一种真空旋转基片承载盘的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空旋转基片承载盘，不仅仅适用于OLED器件，还适用于所有热蒸镀成膜器件，属于机械技术领域。
【背景技术】
[0002]真空热蒸发镀膜在有机EL (Electro Luminescence)显示器等平板显示器(FPD-Flat Panel Display)的制造方法中被广泛应用，以及相应薄膜器件的产业化中应用也非常广泛，其基本原理是利用加热的手段使源受热蒸发，由固相/液相变成气相，然后气体分子或原子在蒸发源与基板(衬底)之间输运，最后蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积。
[0003]在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。现有的基片盘功能单一、密封性能差，且更换需停机步骤繁琐。
【发明内容】
[0004]鉴于上述现有技术存在的缺陷，本实用新型的目的是提出一种真空旋转基片承载盘。
[0005]本实用新型的目的，将通过以下技术方案得以实现:
[0006]—种真空旋转基片承载盘，包括磁流体主体，所述磁流体主体下方通过转动轴依次连接有基片盘、掩膜盘及挡板，所述挡板与掩膜盘相对转动，所述磁流体主体的上方套设有一转动把手，所述把手与磁流体主体之间设置有定位盘，所述转动把手转动带动磁流体主体转动，所述基片盘上开设有基片孔，所述基片孔下设置有基片托盘，所述挡板上于基片孔相应位置开设有孔，所述掩膜盘上通过磁性连接有掩膜板，所述转动把手上连接有一指针，所述转动把手转动带动指针在定位盘上进行指示。
[0007]优选地，所述基片孔设置有4个，所述挡板上开设的孔数量小于基片孔的数量。
[0008]优选地，所述掩膜板与掩膜盘通过定位销固定。
[0009]优选地，所述转动轴上套设有提升套，所述提升套的一端与基片盘通过螺栓固定连接。
[0010]优选地，所述掩膜盘通过螺栓与转动轴固定。
[0011 ] 优选地，所述磁流体主体上设置有冷却水接口。
[0012]优选地，每块所述掩膜板上设置有两种图案。
[0013]本实用新型突出效果为:承载盘上集成的功能多，可放置四个基片，可在线更换掩膜板，通过定位盘可准确定位。转动部分采用磁流体密封，漏率小，具有可靠的密封性。基片与掩膜板之间距离较小，所蒸镀图案边缘影响小。采用铝盘，减轻了基片架的重量，同时变形量小，增加了蒸镀的精度。挡板与掩膜盘之间紧贴，遮挡效果较好。整体采用手动操作，成本低，经济实用。
[0014]以下便结合实施例附图，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。
【附图说明】
[0015]图1是本装置的立体结构示意图。
[0016]图2是本装置的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0017]如图1至图2所示，本实用新型揭示了一种真空旋转基片承载盘，包括磁流体主体6，所述磁流体主体6下方通过转动轴4依次连接有用于放置基片的基片盘3、掩膜盘2及挡板1，所述掩膜盘2通过螺栓与转动轴4固定，所述挡板I与掩膜盘2相对转动，所述磁流体主体6的上方套设有一转动把手7，所述转动把手7上连接有一指针71，连接方式可以采用焊接或其他固定方式。
[0018]所述转动把手7与磁流体主体6之间设置有定位盘8，所述定位盘8上标示有角度分布。具体的，所述定位盘8套接于磁流体主体6的上端部，所述转动把手7转动，带动磁流体主体6转动，同时，也将带动指针71在定位盘7上进行角度的指示。所述磁流体主体6为不锈钢材质，且采用了磁性液体密封，保证了其密封性能。所述磁流体主体6上设置有用于冷却承载盘的冷却水接口。
[0019]所述基片盘3上开设有基片孔，为了提高效率，一般基片孔2设置有四个，均布与基片盘上。所述基片孔下设置有防止基片掉落的基片托盘31，所述挡板上于基片孔相应位置开设有孔，所述挡板I上开设的孔为I个，当开挡板I上开设有一个孔时，则同一时间可完成一个基片的蒸镀，当然，挡板上的孔也可以开设有多个，但数量需要小于基片盘上基片孔数量。
[0020]所述掩膜盘2上通过磁性连接有四块掩膜板，为了加强连接与固定，所述掩膜板与掩膜盘2通过定位销加强固定，每块所述掩膜板上设置有两种图案。为了方便更换掩膜板，所述转动轴4上还套设有提升套5，所述提升套5的一端与基片盘3通过螺栓固定连接。需要更换时，只需要在提升套5处向上施力，即可将基片盘与掩膜盘分离，进行对掩膜板的更换，以此更换蒸镀图案，基片盘与研磨盘分离快速，掩膜板的更换时间快速，小于15S。
[0021]本实用新型尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:包括磁流体主体，所述磁流体主体下方通过转动轴依次连接有基片盘、掩膜盘及挡板，所述挡板与掩膜盘相对转动，所述磁流体主体的上方套设有一转动把手，所述把手与磁流体主体之间设置有定位盘，所述转动把手转动带动磁流体主体转动，所述基片盘上开设有基片孔，所述基片孔下设置有基片托盘，所述挡板上于基片孔相应位置开设有孔，所述掩膜盘上通过磁性连接有掩膜板，所述转动把手上连接有一指针，所述转动把手转动带动指针在定位盘上进行指示。2.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:所述基片孔设置有4个，所述挡板上开设的孔数量小于基片孔的数量。3.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:所述掩膜板与掩膜盘通过定位销固定。4.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:所述转动轴上套设有提升套，所述提升套的一端与基片盘通过螺栓固定连接。5.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:所述掩膜盘通过螺栓与转动轴固定。6.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:所述磁流体主体上设置有冷却水接口。7.根据权利要求1所述的一种真空旋转基片承载盘，其特征在于:每块所述掩膜板上设置有两种图案。
【专利摘要】本实用新型揭示了一种真空旋转基片承载盘，包括磁流体主体，所述磁流体主体下方通过转动轴依次连接有基片盘、掩膜盘及挡板，挡板与掩膜盘相对转动，磁流体主体的上方套设有一转动把手，所述把手与磁流体主体之间设置有定位盘，所述转动把手转动带动磁流体主体转动，所述基片盘上开设有基片孔，所述基片孔下设置有基片托盘，所述挡板上于基片孔相应位置开设有孔，所述掩膜盘上通过磁性连接有掩膜板，所述转动把手上连接有一指针，所述转动把手转动带动指针在定位盘上进行指示。本实用新型的承载盘上集成的功能多，可放置四个基片，可在线更换掩膜板，通过定位盘可准确定位，且使用时精度高。
【IPC分类】C23C14/04, C23C14/50, C23C14/24
【公开号】CN204898058
【申请号】CN201520562196
【发明人】廖良生, 武启飞, 陈敏
【申请人】苏州方昇光电装备技术有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年7月30日