一种电磁屏蔽膜的制作方法

一种电磁屏蔽膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，包括：将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2μm～5um厚的黑胶后，使用烤箱将耐高温柔性薄膜表干；对表干的耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；对镀有金属屏蔽层涂的一侧涂5μm～8μm厚用于吸收电磁波的导电胶层；导电胶为重量比为50～80的PU胶或环氧胶、5～10的导电粉、20～50的磁粉和溶剂的混合物。所述电磁屏蔽膜的制作方法，可连续高效的生产10μm～50μm厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ～10GHZ之间实现超过60db以上的屏蔽效果，工艺稳定、操作简单。
【专利说明】
一种电磁屏蔽膜的制作方法
技术领域
[0001]本发明涉及电子通讯技术领域，特别是涉及一种电磁屏蔽膜的制作方法。【背景技术】
[0002]市场上出现的一些电磁屏蔽材料单纯的从金属屏蔽方面出发，能有效解决10MHZ 到1GHZ之间的信号屏蔽问题，然而，到了 1GHZ频率以上的电磁波信号，其屏蔽效果很难取得超过60db以上的屏蔽效果，这样就限制了产品应用范围。如何开发出一款在1GHZ以上的高频信号屏蔽超薄材料对手机等产品的超薄化，小型化应用显得尤为迫切。
[0003]目前行业内在解决高频信号段范围内的屏蔽手段都不是很成熟，市场上日本厂家提供的电磁膜产品在10MHZ到1GHZ范围内可以取得良好的屏蔽效果，国内的一些电磁膜厂家提供的产品在1GHZ以上能取得一些比较满意的效果，但稳定性很差，经受不住恶劣环境条件的反复冲击而很容易失效。
【发明内容】

[0004]本发明的目的是提供一种电磁屏蔽膜的制作方法，能有效解决10MHZ到10GHZ之间的信号屏蔽问题，使用过程中稳定可靠，工艺稳定、操作简单。
[0005]为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种电磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0006]将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2M1?5um厚的黑胶后，使用烤箱将所述耐高温柔性薄膜表干；
[0007]对表干的所述耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；
[0008]对镀有所述金属屏蔽层涂的一侧涂5mi?8mi厚用于吸收电磁波的导电胶层；
[0009]其中，所述导电胶为重量比为50?80的PU胶或环氧胶、5?10的导电粉、20?50的磁粉和溶剂的混合物。
[0010]其中，所述导电胶为重量比为50的PU胶或环氧胶、5的导电粉、30的磁粉和溶剂的混合物。
[0011]其中，所述使用烤箱将所述耐高温柔性薄膜表干，包括:
[0012]使用所述烤箱在l〇〇°C?200°C温度下将所述耐高温柔性薄膜表干。[0〇13]其中，所述耐高温柔性薄膜为pps薄膜，或pi膜，或采用复合机将所述pps薄膜和80 ym厚具有粘性的保护膜复合的复合薄膜，或采用复合机将所述pi薄膜和80ym厚具有粘性的保护膜复合的复合薄膜。
[0014] 其中，所述耐高温柔性薄膜的厚度为lOym?50ym，宽度为200mm?1000mm。[0〇15] 其中，所述黑胶的粘度为lOOOcps?5000cps。[〇〇16] 其中，所述黑胶为重量比为50?90的PU胶或环氧胶、1?3的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶，或重量比为70的EP0N58006胶水、1.2的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶。 [〇〇17]其中，还包括:在所述导电胶层上覆盖PP保护膜或pet保护膜。[〇〇18]其中，还包括:对覆盖有所述PP保护膜或pet保护膜的耐高温柔性薄膜进行检验后裁切。
[0019]本发明实施例所提供的电磁屏蔽膜的制作方法，与现有技术相比，具有以下优点:
[0020]本发明实施例提供的电磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0021]将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2M1?5um厚的黑胶后，使用烤箱将所述耐高温柔性薄膜表干；
