一种硅基光致发光膜制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种发光膜制备方法，尤其涉及一种硅基光致发光膜制备方法。
【背景技术】
[0002]硅酸锌是一种很好的发光基体，已经得到广泛的应用。通过在硅酸锌基体中掺入不同的杂质离子，硅酸锌可以发射出多种波长的光。掺杂的硅酸锌薄膜可以制作电致发光器件。然而目前这种硅基光致发光膜制备难度较大，而且成材率很低。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种制备简单、成材率高的硅基光致发光膜制备方法。
[0004]实现本发明目的的技术方案是:
[0005]一种硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:包括以下步骤:
[0006]( I)配制1%醋酸锰、3%硝酸铽、1%醋酸锌和5%乙醇胺的溶液，溶剂为乙二醇甲醚；
[0007](2)在60°C?80°C下磁力搅拌30min，冷却后放置I?3天老化，得到澄清的溶胶；
[0008](3)用浸溃提拉法在基底上挂上一层湿膜，提拉速度由一个数字脉冲发生器和步进马达精确控制，提拉速度在lmm/min?100mm/min间可调；
[0009](4)挂上湿膜的基底放置烘箱内，经80°C?120°C、30?60min后形成干膜，然后再放入高温炉中，在750°C?950°C温度下固相反应4?8h，形成发光膜。
[0010]上述技术方案，所述步骤(I)中的基底为硅片。
[0011]上述技术方案，所述步骤(2)中搅拌温度为70°C，冷却放置时间为2天。
[0012]上述技术方案，所述步骤(3)中提拉速度为50mm/min。
[0013]上述技术方案，所述步骤(4)中烘干温度为100°C，时间45min;高温炉温度为850°C，时间为6h。
[0014]采用上述技术方案后，本发明具有以下积极的效果:
[0015]本发明采用合适的掺杂剂、锌源和稳定剂配比，发光膜具有成材率高、完整性好、热稳定性和化学稳定性好的特点；发光膜生产工艺灵活，且制备方法简单，制备成本较低。
【具体实施方式】
[0016](实施例1)
[0017]本发明具有一种硅基光致发光膜制备方法，包括以下步骤:
[0018](I)配制1%醋酸锰、3%硝酸铽、1%醋酸锌和5%乙醇胺的溶液，溶剂为乙二醇甲醚；
[0019](2)在60V?80°C下磁力搅拌30min，冷却后放置I?3天老化，得到澄清的溶胶；
[0020](3)用浸溃提拉法在基底上挂上一层湿膜，提拉速度由一个数字脉冲发生器和步进马达精确控制，提拉速度在lmm/min?100mm/min间可调；
[0021](4)挂上湿膜的基底放置烘箱内，经80°C?120°C、30?60min后形成干膜，然后再放入高温炉中，在750°C?950°C温度下固相反应4?8h，形成发光膜。
[0022]优选地，所述步骤(2)中的基底为硅片。
[0023]优选地，所述步骤(2)中搅拌温度为70°C，冷却放置时间为2天。
[0024]优选地,所述步骤(3)中提拉速度为50mm/min。
[0025]优选地，所述步骤(4)中烘干温度为100°C，时间45min ;高温炉温度为850°C，时间为6h。
[0026]以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:包括以下步骤: (1)配制1%醋酸锰、3%硝酸铽、1%醋酸锌和5%乙醇胺的溶液，溶剂为乙二醇甲醚； (2)在60V?80°C下磁力搅拌30min，冷却后放置I?3天老化，得到澄清的溶胶； (3)用浸溃提拉法在基底上挂上一层湿膜，提拉速度由一个数字脉冲发生器和步进马达精确控制，提拉速度在lmm/min?100mm/min间可调； (4)挂上湿膜的基底放置烘箱内，经80?。C120、°C 30?60min后形成干膜，然后再放入高温炉中，在750°C?950°C温度下固相反应4?8h，形成发光膜。
2.根据权利要求1所述的硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:所述步骤(I)中的基底为硅片。
3.根据权利要求1所述的硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:所述步骤(2)中搅拌温度为70°C，冷却放置时间为2天。
4.根据权利要求1所述的硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:所述步骤(3)中提拉速度为50mm/min。
5.根据权利要求1所述的硅基光致发光膜制备方法，其特征在于:所述步骤(4)中烘干温度为100°c，时间45min ;高温炉温度为850°C，时间为6h。
【专利摘要】本发明涉及一种硅基光致发光膜制备方法，包括以下步骤：包括以下步骤：1）配制1%醋酸锰、3%硝酸铽、1%醋酸锌和5%乙醇胺的溶液，溶剂为乙二醇甲醚；2）在60℃～80℃下磁力搅拌30min，冷却后放置1-3天老化，得到澄清的溶胶；3）用浸渍提拉法在基底上挂上一层湿膜。提拉速度由一个数字脉冲发生器和步进马达精确控制，提拉速度在1mm/min～100mm/min间可调；4）挂上湿膜的基底放置烘箱内，经80℃～120℃、30-60min后形成干膜，然后再放入高温炉中，在750℃～950℃温度下固相反应4-8h，形成发光膜。本发明采用合适的掺杂剂、锌源和稳定剂配比，发光膜具有成材率高、完整性好、热稳定性和化学稳定性好的特点；发光膜生产工艺灵活，且制备方法简单，制备成本较低。
【IPC分类】C09K11-79
【公开号】CN104650904
【申请号】CN201310590042
【发明人】颜奇旭, 朱小庆, 蒲溢
【申请人】常州华威新材料有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2013年11月20日