一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，按重量份数，包括以下原料制成：聚氨酯丙烯酸酯10～60份、UV稀释单体1～50份、光引发剂0.4～40份、有机硅流平剂0.01～15份、有机硅耐磨剂0.03～15份、底材附着力促进剂0.02～6份、溶剂0～90份。本发明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹纹现象，而且可以使薄膜表面的硬化层达到3～9H,耐磨可以经受0000#钢丝棉，采用2kg的压力，来回摩擦50次以上，在抗刮层表面没有划痕。因此该无彩虹纹保护膜的防刮耐磨效果极为优异。
【专利说明】一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于保护膜【技术领域】，具体涉及一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜及其制备方法。
【背景技术】
[0002]所谓的“彩虹纹现象”是因为基材在进行硬化处理的时候需要过一次高温，而在高温处理中，基材表面分子结构不均匀产生散射情况。越高强度的硬化处理，彩虹纹越难控制。彩虹纹的存在会影响透光度以及视觉效果。彩虹纹多出现在手机保护膜上，例如是高透、高清的手机保护膜，彩虹纹造成屏幕不美观，而且会影响人地视力。优质的保护膜材料在贴膜以后很难用肉眼看出彩虹纹。
[0003]所以彩虹纹 其实是硬化处理的产物，越高强度的硬化处理，就意味着保护膜材料的彩虹纹越厉害，也就是说彩虹纹与硬化处理成正比的。在不影响视觉效果的前提下，达到最佳的硬化处理效果一般只会到3.5H至3.8H之间。超过这个值的，要么是虚报耐磨度、硬度、要么就是彩虹纹突出。
【发明内容】
[0004]发明目的:针对现有技术的不足，本发明的第一个目的是提供一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。本发明的第二个目的是提供上述保护膜的制备方法。
[0005]技术方案:为实现上述目的，本发明通过下述技术方案实现:一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，按重量份数，包括以下原料制成:聚氨酯丙烯酸酯10~60份、UV稀释单体I~50份、光引发剂0.4~40份、有机硅流平剂0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着力促进剂0.02~6份、溶剂O~90份。
[0006]其中，上述保护膜还包括纳米氧化锆、纳米氧化锌、纳米氧化钛或纳米氧化硅中的一种或几种。
[0007]其中，上述纳米氧化错为0.1~3.5份、纳米氧化锌为0.1~1.5份、纳米氧化钛0.01~2份、纳米氧化娃0.1~3.5份。
[0008]其中，上述纳米氧化硅粒径在30~200纳米之间。
[0009]其中，上述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
[0010]其中，上述UV稀释单体为ACMO、TMPTA, TPGDA或HDDA中的一种。
[0011]其中，上述光引发剂为光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂ΤΡ0、光引发剂907中的一种或几种。
[0012]其中，上述有机硅流平剂为Silok?8144、Silok?5100、Silok?5400> Silok?8244、Silol<?8035, Silok?350、TEGOK Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378 或BZ-624中的一种或几种。
[0013]其中，上述有机硅耐磨剂包括:Silok?8520> Silok?8586N、Silok?8530、Silok?8546、Silol<?82、Silok?35l 中的一种或几种。
[0014] 本发明的底材附着力促进剂为3M出品的非离子含氟表面活性剂FC-430 ;硅烷偶联剂VAS (乙烯基三乙酰氧基硅烷)；Degussa出品的LTH树脂；Silok?8000; Bayer出品的
含有异氰酸酯基团(NCO)的聚氨酯丙烯酸酯低聚物与含羟基的聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、PP-603等。
[0015]一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜的制备方法，包括以下步骤:
[0016]I)按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度1500~2000转/min，温度控制在45~65°C之间；搅拌12~72小时，使胶液的分散粒径在Ium以下,胶液粘度控制在I~50mpa.s之间；
[0017]2)在PET薄膜表面预先涂布一层0.1~5 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1~5 μ m的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0018]有益效果:与现有技术相比，本发明的优点如下:本发明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹纹现象，而且可以使薄膜表面的硬化层达到3~9H，耐磨可以经受0000#钢丝棉，采用2kg的压力，来回摩擦50次以上，在抗刮层表面没有划痕。因此该无彩虹纹保护膜的防刮耐磨效果极为优异。
【具体实施方式】
[0019]下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明，但不以任何方式限制本发明。
[0020]本发明所采用的在PET薄膜等材料都是市面上购买。
[0021]实施例1
[0022]聚氨酯丙烯酸酯10份、UV稀释单体TMPTAl份、纳米氧化锆(折射率2.4)0.1份、纳米氧化锌(折射率2.0)0.1份、纳米氧化钛(折射率2.7)0.01份、光引发剂1840.1份、光引发剂 11730.1 份、光引发剂 ΤΡ00.1 份、光引发剂 9070.1 份、Silok?8144 0.01 份、Silok?85200.03 份、FC-4300.02 份、溶剂 40 份。
[0023]按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度1500转/min，温度控制在45°C之间；搅拌12小时，使胶液的分散粒径在I μ m以下，胶液粘度控制在I~50mpa.s之间；在PET薄膜表面预先涂布一层0.1 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1 μ m的胶液即可得到高硬度、
