一种托盘及工艺设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种托盘结构及工艺设备，其中托盘结构，包括一本体，所述本体具有一承载面，所述本体内部形成有一中空腔体结构，所述本体上还形成有：气体输入通道，用于向所述中空腔体结构通入气体；和气体输出通道，贯穿所述承载面和中空腔体结构。本实用新型的有益效果是：从气体输出通道输出的气体对承载面承载的对象产生一个托力，移动对象时减小了对象与承载面之间的摩擦力，方便对象的移动。
【专利说明】一种托盘及工艺设备
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及液晶产品制作【技术领域】，尤其涉及一种托盘及工艺设备。
【背景技术】
[0002] TFT-IXD (薄膜晶体管显示器，Thin Film Transistor)行业中，Nikon曝光机内部 的Glass (玻璃基板）是以Tray (托盘）来进行传输的，Tray起初托起Glass时，要进行对 位操作，若Glass位置发生Shift (改变)超出Spec (规格)，则需要人员手动进行位置校正， 而现有的Tray因与Glass存在大面积接触，而产生相当大的摩擦阻力，这样人员手动拉动 Glass时，存在以下几方面困难：
[0003] 1、力度小时Glass难以拉动；
[0004] 2、力度大时Glass易被拉碎，发生Broken (破损），尤其是0· 5T以下的Glass ;
[0005] 3、因Glass与Tray摩擦阻力大，调整Glass位置耗费时间较长。 实用新型内容
[0006] 为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种托盘以及工艺设备，减小托盘与其 承载对象之间的摩擦以方便对对象的移动。
[0007] 为了达到上述目的，本实用新型提供的技术方案是：一种托盘结构，包括一本体， 所述本体具有一承载面，所述本体内部形成有一中空腔体结构，所述本体上还形成有：
[0008] 气体输入通道，用于向所述中空腔体结构通入气体；和
[0009] 气体输出通道，贯穿所述承载面和中空腔体结构。
[0010] 进一步的，所述气体输出通道为多个，每一个气体输出通道在所述承载面上的出 口的面积小于预定门限。
[0011] 进一步的，多个气体输出通道在所述承载面上的出口均匀排列。
[0012] 进一步的，所述本体包括由多个第一隔板和多个第二隔板交叉相接形成的网格状 结构，所述腔体结构、所述气体输入通道、所述气体输出通道形成于所述第一隔板和所述第 二隔板上。
[0013] 本实用新型还提供一种工艺设备，用于对对象进行操作，所述制造设备包括一托 盘，所述托盘包括一本体，所述本体具有一承载面，所述本体内部形成有一中空腔体结构， 所述本体上还形成有：
[0014] 气体输入通道，用于向所述中空腔体结构通入气体；和
[0015] 气体输出通道，贯穿所述承载面和中空腔体结构。
[0016] 进一步的，所述气体输出通道为多个，每一个气体输出通道在所述承载面上的出 口的面积小于预定门限。
[0017] 进一步的，多个气体输出通道在所述承载面上的出口均匀排列。
[0018] 进一步的，所述本体包括由多个第一隔板和多个第二隔板交叉相接形成的网格状 结构，所述腔体结构、所述气体输入通道、所述气体输出通道形成于所述第一隔板和所述第 二隔板上。
[0019] 本实用新型的有益效果是：从气体输出通道输出的气体对承载面承载的对象产生 一个托力，移动对象时减小了对象与承载面之间的摩擦力，方便对象的移动。
【专利附图】
【附图说明】
[0020] 图1表示本实用新型托盘截面结构示意图；
[0021] 图2表示本实用新型结构示意图；
[0022] 图3表示本实用新型托盘结构使用状态示意图。
【具体实施方式】
[0023] 以下结合附图对本实用新型的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释 本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。
[0024] 如图1-图3所示，本实施例提供一种托盘结构，包括一本体1，所述本体1具有一 承载面，所述本体1内部形成有一中空腔体结构11，所述本体1上还形成有：
[0025] 气体输入通道12,用于向所述中空腔体结构11通入气体；和
[0026] 气体输出通道13,贯穿所述承载面和中空腔体结构11。
