一种弧形石英支架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及石英制品领域，特别涉及一种能用于气相反应的石英支架组件。
【背景技术】
[0002]由于CVD化学气相沉积法制备石墨烯简单易行，所得石墨烯质量很高，可实现大面积生长，而且较易于转移到各种基体上使用，目前已逐渐成为制备高质量石墨烯薄膜的主要方法。然而用CVD法制备石墨烯需要在高温真空腔体中进行，由于炉管内恒温区的长度与管径的尺寸有限，限制了单次生长石墨烯薄膜的尺寸和面积，难以实现工业化量产。若石墨烯薄膜的尺寸过小，会影响后续的器件应用；若单次生长的数量少，则直接导致生产成本的增加。合适的单个支架设计尤为重要。其次，在化学气相沉积工艺中，当在高温或高压的条件下，会发生明显的热对流，气流的稳定性和分布的均匀性直接影响薄膜生长的均匀性。
【发明内容】
[0003]针对现有技术中单次生长石墨烯薄膜的尺寸小和数量少，以及气流分布不均匀的问题，本方法提供了一种弧形石英支架。
[0004]弧形石英支架，包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。
[0005]进一步地，上述弧形底座和挡板均为石英材质。
[0006]进一步地，弧形底座的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。
[0007]进一步地，上述半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。
[0008]本实用新型的有益效果是:弧形底座和弧形的挡板可以更好地与腔体进行结合，保证最大的空间利用率；弧形部分的挂装尺寸得到了增加；半开通凹槽对放置进去的石英棒能起到良好的固定作用，防止石英棒的来回移动；弧形挡板上的通孔能够保证气流的均匀性。
【附图说明】
[0009]附图1是本实用新型的主视图。
[0010]附图2是本实用新型的侧视图。
[0011]附图3是本实用新型的俯视图。
[0012]图中标号:1、石英支架；2、圆形CVD腔体；11、弧形底座；12、弧形挡板；121、挡板上端凹槽；122、挡板通孔；H、石英支架总高度；L、石英支架总长。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图，说明本实用新型的【具体实施方式】。
[0014]弧形石英支架包括弧形底座11、位于底座两端的弧形挡板12、位于弧形挡板12上端的凹槽121以及在挡板12上设置的通孔122，弧形底座11和挡板12均为石英材质，所述凹槽121是未贯穿石英挡板的半开通槽，槽大小和形状根据所用支撑杆决定，支撑杆刚好能够放入槽内固定。弧形底座11的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。
[0015]本实施例中，石英支架总高度H为10mm ;石英支架总长度L为650mm ;弧形挡板12的两侧为平面而非弧面；凹槽121的数量为4个，均匀分布且中心面对称；挡板通孔122为方形，数量为1，尺寸为35mmX40mm。
[0016]最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种弧形石英支架，其特征在于:包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。2.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于:所述的弧形底座和挡板均为石英材质。3.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于:弧形底座的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。4.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于:所述半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。
【专利摘要】本实用新型提供了一种弧形石英支架，包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。弧形底座和挡板均为石英材质。半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。本实用新型的弧形底座和弧形的挡板可以更好地与腔体进行结合，保证最大的空间利用率；弧形部分的挂装尺寸得到了增加；半开通凹槽对放置进去的石英棒能起到良好的固定作用，防止石英棒的来回移动；弧形挡板上的通孔能够保证气流的均匀性。
【IPC分类】C23C16/458
【公开号】CN204702805
【申请号】CN201520368809
【发明人】蒋健伟, 廖威
【申请人】无锡格菲电子薄膜科技有限公司
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年6月2日