[0001]
本发明涉及一种抛光材料的制备技术领域，尤其是一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其制备方法。
背景技术：
[0002]
超低色散玻璃镜片，简称ed(extra-low dispersion)玻璃镜片，随着宽视场、大孔径光学仪器的发展，超低色散光学玻璃需求日益增多。这类玻璃主要是扩大相对孔径、简化镜头的设计，同时可以消除球差和色差等以提高成像质量，满足高品质的成像要求。目前被广泛应用于大光圈长焦镜头和定焦、变焦镜头、广角标准镜头等高端光学镜头。
[0003]
超低色散光学玻璃的主要特点是玻璃生成体少，含有大量离子半径较大的稀土氧化物，网络外体多，玻璃易析晶，很多材料属于软材质，容易划伤，化学稳定性较差，容易被腐蚀，同时超低色散光学玻璃的价格也较高。目前ed玻璃加工过程中有以下瓶颈：原材料成本昂贵，抛光粉用日本产或英国产的，且仅用抛光粉会出现划痕，还要添加进口的抛光添加剂，或是使用进口抛光液；磨耗度高，容易划伤；抛光（或称为研磨）成本高且抛光合格率低。
技术实现要素：
[0004]
鉴于上述情况，本发明提供一种抛光光洁度好、抛光效率高、使用成本低的超低色散玻璃镜片用抛光液。
[0005]
本发明所公开的超低色散玻璃镜片用抛光液包含：氧化锆抛光粉、硅酸锆抛光粉、玻璃抛光促进剂、ph值稳定剂、去离子水，并经混合制备而成，上述各组分的重量份比如下：氧化锆抛光粉15～30份、硅酸锆抛光粉2～15份、抛光促进剂0.5～2份、ph值稳定性剂1～5份、去离子水45～95份；其特征在于所述氧化锆抛光粉经过急速降温处理；其特征在于所述抛光液ph值稳定在4.0～4.9范围内。。
[0006]
本发明所公开的超低色散玻璃镜片用抛光液，所述氧化锆抛光粉和硅酸锆抛光粉的粒度分布范围为0.5μm～1.5μm，中径为0.6μm～0.8μm。其中氧化锆抛光粉急速降温处理步骤如下: (1)加热氧化锆抛光粉至900～1700℃，保温1～3小时；(2)以水冷方式，将氧化锆抛光粉快速冷却，降温冷却速度快于500℃/30秒。(3) 静置，倾倒上层冷却水，留下氧化锆沉淀，脱水，备用。
[0007]
本发明所公开的超低色散玻璃镜片用抛光液，所述抛光促进剂为氧氯化锆、碳酸锆、氯化铝、硝酸锌、硫酸锌中的一种或几种的组合物；所述ph值稳定剂为甘氨酸、精氨酸中的一种或两者的组合物。
[0008]
制备本发明所公开的超低色散玻璃镜片用抛光液，包括以下步骤如下：(1)氧化锆抛光粉急速降温处理，备用；(2)球磨硅酸锆抛光粉备用，备用；(3)将难溶于水的粉体材料按配比混合后，加入到1/3～1/2的去离子水中搅拌均匀，并经三辊研磨机研磨形成粉体浆料，备用；(4)将余下材料加入到余量的去离子水中，搅拌分散均匀，充分溶解；(5)在搅拌机充分搅拌的情况下缓缓加入研磨后的粉体浆料；(6)经搅拌机搅拌分散均匀，包装、备用。
[0009]
本发明所公开的本发明所公开的超低色散玻璃镜片用抛光液，制备简单，抛光光洁度好、抛光效率高、使用成本低。
具体实施方式
[0010]
下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解为，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解为，在阅读了本发明讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本发明做出的各种改动或修改，这些等价形式仍属于本发明申请所附权利要求书限定的范围。