[0022]对表干的所述耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；
[0023]对镀有所述金属屏蔽层涂的一侧涂5wii?8wii厚用于吸收电磁波的导电胶层；[〇〇24]在所述导电胶层上覆盖PP保护膜或pet保护膜；[〇〇25]其中，所述导电胶为重量比为50?80的PU胶或环氧胶、5?10的导电粉、20?50的磁粉和溶剂的混合物。
[0026]采用所述电磁屏蔽膜的制作方法，可以连续高效的生产lOwii?50mi厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之间均能实现超过60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的应用范围和附加值，稳定性可靠，工艺稳定、操作简单。【附图说明】
[0027]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本发明的实施例所提供的电磁屏蔽膜的制作方法一种【具体实施方式】的步骤流程示意图。【具体实施方式】
[0029]正如【背景技术】部分所述，目前行业内在解决高频信号段范围内的屏蔽手段都不是很成熟，市场上日本厂家提供的电磁膜产品在10MHZ到1GHZ范围内可以取得良好的屏蔽效果，国内的一些电磁膜厂家提供的产品在1GHZ以上能取得一些比较满意的效果，但稳定性很差，经受不住恶劣环境条件的反复冲击而很容易失效。
[0030]基于此，本发明实施例提供了一种电磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0031]将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2M1?5um厚的黑胶后，使用烤箱将所述耐高温柔性薄膜表干；
[0032]对表干的所述耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；
[0033]对镀有所述金属屏蔽层涂的一侧涂5wii?8wii厚用于吸收电磁波的导电胶层；[〇〇34] 所述导电胶为重量比为50?80的PU胶或环氧胶、5?10的导电粉、20?50的磁粉和溶剂的混合物。
[0035]综上所述，本发明实施例提供的电磁屏蔽膜的制作方法，可以连续高效的生产10y m?50wii厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之间均能实现超过60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的应用范围和附加值，稳定性可靠，工艺稳定、操作简单。[〇〇36]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的【具体实施方式】做详细的说明。
[0037]在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
[0038]请参考图1，图1为本发明的实施例所提供的电磁屏蔽膜的制作方法一种【具体实施方式】的步骤流程示意图。
[0039]在一种【具体实施方式】中，所述电磁屏蔽膜的制作方法，包括:
[0040]步骤1，将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2mi?5um厚的黑胶后，使用烤箱将所述耐高温柔性薄膜表干；
[0041]步骤2,对表干的所述耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；
[0042]步骤3,对镀有所述金属屏蔽层涂的一侧涂5wii?8wii厚用于吸收电磁波的导电胶层；[〇〇43] 所述导电胶为重量比为50?80的PU胶或环氧胶、5?10的导电粉、20?50的磁粉和溶剂的混合物。[〇〇44]电磁屏蔽膜的制作方法，可以连续高效的生产1 〇Mi?50mi厚的超薄屏蔽膜，在 10MHZ?10GHZ之间均能实现较好的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的应用范围和附加值，稳定性可靠，工艺稳定、操作简单。
[0045]为获得高质量的电磁屏蔽膜，一般使用所述烤箱在100°C?200°C温度下将所述耐高温柔性薄膜表干。这里的表干是指是表面干燥，制作一选这个温度范围，是因为烤箱的温度过低时，表干需要的时间较长，使得制造产品的周期变得很长，变相增加了许多成本，而温度过高，有可能影响产品的稳定性，对于烤箱以及烤箱的烘烤温度，本发明不做具体限定。[〇〇46]耐高温柔性薄膜一般为pps薄膜或pi膜，而为扩大电磁屏蔽膜的使用范围，适应更加恶劣的环境，一般会将原料薄膜与保护膜采用复合机复合起来，即所述耐高温柔性薄膜更多为采用复合机将所述pps薄膜和80wii厚具有粘性的保护膜复合的复合薄膜或pps薄膜和pi膜和SOwii厚具有粘性的保护膜复合的复合薄膜。需要说明的是，本发明对耐高温柔性薄膜以及复合机不做具体限定。
