置较多的第一条状结构，从而在该位置上提高缓解边缘卷曲的效果，使该位置上边缘卷曲缓解效果更为突出，这样有利于提高整个边缘区域的边缘卷曲缓解效果。
[0041]另外，每一个弯曲缓解结构120也可以只包括第一条状结构122，而不再设置第二条状结构121，从而相应的降低弯曲缓解结构的制作难度。
[0042]为进一步地提高缓解蒸镀有效区边缘卷曲的效果，每一个掩膜单元100可以包括多个弯曲缓解结构120，每一个掩膜单元中弯曲缓解结构的个数可以根据其上蒸镀有效区边缘卷曲的程度进行设置，例如，可以在每一个掩膜单元中蒸镀有效区域的两侧各设置一个弯曲缓解结构，也可以如图1所示，在每一个掩膜单元中的蒸镀有效区域的两侧各设置两个弯曲缓解结构。
[0043]本发明实施方式提供的掩膜板，通过在其上设置弯曲缓解结构，该弯曲缓解结构包括第二条状结构以及与第二条状结构相交叉的第一条状结构，在拉伸的过程中，通过第二条状结构传输拉伸力，使第一条状结构产生弯曲，带动掩膜单元的边缘区域的外边界向内移动，进而产生内缩的趋势，在内缩的过程中，会带动掩膜单元的蒸镀有效区向外拉伸，从而缓解蒸镀有效区边缘的卷曲状态，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。
[0044]为形成上述的弯曲缓解结构，可以对现有的掩膜板的边缘区域进行刻蚀，通过刻蚀工艺形成上述的弯曲缓解结构，弯曲缓解结构与掩膜单元的蒸镀有效区为相同材料；
[0045]例如，可以对掩膜板的边缘区域进行半刻蚀(Half Etching)，在经过半刻蚀工艺后，弯曲缓解结构为形成的边缘区域的凸起结构，弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度，即弯曲缓解结构的表面高度高于其周边区域的表面高度；
[0046]优选地，还可以对弯曲缓解结构的周边进行全刻蚀(FulIEtching)，使，即使弯曲缓解结构的周边为镂空区域，其结构如图4所示，从而使弯曲缓解结构的第一条状结构122获取更大的弯曲效果，对掩膜板的蒸镀有效区产生更大的拉伸作用，进而更好的缓解蒸镀有效区边缘的卷曲状态。
[0047]此外，本发明实施方式还提供了一种掩膜组件，包括框架以及上述的掩膜板，所述掩膜板安装在所述框架上并配置为在所述第一边沿的延伸方向被拉伸。
[0048]参见图5，图5是本发明实施方式提供的一种掩膜组件的示意图，该掩膜组件包括框架2以及多个掩膜板I，掩膜板I焊接在框架2上并在框架2的作用下处于被拉伸的状态，其中，掩膜板I可以为上述结构的掩膜板，从而可以有效缓解掩膜板上蒸镀有效区的边缘卷曲，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。
[0049]此外，本发明实施方式还提供了一种掩膜板的制作方法，包括形成至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，还包括在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。
[0050]例如，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括:
[0051]通过半刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度。
[0052]例如，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括:
[0053]通过全刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为镂空区域。
[0054]以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
【主权项】
1.一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，其特征在于，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述弯曲缓解结构包括第一条状结构，且所述第一条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向不平行。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向垂直。4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述弯曲缓解结构还包括与所述第一条状结构相交叉的第二条状结构。5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第二条状结构的延伸方向与所述第一边沿的延伸方向平行。6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，每一个所述弯曲缓解结构包括多个所述第一条状结构。7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述边缘区域包括在所述第一边沿的延伸方向上相邻的第一区域和第二区域，所述第一区域与所述蒸镀有效区中心的距离大于所述第二区域与所述蒸镀有效区中心的距离，所述第一区域上相邻两个第一条状结构之间的距离大于所述第二区域上相邻两个第一条状结构之间的距离。8.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，每一个掩膜单元包括多个所述弯曲缓解结构。9.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度。10.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述弯曲缓解结构的周边为镂空区域。11.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括多个掩膜单元，所述多个掩膜单元按照所述第一边沿的延伸方向排列。12.根据权利要求1-11任一所述的掩膜板，其特征在于，所述弯曲缓解结构与所述掩膜单元的蒸镀有效区为相同材料。13.—种掩膜组件，其特征在于，包括框架以及权利要求1-12任一所述的掩膜板，所述掩膜板安装在所述框架上并配置为在所述第一边沿的延伸方向被拉伸。14.一种掩膜板的制作方法，包括形成至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，其特征在于，还包括在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。15.根据权利要求14所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括: 通过半刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为非镂空区域，所述非镂空区域的厚度小于所述弯曲缓解结构的厚度。16.根据权利要求14所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述在所述边缘区域上形成弯曲缓解结构包括: 通过全刻蚀工艺在所述边缘区域上形成所述弯曲缓解结构的图案，所述弯曲缓解结构的周边为镂空区域。
【文档编号】C23C14/24GK106086785SQ201610617389
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年7月29日 公开号201610617389.3, CN 106086785 A, CN 106086785A, CN 201610617389, CN-A-106086785, CN106086785 A, CN106086785A, CN201610617389, CN201610617389.3
【发明人】林治明, 王震
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司