[0011]
实施例1配方(质量份数比)：氧化锆抛光粉20份、硅酸锆抛光粉5份、氧氯化锆0.5份、硝酸锌0.5份、精氨酸2份、tx-10表面活性剂0.2份、苯骈三氮唑0.5份 、去离子水70份。
[0012]
制备步骤如下: (1)加热氧化锆抛光粉至1100℃，保温2小时；快速倾倒于50倍质量的质量百分比浓度的硝酸钾去离子水溶液中，并快速冷却，降温冷却速度快于500℃/30秒，静置，倾倒上层硝酸钾去离子水溶液，留下氧化锆沉淀，脱水至氧化锆沉淀中硝酸钾去离子水溶液为15%，备用；(2)球磨硅酸锆抛光粉，备用；(3)将氧化锆抛光粉、硅酸锆抛光粉、苯骈三氮唑按配比混合，加入总量1/3的去离子水，搅拌均匀，并经三辊研磨机研磨形成粉体浆料，备用；(4)将余下材料加入到余下的去离子水中，搅拌均匀，充分溶解；(5)在搅拌机充分搅拌的情况下，缓缓加入研磨后的粉体浆料；(6)经搅拌机搅拌分散均匀，包装、备用。。
[0013]
本实施例制备所得抛光液ph值为4.5，加入5倍的去离子水抛光fk61玻璃，不腐蚀玻璃及设备，缓冲性能良好，抛光效率高。
[0014]
实例2配方(质量份数比)：氧化锆抛光粉25份、硅酸锆抛光粉5份、氯化铝0.2份、碳酸锆0.5份、甘氨酸2份、tx-10表面活性剂0.2份、苯骈三氮唑0.5份 、无水乙醇1份、去离子水65份。
[0015]
制备步骤如下: (1)加热氧化锆抛光粉至1100℃，保温2小时；快速倾倒于60倍质量的去离子水中，并快速冷却，降温冷却速度快于500℃/30秒，静置，倾倒上层去离子水，留下氧化锆沉淀，脱水至氧化锆质量百分比含水量为15%，备用；(2)球磨硅酸锆抛光粉，备用；(3)将氧化锆抛光粉、硅酸锆抛光粉、苯骈三氮唑按配比混合后，加入总量40%的去离子水，搅拌均匀，并经三辊研磨机研磨形成粉体浆料，备用；(4)将余下材料加入到余下的去离子水中，搅拌均匀，充分溶解；(5)在搅拌机充分搅拌的情况下，缓缓加入研磨后的粉体浆料；(6)经搅拌机搅拌分散均匀，包装、备用。
[0016]
本实施例制备所得抛光液ph值为4.6，加入5倍的去离子水后ph值为5.1，抛光fk61玻璃，不腐蚀玻璃及设备，缓冲性能良好，抛光效率高。
[0017]
实施例3配方(质量份数比)：氧化锆抛光粉22份、硅酸锆抛光粉5份、氧氯化锆0.5份、硝酸锌0.5份、精氨酸2份、tx-10表面活性剂0.2份、苯骈三氮唑0.5份 、去离子水70份。
[0018]
制备步骤如下: (1)加热氧化锆抛光粉至1200℃，保温2小时；快速倾倒于50倍质量的去离子水中，并快速冷却，降温冷却速度快于500℃/30秒，静置，倾倒上层去离子水，留下氧化锆沉淀，脱水至氧化锆质量百分比含水量为10%，备用；(2)球磨硅酸锆抛光粉，备用；(3)氧化锆抛光粉、硅酸锆抛光粉、苯骈三氮唑按配比混合，加入总量1/3的去离子水，搅拌
均匀，并经三辊研磨机研磨形成粉体浆料，备用；(4)将余下材料加入到余下的去离子水中，搅拌均匀，充分溶解；(5)在搅拌机充分搅拌的情况下，缓缓加入研磨后的粉体浆料；(6)经搅拌机搅拌分散均匀，包装、备用。
[0019]
本实施例制备所得抛光液ph值为4.5，加入5倍的去离子水抛光fk61玻璃，不腐蚀玻璃及设备，缓冲性能良好，抛光效率高。