一种电弧蒸发源的制作方法

文档序号:9965755阅读:346来源:国知局
一种电弧蒸发源的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于机械零件的耐磨耗性的提高的、氮化物和氧化物的陶瓷膜、非晶质碳膜的薄膜的成膜装置的电弧蒸发源。
【背景技术】
[0002]历来,出于提高机械零件、切削工具、滑动零件等的耐磨耗性、滑动特性和保护机能的目的,广泛使用在该零件和工具的基材的表面涂覆薄膜的物理蒸镀法。作为该物理蒸镀法,从所周知的有电弧离子镀法和溅射法。电弧离子镀法是使用阴极放电型电弧式蒸发源的技术。
[0003]阴极放电型电弧式蒸发源(以下,称为电弧式蒸发源),是在作为阴极的靶的表面使电弧放电发生,瞬间使构成靶的物质熔解和蒸发并使之离子化。电弧式蒸发源,将通过电弧放电而被离子化的该物质引入作为被处理物的基材侧,从而在基材表面形成薄膜。根据该电弧式蒸发源,靶的蒸发速度快,并且蒸发的物质的离子化率高,因此在成膜时通过对基材外加偏压,能够形成致密的皮膜。因此,电弧式蒸发源出于在切削工具等的表面形成耐磨耗性皮膜的目的而在工业上使用。
[0004]目前所用的电弧式蒸发源利用由磁铁或线圈形成的磁场,以电弧放电的电弧点靠近阴极前方的蒸发面的方式进行控制。然而,存在电弧点偶发性地向偏离阴极蒸发面的部位转移的情况。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型目的之一在于为克服现有技术的不足,提供一种能够抑制电弧点向阴极蒸发面以外的部分转移的电弧蒸发源。
[0006]本实用新型提供的一种电弧蒸发源,包括触发式引弧结构、运动永磁体、引弧针、阴极表面和靶材;所述引弧针位于所述触发式引弧结构的末端,所述触发式引弧结构和所述运动永磁体连接,所述靶材的外表面为所述阴极表面。
[0007]本实用新型的有益效果在于,本实用新型能够有效抑制电弧点向阴极表面以外的部分转移,靶面刻蚀均匀。
【附图说明】
[0008]图1所示为本实用新型电弧蒸发源的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]下文将结合具体实施例详细描述本实用新型。应当注意的是,下述实施例中描述的技术特征或者技术特征的组合不应当被认为是孤立的,它们可以被相互组合从而达到更好的技术效果。
[0010]如图1所示,本实用新型提供的一种电弧蒸发源,包括触发式引弧结构1、运动永磁体2、引弧针3、阴极表面4和靶材5 ;引弧针3位于触发式引弧结构I的末端,触发式引弧结构I和运动永磁体2连接,靶材5的外表面为阴极表面4。
[0011 ] 当触发式引弧结构I的引弧针3与阴极表面4接触时,由于引弧针3与阴极表面4构成一个大电流回路,在两个电极迅速通嘶的瞬间,引起大电流脉冲放电,因放电局部高温而引燃电弧放电。
[0012]本实用新型采用的革E材5直径为100mm,厚度为30mm。
[0013]本实用新型采用的运动永磁体2形成的磁场强弱与分布的方向容易进行调节,并可以控制弧斑运动的轨迹。在10_3Pa高真空条件下可以正常稳弧,靶面弧斑线细腻,弧斑线向靶心收缩且向靶边扩展均匀运动,从而有效抑制电弧点向阴极表面4以外的部分转移,靶面刻蚀均匀。
[0014]由于电弧工作的稳定性与阴极表面4的温度有关,温度越低越稳定,而且还会减小靶材5的消耗。因此应对阴极采取强制冷却措施,通常采用水冷。水冷形式分直接水冷和间接水冷两种。
[0015]本实用新型能够有效抑制电弧点向阴极表面4以外的部分转移,靶面刻蚀均匀。
[0016]本文虽然已经给出了本实用新型的一些实施例,但是本领域的技术人员应当理解,在不脱离本实用新型精神的情况下,可以对本文的实施例进行改变。上述实施例只是示例性的,不应以本文的实施例作为本实用新型权利范围的限定。
【主权项】
1.一种电弧蒸发源,其特征在于,包括触发式引弧结构、运动永磁体、引弧针、阴极表面和靶材;所述引弧针位于所述触发式引弧结构的末端,所述触发式引弧结构和所述运动永磁体连接,所述靶材的外表面为所述阴极表面。
【专利摘要】本实用新型提供了一种电弧蒸发源,包括触发式引弧结构、运动永磁体、引弧针、阴极表面和靶材;所述引弧针位于所述触发式引弧结构的末端,所述触发式引弧结构和所述运动永磁体连接,靶材的外表面为阴极表面。本实用新型能够有效抑制电弧点向阴极表面以外的部分转移,靶面刻蚀均匀。
【IPC分类】C23C14/32
【公开号】CN204874720
【申请号】CN201520499219
【发明人】宋永宾
【申请人】青岛优百宇真空设备股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月10日
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