一种用于PCB制程中的显影槽清洗剂的制作方法

文档序号：12247132阅读：1703来源：国知局

本发明涉及一种PCB制程中显影槽清洗剂，尤其是应用在集成电路、印刷电路板、载板、软硬结合板的DES显影制程，内、外层显影制程，液晶显示器等工艺中。

背景技术：

光致抗蚀剂是用来将图像转印到基材上的光敏性薄膜，在基材上形成光致抗蚀剂涂层，然后所述光致抗蚀剂层通过光掩膜在活化辐射源下曝光。在活化辐射下的曝光为光致抗蚀剂涂层提供了光诱导化学转化，从而将光掩膜的图形转印到光致抗蚀剂涂覆的基材上。曝光后，对所述光致抗蚀剂进行显影得到浮雕图像。

例如在集成电路、印刷电路板、载板、软硬结合板的DES显影制程，内、外层显影制程，液晶显示器等工艺中，常利用光阻剂等放射线敏感组成物以涂布方式在基材上形成薄膜(或干膜)，经过放射线照射后，以碱性显影液显像，以除去不要的涂膜部分。但此时显影槽内也将同时溶入大量的薄膜(或干膜)光阻剂及膜渣，光阻剂与显影液经过长时间生产聚合后会形成大量的结垢物，如果不能及时用显影槽清洗剂清除，将造成产品生产过程中的不良率上升。

然而现有显影槽清洗剂的处理效果并不理想，如中国专利CN201210201233公布的PCB干膜显影槽清洗剂及其制备方法，利用酸性溶液对槽壁上的污垢进行清洗；但是在实际使用中发现，这类酸性清洗剂，不但清洗后排放的废液COD值非常的高，生物难以分解，对环境损害大；而且在清洗时需要进行加温处理，清洗时间较长、清洗效果并不理想。

技术实现要素：

针对上述问题，本发明的目的是为了解决显影槽清洗剂中COD值过高、清洗时间长、需要升温，清洗效果不好的缺陷做出的改进。

为了实现本发明的技术目的，本发明采用如下技术方案。

一种用于PCB制程中的显影槽清洗剂，所述显影槽清洗剂由溶剂A和溶剂B组成，其中溶剂A按质量百分比计，包括10-20％的酸性水溶液；溶剂B以溶剂A为基数，按质量百分比计，包括1-3％的增溶剂和1-3％的表面活性剂。

优选的，所述溶剂A中酸为盐酸、硫酸、柠檬酸、磷酸、乙酸、乙二酸、甲酸、亚硫酸、亚磷酸中至少一种。其中酸的作用主要是通过将显影槽干膜残渣浸蚀膨胀，去除显影槽内及槽壁上的钙镁结晶物。

优选的，所述增溶剂为聚乙二醇。加入增溶剂可以提高对干膜残渣中的有机物的溶解性，而采用聚乙二醇一方面可以满足上述要求，另一方面聚乙二醇具有低腐蚀性，可生物分解，清洗后的废液容易处理，不燃不爆，短时间接触对人体不产生腐蚀，克服了现有显影槽清洗剂高COD值(难以生物分解)的问题，节省废水处理的时间及费用。

所述表面活性剂为水溶性聚醚，本发明选用水溶性聚醚作为表面活性剂，一方面其溶于水，不需再额外加入其它辅助溶剂，另外水溶性聚醚在本发明中可以降低显影槽清洗剂的表面张力，提高清洗效果。

本发明的有益效果是：本发明提供了一种用于PCB制程中的显影槽清洗剂，与现有技术相比，具有以下优点。

1.本发明提供的一种用于PCB制程中的显影槽清洗剂，其具有低腐蚀性，生物可分解，清洗后的废液容易处理，不燃不爆，短时间接触对人体不产生腐蚀，不破坏臭氧层，不会引起温室效应，使用、运输、储存非常方便的优点。

2.能有效清洗薄膜(或干膜)显影槽内的干膜残留物及聚合物，有效分解显影槽内钙镁离子结晶物，对槽体以及设备无腐蚀性，可有效代替目前酸碱洗方式，降低成本。

3.清洗时间较现有的酸碱洗方式时间缩短，约可缩短时间生产效率提高，成本降低。

具体实施方式

为了更好的理解本发明，下面结合具体实施例对发明作详细的说明。

一种用于PCB制程中的显影槽清洗剂，所述显影槽清洗剂由溶剂A和溶剂B组成，其中溶剂A按质量百分比计，包括10-20％的酸性水溶液；

溶剂B以溶剂A为基数，按质量百分比计，包括1-3％的增溶剂和1-3％的表面活性剂。

所述溶剂A中酸为盐酸、硫酸、柠檬酸、磷酸、乙酸、乙二酸、甲酸、亚硫酸、亚磷酸中至少一种。

所述增溶剂为聚乙二醇。

所述表面活性剂为水溶性聚醚。

实施例1

溶剂A：盐酸、硫酸、柠檬酸、磷酸、乙酸、乙二酸、甲酸、亚硫酸、亚磷酸任意比例总计100kg，水900kg。

溶剂B：以溶剂A为基础量，聚乙二醇10kg(占溶剂A质量的10/1000＝1％)；水溶性聚醚10kg(占溶剂A质量的10/1000＝1％)。