降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统的制作方法

文档序号:17709522发布日期:2019-05-21 21:08阅读:329来源:国知局
降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统的制作方法

本实用新型属于高纯氯化钡生产技术领域,涉及一种降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统。



背景技术:

高纯氯化钡是科技进步和生产实践对材料提出的新要求,它广泛地应用在航空航天、电子、医药、特种钢、特种玻璃、造纸等高科技和传统产业的各个领域。高纯氯化钡是以工业氯化钡为原料,经过蒸发、除杂、结晶、清洗、干燥,并反复进行上述操作得到的杂质含量少、氯化钡含量高的高纯氯化钡。在氯化钡生产的蒸发工序中,母液长时间循环使用后,要及时排放,才能保证氯化钡产品的质量。这部分氯化钡的蒸发残液(简称氯化钡废液)含有Ba2 +、Ca2 +、Mg2 +、Fe3 +、Sr2 +属剧毒物, 直接排放会污染环境。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统,过滤效果有很大的提高。

本实用新型的方案是:

一种降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统,包括氯化钡废液收集罐,所述氯化钡废液收集罐通过管道与第一缓冲罐、絮凝沉淀装置、第一压力泵、第一过滤器、第二缓冲罐、第二压力泵、第二过滤器、洗涤器、第一干燥器通过管道依次连通。

优选地,所述第一过滤器通过管道与第二干燥器连通。

优选地,所述第二过滤器底部通过管道与蒸发器、结晶器、离心装置、提纯罐、第三烘干器通过管道依次连通。

优选地,所述蒸发器与再沸器循环连通。

优选地,所述絮凝沉淀装置与第一过滤器之间设有第一压力泵,所述第二缓冲罐与第二过滤器之间设有第二压力泵。

优选地,所述第一缓冲罐设有石灰进入管,所述第二缓冲罐设有第一氢氧化钠溶液通入管,所述洗涤器设有第二氢氧化钠溶液通入管,所述提纯罐设有乙醇通入管。

本实用新型有益效果:

1、本实用新型对氯化钡废液进行回收利用,回收了废液中的金属钙、镁、铁等的氢氧化物,可用作水泥、制砖的原料,降低了尾渣中的有效含量。

2、本实用新型蒸发过程中产生的废液可用作洗涤用水,可直接排放。

3、本实用新型的原料主要是熟石灰和工业乙醇,熟石灰可用制得的氢氧化钙产物代替,降低了生产成本。

4、本实用新型在处理废液的过程中,同时制备出工业级氢氧化钙和高纯氯化钡, 一举多得。

附图说明

图1本实用新型装置示意图;

其中:氯化钡废液收集罐1,第一缓冲罐2,石灰进入管21,絮凝沉淀装置3,第一压力泵4,第一过滤器5,第二缓冲罐6,第一氢氧化钠溶液通入管61,第二压力泵7,第二过滤器8,洗涤器9,第二氢氧化钠溶液通入管91,第一干燥器10,第二干燥器11,蒸发器12,结晶器13,离心装置14,提纯罐15,乙醇通入管151,第三烘干器16,再沸器17。

具体实施方式

下面结合实施例来进一步说明本实用新型,但本实用新型要求保护的范围并不局限于实施例表述的范围。

实施例1

一种降低氯化钡生产过程中尾渣有效含量的系统,包括氯化钡废液收集罐1,所述氯化钡废液收集罐1通过管道与第一缓冲罐2、絮凝沉淀装置3、第一压力泵4、第一过滤器5、第二缓冲罐6、第二压力泵7、第二过滤器8、洗涤器9、第一干燥器10通过管道依次连通。

优选地,所述第一过滤器5通过管道与第二干燥器11连通。

优选地,所述第二过滤器8底部通过管道与蒸发器12、结晶器13、离心装置14、提纯罐15、第三烘干器16通过管道依次连通。

优选地,所述蒸发器12与再沸器17循环连通。

优选地,所述絮凝沉淀装置3与第一过滤器5之间设有第一压力泵4,所述第二缓冲罐6与第二过滤器8之间设有第二压力泵7。

优选地,所述第一缓冲罐2设有石灰进入管21,所述第二缓冲罐6设有第一氢氧化钠溶液通入管61,所述洗涤器9设有第二氢氧化钠溶液通入管91,所述提纯罐15设有乙醇通入管151。

本实施例工作时:氯化钡废液收集罐1进入第一缓冲罐2中,加入氢氧化钙,氢氧化钙与氯化钡废液的钙、镁、铁氯化物反应生成复盐经絮凝沉淀装置3絮凝后进入第一过滤器5过滤,过滤滤渣即为钙、镁、铁以氢氧化物的形式沉淀进入第二干燥器11干燥后用于水泥的生产。第一过滤器5得到的滤液进入第二缓冲罐6,通过第一氢氧化钠溶液通入管61通入氢氧化钠调节pH值至13,85℃搅拌10-20min,进入第二过滤器8进行过滤,过滤得到的滤渣进入洗涤器9通入0.05%-0.08% 氢氧化钠进行洗地,进入第一干燥器10干燥得到氢氧化钙沉淀产品,过滤得到滤液进入蒸发器12进行蒸发,再进入结晶器13进行结晶得到粗氯化钡,再进入离心装置14分离之后进入提纯罐15采用乙醇清洗得到高纯度的氯化钡。

以上所述实施例仅为本实用新型的较佳实施例,并不因此而限制本实用新型的保护范围,故凡依本实用新型之形状、构造及原理所作的等效变化,均应涵盖于本实用新型的保护范围内。

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