均匀性AG玻璃产品及其制备方法与流程

本发明涉及ag显示玻璃加工相关技术领域，特别涉及一种均匀性ag玻璃产品及其制备方法。

背景技术：

抗反射玻璃是一款适用于建筑材料、太阳能利用等的抵抗反射，增加透光率的玻璃。抗反射玻璃，就是抵抗反射，从而增加透光率的玻璃。该项技术已经由德国一家研究所开发成功，虽然它的价格不菲，但在国外市场仍很受欢迎。这种新型玻璃的透光率高达99.5％，为了增大玻璃的透光率，玻璃表面涂覆了一层具有防止光线反射的涂膜层，形成抗反射功能的新型玻璃将在新世纪里的玻璃加工业中占有重要地位。该玻璃在建筑材料、太阳能利用、光学仪器制造等诸多的领域中有着广阔的市场及发展前景。目前流行的蚀刻法ag加工工艺，浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻ag工艺或者在蚀刻ag工艺前增加弱酸预处理；该方法加工的ag玻璃满足一般客户要求，但针对高端领域，ag面微光粒子均匀性达不到理想效果。目前市面上流行的ag玻璃，主流工艺是采用腐蚀法制程生产ag玻璃；在玻璃空气面直接经过化学预处理后做蒙砂抛光工序，此工艺制备的ag玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差：粒子凹坑直径极差范围为35-60um。实际测试一组数据，如在370mm*470mm大小玻璃面上，做成光泽度为75％的ag玻璃，整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径(rsm)数据如下：76um；88um；128um；96um；98um；126um；87um；95um；129um；9点极差范围在51um。

因此，提出一种均匀性ag玻璃产品及其制备方法来解决上述问题很有必要。

技术实现要素：

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种均匀性ag玻璃产品及其制备方法，解决了现有的ag玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

一种均匀性ag玻璃产品，包括玻璃本体，所述玻璃本体的上下两端均设有固定框，所述玻璃本体由第一介质层、第二介质层和第三介质层组成，所述第一介质层、第二介质层和第三介质层表面均涂有镀膜层，所述镀膜层由zno镀层、cu镀层和nicr镀层组成，所述固定框的两端均固定连接有限位板，所述固定框的表面开设有滑槽，所述第一介质层、第二介质层、和第三介质层的上下两端均固定连接有滑块。

可选的，所述第一介质层、第二介质层和第三介质层均由玻璃制成，所述第一介质层、第二介质层和第三介质层的厚度均为30mm。

可选的，所述玻璃本体与限位板贴合连接，所述滑块与滑槽活动连接。

可选的，所述zno镀层为内镀层，所述nicr镀层为外镀层，所述cu镀层位于zno镀层和nicr镀层之间。

一种均匀性ag玻璃产品的制备方法，包括以下步骤：

a：装夹：将玻璃按照标示角将锡面吸附在抛光设备上盘；

b：抛光：启动抛光设备，对玻璃进行抛光；

c：清洗：将玻璃卸下，用清洗刷洗机进行清洗，然后进行烘干，以水不聚流、不挂壁为标准；

d：抗酸处理：对玻璃的非工作面用专用抗酸材料做印刷保护；

e：药物清洗：对玻璃的工作面用专用的药液进行预洗；

f：蒙砂处理：对玻璃工作面在专业蒙砂设备上，用特制的蒙砂药液进行蒙砂处理，使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌；

g：化学抛光：将玻璃固定在专业化学抛光设备上，用特制的化学抛光药液对玻璃的工作面进行抛光处理，使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮；

h：检测：对玻璃工作面的微观形貌做检验及检测，看是否达到专业要求数据。

可选的，所述步骤b中抛光时间为4-6分钟。

可选的，所述步骤e中药液的主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸。

(三)有益效果

本发明提供了一种均匀性ag玻璃产品及其制备方法，具备以下有益效果：

(1)、本发明通过第一介质层、第二介质层和第三介质层之间的配合设置，确保玻璃具有很好的透光性和较好的隔热性能。

(2)、本发明通过设置滑槽和滑块，方便了玻璃本体的安装和拆卸，减轻了工作压力，提高了工作效率。

(3)、本发明通过zno镀层、cu镀层和nicr镀层之间的配合设置，使得反射光的颜色为铜红色，同时使用cu功能层，达到更好的防红外线辐射能力。

(4)、本发明在现有ag生产工艺基础上，在弱酸预处理前对玻璃基板空气面进行特殊物理抛光，通过精抛光工艺，实现玻璃表面微观粒子形貌均匀，从而在后面ag工序中达到粒子形貌更均匀，进一步提高ag制程良率。

附图说明

图1为本发明结构的主视示意图；

图2为本发明图1中a处结构的放大示意图；

图3为本发明镀膜层结构的截面示意图。

图中：1、玻璃本体；2、固定框；3、限位板；4、滑槽；5、第一介质层；6、第二介质层；7、第三介质层；8、滑块；9、镀膜层；10、zno镀层；11、cu镀层；12、nicr镀层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

根据如图1-3所示，本发明提供了一种技术方案：

一种均匀性ag玻璃产品，包括玻璃本体1，玻璃本体1的上下两端均设有固定框2，玻璃本体1由第一介质层5、第二介质层6和第三介质层7组成，第一介质层5、第二介质层6和第三介质层7表面均涂有镀膜层9，镀膜层9由zno镀层10、cu镀层11和nicr镀层12组成，固定框2的两端均固定连接有限位板3，固定框2的表面开设有滑槽4，第一介质层5、第二介质层6、和第三介质层7的上下两端均固定连接有滑块8。

