制。并掩膜支架上两个相互垂直的侧面开有方形孔，用来通过激光尺的测量光束，从而可以实现对真空纳米平台运动状态的精确非接触实时监测，这使得镀膜形状特征可以被实时监测。
[0034](2)掩膜支架正投影将真空纳米定位平台完全覆盖，使得真空纳米定位平台在镀膜过程中不会受到真空蒸镀上来的原子或分子的影响。
[0035](3)真空纳米定位平台在工作中产生的部分热量通过基准板传递给真空腔壁，进一步保证了真空纳米定位平台的运动精度，为镀膜沉积达到较高形状精度提供了保证。
【附图说明】
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[0036]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1是本发明的侧面剖视图；
[0038]图2为真空腔右侧视图；
[0039]图3为真空腔后侧视图；
[0040]图4为真空腔前侧视图；
[0041]图5为基准板的结构不意图；
[0042]图6为掩膜支架的主视图；
[0043]图7为掩膜支架的等轴测侧视图；
[0044]图8为本发明中真空纳米定位平台的结构示意图；
[0045]其中:1、掩膜支架，2、基准板，3、真空纳米定位平台，4、基片，5、真空腔，2-1、第一气体通路口，2-2、第二气体通路口，2-3、第一激光尺光路口，2-4、启停挡板接入口，3-1、第二激光尺光路口，3-2、晶振膜厚仪接口，3-3、压力控制器接口，3-4、分子泵接口，3-5、腔体门，4-1、镀膜状态观测口，4-2、真空计接口，4-3、机械泵接口，4-4、附加设备接口，6_1、掩膜安装孔，7-1、第一掩膜支架光路口，7-2、第二掩膜支架光路口 ；8-1、基片台，8-2、X向光路反射镜，8-3、X向压电陶瓷驱动器，8-4、Y向光路反射镜，8-5、Y向压电陶瓷驱动器，8-6、底座。
【具体实施方式】
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[0046]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0047]实施例:如图1所示:一种真空镀膜系统的样品室结构，包括:真空腔5，该真空腔5的顶部通过螺栓与基准板2相连接，真空腔5与基准版2相互接触的表面具有良好的表面粗糙度，基准板2上均布有若干个螺纹孔(盲孔)；基准板2通过螺栓与真空纳米定位平台3相连接，实现真空纳米定位平台3的基准定位，该真空纳米定位平台3上安装有基片4 ;掩膜支架I也通过相同的螺栓固定于基准板2上，掩膜支架I具有掩膜安装孔掩膜安装孔6-1 ;掩膜支架I安装时也要以基准板2为定位基准，来保证掩膜支架I内表面到基准板I的距离达到设计需要。
[0048]本方案中，真空纳米定位平台3与基准板2直接接触，基准板2与真空腔5直接接触，根据热传导原理，则真空纳米定位平台3产生的热量可以传递到外面，从而解决了在真空条件下真空纳米定位平台没有传热介质的问题。
[0049]基片4与真空纳米定位平台3的连接方式可选择沉孔螺栓或者真空胶。如果基片4与掩膜之间的距离精度要求不高时则使用真空胶固定比较方便，如果需要较好的保证基片4与掩膜之间的距离精度，则需要保证基片4表面到基准板2的距离，通过精密螺栓连接显然是一种更可靠的选择。
[0050]非常重要的一个结构特征是，基准板2到掩膜支架I内表面的距离减去基准板2到基片4表面的距离即为掩膜板与基片4之间的距离。
[0051]为了进一步调整基片4到掩膜板的距离，可以通过在掩膜支架I与基准板2接触面之间添加超薄垫片进行实现。
[0052]基准板2与真空纳米定位平台3和掩膜支架I的装配过程在真空腔5外进行，达到较高装配精度，然后再将装配好的整体由真空腔5侧面的腔体门3-5放入真空腔内，固定于真空腔内顶部。
[0053]在使用过程中需要更换掩膜或者基片4时，需将基准板2、真空纳米定位平台3和掩膜支架I作为整体一同取下拿出真空腔5外面，再更换新的基片或掩膜，更换完毕后，在真空腔室外面装配好后作为整体装入真空腔5内部上顶面。
[0054]需要注意的是，真空腔5侧面的腔体门3-5的形状大小要适宜，如果腔体门3-5的尺寸较小则可能导致无法将内部结构放进去或者装配时不方便，腔体门3-5的尺寸如果比较大的话，则会给真空密封带来困难，尤其是真空腔5内部需要达到高真空的环境。
[0055]腔体门3-5的密封可以选用橡胶圈密封或者使用铜圈密封，铜圈密封可以得到较好的密封效果，但是每次开启腔体门3-5后则需要更换铜圈，会使得使用成本增加；使用橡胶圈密封的话可以重复使用但是密封效果较差，有可能达不到真空腔内所需的真空度要求。因此如何选择密封圈可由实际需求来决定。
[0056]如图2所示，真空腔5的左侧面分布有多个功能接口。具体而言，真空腔5的左侧面分布有四个真空CF法兰接口，分别是第一气体通路口 2-1、第二气体通路口 2-2、第一激光尺光路口 2-3和启停挡板接入口 2-4。其中，第一气体通路口 2-1和第二气体通路口 2-2用来通入N2或其他惰性气体，沿第一激光尺光路口 2-3通向真空腔5内部为激光尺测量光路的一个方向上的通道，第一激光尺光路口 2-3处安装有高透射玻璃，使得测量光路可以很好的通过。启停挡板接入口 2-4用于介入启停挡板，当需要停止镀膜时，由电机驱动挡板轴做转动，使其遮挡蒸发上来的原子，可以及时的停止镀膜，从而保证需要的膜厚值。
[0057]如图3所示，真空腔5的后侧面分布有多个功能接口。具体而言，真空腔5的后侧面分布有四个真空CF法兰接口，分别是第二激光尺光路口 3-1，晶振膜厚仪接口 3-2、压力控制器接口 3-3和分子泵接口 3-4。沿第二激光尺光路口 3-1通向真空腔5内部为激光尺测量光路的另一个方向上的通道。晶振膜厚仪接口 3-2是用来检测膜厚的晶振膜厚仪的接口。压力控制器接口 3-3是用于连接压力控制器的接口，作用是保证真空腔5内的压力稳定在所需要的压力值。分子泵接口 3-4是用于连接分子泵的接口，用来抽取真空。
[0058]如图4所示，真空腔5的前侧面分布有多个功能接口。具体而言，真空腔5的前侧面分布有四个CF真空法兰接口，分别是镀膜状态观测口 4-1，真空计接口 4-2，机械泵接口4-3和附加设备接口 4-4。镀膜状态观测口 4-1用于直观的看到镀膜是真空腔5内部的状态。真空计接口 4-2用来测量真空度；机械泵接口 4-3用来抽取真空；附加设备接口 4-4是为连接其他附加设备而预留的备用接口。
[0059]如图6所示，在掩膜支架I的表面呈直线分布有四个深度不同的掩膜安装孔6-1，掩膜安装孔6-1用来放置不同厚度的掩膜板。实际镀膜时，可以在这四个掩膜安装孔6-1中同时放置掩膜板，这样就可以一次镀膜得到四种不同形状特征的镀膜沉积层，避免了多次镀膜需要进行掩膜板更换步骤，大大提高了镀膜效率。当基片形状较小或