技术特征：
技术总结
本发明公开了一种数控机床用的去油污清洗剂，按照重量份包括以下原料：三聚磷酸钠10~20份、蒙脱石5~10份、二氧化硅6~12份、粘土2~5份、硫酸钙2~8份、硫酸钠5~15份、乙二胺四乙酸二钠6~18份、乙酸乙酯2~10份、乙醇和偏硅酸钠3~14份、抗菌剂1.5~3.5份、缓蚀剂0.5~7.5份、增稠剂0.5~2.5份、稳定剂1~10份。本发明提供一种数控机床用的去油污清洗剂及其制备方法，利用有机改性蒙脱石对油污的溶涨、二氧化硅和粘土对油污的吸附、硫酸钙的粘结作用，几种原料组分经过简单混合便生成一种数控机床用的去油污清洗剂，使得该清洗剂可以溶胀油污、吸附油污。
技术研发人员：张玉成
受保护的技术使用者：合肥轻风飏电气科技有限责任公司
技术研发日：2017.07.12
技术公布日：2017.09.22