作为本发明的一种可选技术方案：

第一介质层5、第二介质层6和第三介质层7均由玻璃制成，第一介质层5、第二介质层6和第三介质层7的厚度均为30mm，通过第一介质层5、第二介质层6和第三介质层7之间的配合设置，确保玻璃具有很好的透光性和较好的隔热性能。

作为本发明的一种可选技术方案：

玻璃本体1与限位板3贴合连接，滑块8与滑槽4活动连接，通过设置滑槽4和滑块8，方便了玻璃本体1的安装和拆卸，减轻了工作压力，提高了工作效率。

作为本发明的一种可选技术方案：

zno镀层10为内镀层，nicr镀层12为外镀层，cu镀层11位于zno镀层10和nicr镀层12之间，通过zno镀层10、cu镀层11和nicr镀层12之间的配合设置，使得反射光的颜色为铜红色，同时使用cu功能层，达到更好的防红外线辐射能力。

实施例一：

一种均匀性ag玻璃产品的制备方法，包括以下步骤：

a：装夹：将玻璃按照标示角将锡面吸附在抛光设备上盘；

b：抛光：启动抛光设备，对玻璃进行抛光，抛光时间为4分钟；

c：清洗：将玻璃卸下，用清洗刷洗机进行清洗，然后进行烘干，以水不聚流、不挂壁为标准；

d：抗酸处理：对玻璃的非工作面用专用抗酸材料做印刷保护，使其在后工序中保证不受任何影响；

e：药物清洗：对玻璃的工作面用专用的药液进行预洗，药液的主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸；

f：蒙砂处理：对玻璃工作面在专业蒙砂设备上，用特制的蒙砂药液进行蒙砂处理，使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌；

g：化学抛光：将玻璃固定在专业化学抛光设备上，用特制的化学抛光药液对玻璃的工作面进行抛光处理，使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮，这样能够达到漫反射效果从而形成ag防炫效果；

h：检测：对玻璃工作面的微观形貌做检验及检测，看是否达到专业要求数据。

实施例二：

一种均匀性ag玻璃产品的制备方法，包括以下步骤：

a：装夹：将玻璃按照标示角将锡面吸附在抛光设备上盘；

b：抛光：启动抛光设备，对玻璃进行抛光，抛光时间为5分钟；

c：清洗：将玻璃卸下，用清洗刷洗机进行清洗，然后进行烘干，以水不聚流、不挂壁为标准；

d：抗酸处理：对玻璃的非工作面用专用抗酸材料做印刷保护，使其在后工序中保证不受任何影响；

e：药物清洗：对玻璃的工作面用专用的药液进行预洗，药液的主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸；

f：蒙砂处理：对玻璃工作面在专业蒙砂设备上，用特制的蒙砂药液进行蒙砂处理，使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌；

g：化学抛光：将玻璃固定在专业化学抛光设备上，用特制的化学抛光药液对玻璃的工作面进行抛光处理，使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮，这样能够达到漫反射效果从而形成ag防炫效果；

h：检测：对玻璃工作面的微观形貌做检验及检测，看是否达到专业要求数据。

实施例三：

一种均匀性ag玻璃产品的制备方法，包括以下步骤：

a：装夹：将玻璃按照标示角将锡面吸附在抛光设备上盘；

b：抛光：启动抛光设备，对玻璃进行抛光，抛光时间为6分钟；

c：清洗：将玻璃卸下，用清洗刷洗机进行清洗，然后进行烘干，以水不聚流、不挂壁为标准；

d：抗酸处理：对玻璃的非工作面用专用抗酸材料做印刷保护，使其在后工序中保证不受任何影响；

e：药物清洗：对玻璃的工作面用专用的药液进行预洗，药液的主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸；

f：蒙砂处理：对玻璃工作面在专业蒙砂设备上，用特制的蒙砂药液进行蒙砂处理，使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌；

g：化学抛光：将玻璃固定在专业化学抛光设备上，用特制的化学抛光药液对玻璃的工作面进行抛光处理，使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮，这样能够达到漫反射效果从而形成ag防炫效果；

h：检测：对玻璃工作面的微观形貌做检验及检测，看是否达到专业要求数据。

通过以上三组实施例均可以制得ag玻璃产品，其中第二组实施例制得的ag玻璃产品不良率最低，本发明工艺在现有ag生产工艺基础上，在弱酸预处理前对玻璃基板空气面进行特殊物理抛光，通过精抛光工艺，实现玻璃表面微观粒子形貌均匀，从而在后面ag工序中达到粒子形貌更均匀，进一步提高ag制程良率。

综上所述：本发明通过增加一道专业物理抛光工序来提高ag玻璃表面微观颗粒度，提高均匀性，粒子凹坑直径极差由原来的35-60um，提高到极差在10以内，同时，因为粒子凹坑均匀性提高，ag制程中的暗斑和暗点蚀刻不良减少，不良率由原来的10％以上下降到到3％以下。通过增加该物理抛光工序，使后面ag工序制程后玻璃表面微光颗粒度更均匀，降低ag工序中的蚀刻不均造成的暗点缺陷和暗斑缺陷，将基板玻璃空气面经过特殊物理抛光后，再经过预处理后做蒙砂抛光工序，ag玻璃表面粒子颗粒度均匀性有很大提高，实际测试一组数据，如在370*470大小玻璃面上，做成光泽度为75％的ag玻璃，整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径数据如下：89um；95um；92um；89um；94um；93um；94um；95um；92um；9点极差在7um；很大程度上提高了粒子凹坑直接均匀性。

需要说明的是，在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。