[0047]一般所述耐高温柔性薄膜的厚度为lOym?50WI1，宽度为200mm?1000mm。
[0048]对于黑胶的要求一般是粘度为lOOOcps?5000cps。
[0049]具体的，黑胶一般是用聚氨酯或环氧胶配置而成，黑胶配置一般为重量比为50? 90的PU胶或环氧胶、1?3的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶，或重量比为70的EP0N58006 胶水、1.2的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶。
[0050]而本发明中导电胶的作用是实现对电磁波的吸收，从而提高屏蔽性能。
[0051]由于电磁屏蔽膜是通过导电胶层来屏蔽电磁波的，如果裸漏在外，很容易被损坏， 进而造成电磁屏蔽性能下降，降低电磁屏蔽莫得使用寿命，因此一般电磁屏蔽膜的制作方法还包括:在所述导电胶层上覆盖PP保护膜或pet保护膜。[〇〇52]制作成的电磁屏蔽膜一般比实际设备使用的电磁屏蔽膜的尺寸较大，而且对于产品对电磁波的屏蔽效果位置，需要进行简单，因此电磁屏蔽膜的制作方法还包括:对覆盖有所述PP保护膜或pet保护膜的耐高温柔性薄膜进行检验后裁切。
[0053] —般所述电磁屏蔽膜的制造步骤如下:
[0054]11)原料准备:[〇〇55]111)耐高温膜:准备厚度为10M1?50wii的pps薄膜或其它耐高温且具有一定强度的柔性薄膜材料，幅宽为200mm?1000mm之间，要求表面干净，整洁，放卷时张力均勾一致。 [〇〇56]112)黑胶:用聚氨酯或环氧胶配成粘度在lOOOcps?5000cps之间的黑色胶水待用。[0〇57]12)原料膜涂黑胶:将准备好的pps薄膜或耐高温薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂上一层2mi?5mi厚的黑胶，经过能提供100°C到200°C之间的烤箱将溶剂表干后，收卷好。[〇〇58]13)在真空环境下镀金属屏蔽层；[0059 ]14)涂一层具有吸收电磁波功能的导电胶层；[0〇6〇]15)覆盖上一层pp或pet保护膜；[〇〇61]16)对产品进行检验，裁切，得到我们所需要的成品。[〇〇62] 这样可以连续高效的生产出10_?30wii厚度，在10MHZ到10GHZ之间均能实现超过 60db以上屏蔽效果的超薄屏蔽薄膜，极大提高了柔性屏蔽材料的应用范围及附加值。
[0063]或者是采用以下方法制作电磁屏蔽膜:[〇〇64]21)原料准备:[0〇65]211)耐高温膜:从日本东丽购买厚度为2wii?lOym的pps薄膜，幅宽为500mm表面干净、整洁，放卷时张力均匀一致。[〇〇66]212)黑胶:用聚氨酯或环氧胶配成粘度在lOOOcps到5000cps之间的黑色胶水待用，胶水配方参考如下(按100份计算):
[0067]胶或环氧胶:50?90;固化剂:1?3;溶剂:若干。[〇〇68]需要说明的是，溶剂的使用量能够获得粘度在lOOOcps到5000cps之间的黑色胶水即可。[〇〇69]22)贴膜:将薄膜和30mi?80um厚的具有粘性的保护膜用复合机复合在一起。[〇〇7〇]23)原料膜涂黑胶:将复合好的pps薄膜或耐高温薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂上一层3mi?10um厚的干膜胶水，经过能提供100 °C?200 °C之间的烤箱将溶剂表干，收卷好。
[0071]24)真空镀金属屏蔽层；[0〇72]25)涂上8um厚的一层具有吸收电磁波功能的导电胶层；[0〇73]26)覆盖上一层pp或pet保护膜；[〇〇74]27)对产品进行检验，裁切，得到我们所需要的成品。[〇〇75] 使用本方法可以连续高效的生产出1 Own?50mi厚度，在10MHZ到10GHZ之间均能实现超过60db以上屏蔽效果的超薄屏蔽薄膜，极大提高了柔性屏蔽材料的的应用范围及附加值。
[0076]超薄屏蔽薄膜通过对导电胶层的配方设计，可以有效实现电磁波的吸收，从而提高屏蔽性能。[〇〇77]导电胶层配方如下(重量):[〇〇78]胶/环氧胶:50??80份;导电粉:5?10份;磁粉:20?50份溶剂:足量。[〇〇79]以下为一个具体的实施例:
[0080]31)原料准备:[0〇81 ]311)耐高温膜:从日本东丽购买厚度为5um的pps薄膜，幅宽为500mm表面干净、整洁，放卷时张力均勾一致。[〇〇82]312)黑胶:用聚氨酯或环氧胶配成粘度在3000cps之间的黑色胶水待用。胶水配方参考如下(按重量计算):
