1.一种水冷热屏用清洁装置，其特征在于，包括：
充气环路，所述充气环路用于设置在水冷热屏上方，且大小与所述水冷热屏相适应，所述充气环路下方设有气孔，所述气孔与所述水冷热屏相对设置；
充气法兰，所述充气法兰与所述充气环路连通，所述充气法兰设有进口，所述进口用于充气；
空心柱体，所述空心柱体的一端与所述充气法兰连接，另一端与充气环路连接，用于导入气体并定位所述充气环路的位置。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：
控制阀，所述控制阀与所述充气法兰的进口连接，用于控制向所述充气法兰注入气体。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述充气的气体是氩气。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述充气环路为圆形环路。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述充气环路上的所述气孔为多个，多个所述气孔均布在所述充气环路的下表面，与所述水冷热屏相对。
6.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，还包括：
导气软管，所述导气软管的一端与所述控制阀连接，另一端与所述充气法兰连接。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述导气软管是金属材料件。
8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体在所述充气环路的流速大于200l/min。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体在所述充气环路中对所述充气环路的侧壁压力大于0.2mpa。
10.一种单晶炉，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的水冷热屏用清洁装置和水冷热屏，所述水冷热屏用清洁装置设置在所述水冷热屏的开口的上方。