一种改善片式氧传感器跳变偏移的多孔外保护层制备方法与流程

文档序号:15570411发布日期:2018-09-29 04:19阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种片式氧传感器多孔外保护层的制备方法,包括以下步骤:制备浆料;对浆料进行球磨和搅拌;在传感器芯片的多孔保护层上依次浸渍涂层催化层和保护层;然后进行低温烧结,得到片式氧传感器多孔外保护层。本发明通过在片式氧传感器的多孔保护层上设置多孔外保护层,且优化多孔外保护层的配方,解决了氢气对片式氧传感器由浓到稀跳变偏移的问题,而且还可增加片式氧传感器的耐久性。

技术研发人员:黄涛;包绍明;李婷;余苗
受保护的技术使用者:成都科锐传感技术有限公司
技术研发日:2018.06.06
技术公布日:2018.09.28
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