[0083]EP0N58006:70;固化剂:1 ? 2;溶剂:100[〇〇84]32)贴膜:将pps薄膜和50um厚的具有粘性的保护膜用复合机复合在一起。[0〇85]33)原料膜涂黑胶:将复合好的pps薄膜或耐高温薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂上一层3um厚的黑胶，经过能提供100° C?200°C之间的烤箱将溶剂表干，收卷好。 [〇〇86]34)真空环境下镀金属屏蔽层；[0〇87]35)涂上5um厚的一层具有吸收电磁波功能的导电胶层，[〇〇88]导电胶层配方如下:HY-181胶水(广东合一胶粘有限公司):50份;铜粉(北京怡田惠金属材料有限公司):5份;铁基合金粉末:30份(上海迈达公司)；溶剂:足量。[〇〇89]36)覆盖上一层pp或pet保护膜；[〇〇9〇] 37)对产品进行检验，裁切，得到我们所需要的成品。
[0091]按照本工艺制成的13mi厚的超薄屏蔽薄膜的表面电阻为0.023 Q/in(欧姆/英寸)，抗拉强度为7.3N/cm〇
[0092]综上所述，本发明实施例提供的电磁屏蔽膜的制作方法，可以连续高效的生产10y m?50wii厚的超薄屏蔽膜，在10MHZ?10GHZ之间均能实现超过60db以上的屏蔽效果，提大的提高了柔性屏蔽材料的应用范围和附加值，稳定性可靠，工艺稳定、操作简单。
[0093]以上对本发明所提供的电磁屏蔽膜的制作方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
【主权项】
1.一种电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，包括:将耐高温柔性薄膜在涂布线上放卷经过涂布头，均匀涂2wii?5um厚的黑胶后，使用烤 箱将所述耐高温柔性薄膜表干；对表干的所述耐高温柔性薄膜在真空环境下镀金属屏蔽层；对镀有所述金属屏蔽层涂的一侧涂5wii?8wii厚用于吸收电磁波的导电胶层；其中，所述导电胶为重量比为50?80的PU胶或环氧胶、5?10的导电粉、20?50的磁粉 和溶剂的混合物。2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述导电胶为重量比为50 的PU胶或环氧胶、5的导电粉、30的磁粉和溶剂的混合物。3.如权利要求1或2所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述使用烤箱将所述 耐高温柔性薄膜表干，包括:使用所述烤箱在l〇〇°C?200°C温度下将所述耐高温柔性薄膜表干。4.如权利要求3所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述耐高温柔性薄膜为 pps薄膜，或pi膜，或采用复合机将所述pps薄膜和80WI1厚具有粘性的保护膜复合的复合薄 膜，或采用复合机将所述Pi薄膜和80M1厚具有粘性的保护膜复合的复合薄膜。5.如权利要求4所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述耐高温柔性薄膜的厚 度为 10ym ?50tim，宽度为 200mm ?1000mm。6.如权利要求5所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述黑胶的粘度为 lOOOcps?5000cps。7.如权利要求6所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，所述黑胶为重量比为50? 90的PU胶或环氧胶、1?3的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶，或重量比为70的EP0N58006 胶水、1.2的固化剂和100的溶剂配置成的黑胶。8.如权利要求7所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，还包括:在所述导电胶层 上覆盖PP保护膜或pet保护膜。9.如权利要求8所述的电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，还包括:对覆盖有所述PP 保护膜或pet保护膜的耐高温柔性薄膜进行检验后裁切。
【文档编号】C09J7/02GK105950054SQ201610494331
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年6月24日
【发明人】田海玉, 田辉得, 占元明
【申请人】海宁卓泰电子材料有限公司