一种低辐射可钢化镀膜玻璃的制作方法

本发明涉及一种玻璃，尤其涉及一种低辐射可钢化镀膜玻璃。
背景技术：
：目前国内外生产可钢化low-e玻璃(低辐射玻璃)的技术主要有两种。一种是用银作为低辐射膜层：这种技术的优点是抗氧化性和耐加工性能相对要较好，缺点是越是对辐射率要求高的产品其外观颜色就越不太好看，另一种是用银合金或者是其他金属合金作为低辐射功能层：这种技术的优点是产品的外观颜色好看、而且以肉眼看玻璃外观质感性很强、膜层通透性较好，缺点是膜层抗氧化性能、耐加工性能皆较差，而且在后续深加工时耐高温性也不好、产品的成品率也较低，造成相应的加工成本也较高。技术实现要素：发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种低辐射可钢化镀膜玻璃，以提高现有玻璃的外观质量、增强其抗氧化及耐加工性能。技术方案：为实现上述目的，本发明的一种低辐射可钢化镀膜玻璃，所述玻璃膜层结构自玻璃基片向外依次为第一电介质组合层、第一阻挡层、铜镍合金层、第二阻挡层、第二电介质组合层、第三阻挡层、低辐射功能层、第四阻挡层、第三电介质组合层和保护层。进一步地，所述铜镍合金层的铜、镍含量比例为99.5％：0.5％、99％：1％、98.5％：1.5％、98％：2％、97.5％：2.5％、97％：3％、96.5％：3.5％、96％：4％、95.5％：4.5％、95％：5％、92％：8％、90％：10％、87.5％：12.5％、85％：15％中的任一比例，所述铜镍合金层的厚度为5～30nm。。进一步地，所述第一电介质组合层/第二电介质组合层/第三电介质组合层的材料为si3n4、azo、znox、snox、znsnox其中的一种或几种，所述第一电介质组合层/第二电介质组合层/第三电介质组合层的厚度为5～100nm。进一步地，所述第一阻挡层/第二阻挡层/第三阻挡层/第四阻挡层的材料为nicr、cr、ti其中一种或者几种的组合，所述第一阻挡层/第二阻挡层/第三阻挡层/第四阻挡层的厚度为0～10nm。进一步地，所述保护层的材料为si3n4、zrox、znsioxny、c其中一种或者几种的组合，所述保护层的厚度为0.1～50nm，其中x取值范围为1～4，y的取值范围为1～4。进一步地，所述低辐射功能层的材料为ag，所述低辐射功能层的厚度为5～40nm。本发明的有益效果如下所述：本发明的一种低辐射可钢化镀膜玻璃，设置有铜镍合金层，由于铜镍合金膜层相对于纯铜而言具有更好的延展性、耐腐蚀性，而且还能充分地展现纯铜膜层所展现出来的透过色及外观颜色都呈现纯灰色的优点，因此具有铜镍合金膜层的玻璃不仅具有更高的外观质量，还同时提高了其抗氧化性能和机械加工性能，大大提高了深加工玻璃的加工产品率，降低了加工成本。附图说明附图1为本发明所述玻璃各个功能层的示意图。具体实施方式下面结合附图对本发明作更进一步的说明。实施例一一种低辐射可钢化镀膜玻璃，所述玻璃膜层结构自玻璃基片向外依次为第一电介质组合层、第一阻挡层、铜镍合金层、第二阻挡层、第二电介质组合层、第三阻挡层、低辐射功能层、第四阻挡层、第三电介质组合层和保护层。所述第一电介质层采用si3n4、zno2材料其中si3n4厚度为28nm，zno2为10nm；第一阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.7nm；所述铜镍合金层采用cuni材料，其厚度为9.2nm，其中铜的含量为98％，ni的含量为2％；第二阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.8nm；所述第二电介质组合层采用azo、znsno4、azo材料，其厚度依次为10nm、61.5nm、10nm；所述第三阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.9nm；所述低辐射功能层采用ag材料，其厚度为0.5nm；所述第四阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.9nm；所述第三电介质组合层采用azo材料，其厚度为10nm；所述保护层采用si3n4材料，其厚度为26.5nm。经过检测所述玻璃钢化后的颜色数据如下：rgr＝7.0，a*＝-0.4，b*＝-5；rfr＝3.1，a*＝-4.6，b*＝-5.5；trt＝60.7，a*＝1.4，b*＝1.4；r□＝3.0。将该玻璃与纯铜镀层的玻璃进行抗氧化及耐加工性测试，测试结果如下。试样抗氧化(裸放)铅笔硬度酒精擦拭(次)钢化测试正常(纯铜)502b30钢化有小白点样品(铜镍合金)1022h50无品质问题实施例二一种低辐射可钢化镀膜玻璃，所述玻璃膜层结构自玻璃基片向外依次为第一电介质组合层、第一阻挡层、铜镍合金层、第二阻挡层、第二电介质组合层、第三阻挡层、低辐射功能层、第四阻挡层、第三电介质组合层和保护层。所述第一电介质层采用si3n4、azo材料，其厚度分别为38.5nm和10nm；第一阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.7nm；所述铜镍合金层采用cuni材料，其厚度分别为8.6nm，其中铜的含量为98％，ni的含量为2％；第二阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.8nm；所述第二电介质组合层采用azo、si3n4、azo材料，其厚度分别为10nm、59.5nm和10nm；所述第三阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.8nm；所述低辐射功能层采用ag材料，其厚度为10.3nm；所述第四阻挡层采用nicr材料，其厚度为0.9nm；所述第三电介质组合层采用azo材料，其厚度为10nm；所述保护层采用si3n4材料，其厚度分别为25.6nm。经过检测所述玻璃钢化后的颜色数据如下：rgr＝4.7，a*＝0.6，b*＝-2.7；rfr＝4.1，a*＝-4.5，b*＝-10；trt＝59.7，a*＝-0.8，b*＝0.2；r□＝3.1。将该玻璃与纯铜镀层的玻璃进行抗氧化及耐加工性测试，测试结果如下。试样抗氧化(裸放)铅笔硬度酒精擦拭(次)钢化测试正常(纯铜)48b30钢化有小白点样品(铜镍合金)962h50无品质问题以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出：对于本
技术领域：
的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。当前第1页12