[0024]超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0025]实施例2
[0026]聚氨酯丙烯酸酯60份、UV稀释单体ACM050份、纳米氧化锆(折射率2.4) 3.5份、光引发剂18410份、光引发剂11735份、光引发剂TP03份、光引发剂9073份、Silok?51001份、Silol<?54001 份、Silo!<?8244 1份、Siloki? 8586N2.5 份、Silok? 8530,2.5 份、底材附着力促进剂PP-6036份、溶剂80。
[0027]按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度2000转/min，温度控制在65°C之间；搅拌72小时，使胶液的分散粒径在I μ m以下，胶液粘度控制在50mpa.s ;在PET薄膜表面预先涂布一层5 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层5 μ m的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0028]实施例3
[0029]聚氨酯丙烯酸酯35份、UV稀释单体TPGDA25份、纳米氧化硅1份、光引发剂1845份、光引发剂11732.5份、光引发剂TP01.5份、光引发剂9071.5份、Silok?8035 0.5份、Silok?350 0.5 份、TEGO? Glide4100.5 份、Silok?8546 2.5 份、乙烯基三乙酰氧基硅烷 I份、Si丨ol<?8000 2份、溶剂50份。
[0030]按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度1750转/min，温度控制在55°C之间；搅拌42小时，使胶液的分散粒径在I μ m以下，胶液粘度控制在25mpa.s ;在PET薄膜表面预先涂布一层2.5 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层2.5μπι的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0031]实施例4
[0032]聚氨酯丙烯酸酯30份、UV稀释单体HDDA30份、光引发剂1840.4、光引发剂11735份、光引发剂TPO15份、光引发剂90715份、ΒΥΚ-3061份、ΒΥΚ-3321份、ΒΥΚ-3331份、ΒΥΚ-3781 份、ΒΖ-6241 份、Silok?82 7 份、Silok?351 8 份、LTH 树脂 4 份。
[0033]按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度1800转/min，温度控制在50°C之间；搅拌50小时，使胶液的分散粒径在I μ m以下，胶液粘度控制在lmpa.s ;在PET薄膜表面预先涂布一层0.2 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.2 μ m的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
[0034]对实施例1~4进行彩虹纹的检测:在阳光或是D65灯源的照射下，把该膜贴在不透明的黑板上，膜表面没有呈现出光的各 种颜色的干涉斑纹，俗称彩虹纹。而且可以使薄膜表面的硬化层达到3~9H,耐磨可以经受0000#钢丝棉，采用2kg的压力，来回摩擦50次以上，在抗刮层表面没有划痕。
【权利要求】
1.一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，按重量份数，包括以下原料制成:聚氨酯丙烯酸酯10~60份、UV稀释单体I~50份、光引发剂0.4~40份、有机硅流平剂0.01~15份、有机硅耐磨剂0.03~15份、底材附着力促进剂0.02~6份、溶剂O~90份。
2.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述保护膜还包括纳米氧化锆、纳米氧化锌、纳米氧化钛或纳米氧化硅中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述纳米氧化错为0.1~3.5份、纳米氧化锌为0.1~1.5份、纳米氧化钛0.01~2份、纳米氧化娃0.1~3.5份。
4.根据权利要求2所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述纳米氧化娃粒径在30~200纳米之间。
5.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。
6.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述UV稀释单体为ACMO、TMPTA, TPGDA或HDDA中的一种。
7.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述光引发剂为光引发剂184、光引发剂1173、光引发剂TPO、光引发剂907中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述有机硅流平剂为 Silok?8144、Silok?5100、Silok?5400、Silol<?8244、Silok?8035、Sik)k?350、TEGO? Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378 或 BZ-624 中的一种或几种。
9.根据权利要求1所述的一种高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜，其特征在于，所述有机硅耐磨剂包括:Silok?8520、Silok?8586N、Silok?8530、Silol<?8546、Silol<?82'Silok?351中的一种或几种。
10.权利要求1-9任一项所述的高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 1)按照上述质量份数，将原料先后加入恒温密封高速搅拌缸中搅拌得到胶液，分散速度1500~2000转/min，温度控制在45~65°C之间；搅拌12~72小时，使胶液的分散粒径在Ium以下,胶液粘度控制在I~50mpa.s之间； 2)在PET薄膜表面预先涂布一层0.1~5 μ m的胶液得到微结构树脂涂层，再次在微结构树脂涂层表面涂布一层0.1~5 μ m的胶液即可得到高硬度、超耐磨无彩虹纹的保护膜。
【文档编号】C09D175/14GK103911067SQ201410102390
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2014年3月19日 优先权日:2014年3月19日
【发明者】金国华, 朱霆, 许修安 申请人:苏州袭麟光电科技产业有限公司