技术特征：
1.一种立管盖改良结构，其特征在于，包括：一座体，该座体顶面的周边凸设有一周壁，使该周壁内侧围成一嵌槽，该嵌槽的中央凹设有一容槽，该容槽中设有贯穿的一穿孔；一螺栓，该螺栓包含一螺柱及一头部，该螺柱可由上向下的穿过该穿孔，该头部可完全被该容槽所容纳；一上盖，该上盖可供嵌设于该嵌槽之中，且顶面可依需要设有各种颜色、图案及形状；一第一磁吸件，该第一磁吸件中央具有一内孔以使其呈环状，且结合于该容槽中央并使该内孔可供该螺栓的头部穿过；以及一第二磁吸件，该第二磁吸件结合于该上盖的底面中央，且外径大于该第一磁吸件的内孔的孔径，使该第二磁吸件可供与该第一磁吸件相对吸附。2.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该容槽的周围形成有一凹槽供容纳该第一磁吸件，该上盖的底面设有一结合槽供容纳该第二磁吸件。3.如权利要求2所述的立管盖改良结构，其特征在于，该第一磁吸件的顶面高于该嵌槽的槽底面，该第二磁吸件的底面与该上盖的底面齐平。4.如权利要求2所述的立管盖改良结构，其特征在于，该第一磁吸件的顶面与该嵌槽的槽底面齐平，该第二磁吸件的底面凸出该上盖的底面。5.如权利要求2所述的立管盖改良结构，其特征在于，该第一磁吸件的顶面高于该嵌槽的槽底面，该第二磁吸件的底面凸出该上盖的底面。6.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该座体的周面具有阶级状的一环缘。7.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该第一磁吸件及该第二磁吸件中一个为铁材质另一个为磁铁。8.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该第一磁吸件及该第二磁吸件皆为磁铁。9.如权利要求1所述的立管盖改良结构，其特征在于，该上盖的顶面可供与该周壁的顶面齐平。
技术总结
一种立管盖改良结构，包括一座体、一螺栓、一上盖、一第一磁吸件及一第二磁吸件，其中该座体的周边向上凸设有一周壁，使内侧围成一嵌槽，中央凹设有一容槽，该容槽中设有一穿孔，该螺栓包含一螺柱穿过该穿孔及一头部容纳于该容槽之中，该上盖供嵌设于该嵌槽之中，该第一磁吸件的中央具有一内孔且结合于该容槽中央并使该内孔可供该螺栓的头部穿过，该第二磁吸件结合于该上盖的底面中央，且使该第二磁吸件可供与该第一磁吸件相对吸附；由此可使其具有美观、易于改变造形、不易脱落及防尘与防水渗入等的功效。入等的功效。入等的功效。
技术研发人员：温宜玲
受保护的技术使用者：温宜玲
技术研发日：2022.03.14
技术公布日：2022/8/23