[0027] 进入所述腔体结构11的气体经由所述气体输出通道13输出，在所述承载面表面 形成一气浮层，该气浮层对所述承载面承载的对象形成一托力，这样在移动所述对象时，减 小了所述对象与所述承载面之间的摩擦力，甚至在该气浮层施加的托力足够大时，使得所 述对象可以脱离所述承载面而完全避免所述对象与所述承载面之间的摩擦力，方便所述对 象的移动，避免了硬性拖拽对所述对象产生的擦伤和破损，且本实施例中托盘结构简单，成 本低，易于实现。
[0028] 本实施例中，通入所述气体输入通道12内的气体为CDA，即大气经压缩机压缩后 除湿，再经过滤器或活性炭吸附去除粉尘及炭氢化合物后的气体。
[0029] 本实施例中所述承载面所承载的对象可以是玻璃基板2,当然也可以是其他物品， 以下皆采用玻璃基板2对本实施例托盘结构进行具体说明。
[0030] 本实施例中，所述气体输出通道13为多个，每一个气体输出通道13在所述承载面 上的出口的面积小于预定门限。
[0031] 所述气体输出通道13在所述承载面上的出口的面积越小，其输出的气体产生的 力越大，相反，所述气体输出通道13在所述承载面上的出口的面积越大，其输出的气体产 生的力越小，所以为了使得从所述气体输出通道13输出的气体足以在所述承载面上形成 一气浮层，所述气浮层可以为承载面承载的玻璃基板2提供以托力，每一个气体输出通道 13在所述承载面上的出口的面积小于预定门限。
[0032] 进一步的，多个气体输出通道13在所述承载面上的出口均匀排列。保证玻璃基板 2受力的均匀性。
[0033] 如图2所示，所述本体1包括由多个第一隔板和多个第二隔板交叉相接形成的网 格状结构，所述腔体结构11、所述气体输入通道12、所述气体输出通道13(图中气体输出通 道13的分布只是示意，并不代表实际的气体输出通道的分布）形成于所述第一隔板110和 所述第二隔板111上。
[0034] 放置玻璃基板时，多个升降杆穿入所述网格状结构，并外露于所述承载面，玻璃基 板通过机械手的搬运放置于所述升降杆的一端，然后升降杆下降，玻璃基板与所述承载面 接触，玻璃基板的放置与取下为现有技术，在此不再赘述。
[0035] 本实用新型还提供一种工艺设备，用于对对象进行操作，所述制造设备包括一托 盘，所述托盘包括一本体1，所述本体1具有一承载面，所述本体1内部形成有一中空腔体结 构11，所述本体1上还形成有：
[0036] 气体输入通道12,用于向所述中空腔体结构11通入气体；和
[0037] 气体输出通道13,贯穿所述承载面和中空腔体结构11。
[0038] 进一步的，所述气体输出通道13为多个，每一个气体输出通道13在所述承载面上 的出口的面积小于预定门限。
[0039] 进一步的，多个气体输出通道13在所述承载面上的出口均匀排列。
[0040] 进一步的，所述本体1包括由多个第一隔板和多个第二隔板交叉相接形成的网格 状结构，所述腔体结构11、所述气体输入通道12、所述气体输出通道13形成于所述第一隔 板110和所述第二隔板111上。
[0041] 以上所述为本实用新型较佳实施例，应当指出的是，对于本领域普通技术人员来 说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰 也应视为本实用新型保护范围。
【权利要求】
1. 一种托盘结构，包括一本体，所述本体具有一承载面，其特征在于，所述本体内部形 成有一中空腔体结构，所述本体上还形成有： 气体输入通道，用于向所述中空腔体结构通入气体；和 气体输出通道，贯穿所述承载面和中空腔体结构。
2. 根据权利要求1所述的托盘结构，其特征在于，所述气体输出通道为多个，每一个气 体输出通道在所述承载面上的出口的面积小于预定门限。
3. 根据权利要求2所述的托盘结构，其特征在于，多个气体输出通道在所述承载面上 的出口均匀排列。
4. 根据权利要求3所述的托盘结构，其特征在于，所述本体包括由多个第一隔板和多 个第二隔板交叉相接形成的网格状结构，所述腔体结构、所述气体输入通道、所述气体输出 通道形成于所述第一隔板和所述第二隔板上。
5. -种工艺设备，用于对对象进行操作，所述工艺设备包括一托盘，所述托盘包括一本 体，所述本体具有一承载面，其特征在于，所述本体内部形成有一中空腔体结构，所述本体 上还形成有： 气体输入通道，用于向所述中空腔体结构通入气体；和 气体输出通道，贯穿所述承载面和中空腔体结构。
6. 根据权利要求5所述的工艺设备，其特征在于，所述气体输出通道为多个，每一个气 体输出通道在所述承载面上的出口的面积小于预定门限。
7. 根据权利要求6所述的工艺设备，其特征在于，多个气体输出通道在所述承载面上 的出口均匀排列。
8. 根据权利要求7所述的工艺设备，其特征在于，所述本体包括由多个第一隔板和多 个第二隔板交叉相接形成的网格状结构，所述腔体结构、所述气体输入通道、所述气体输出 通道形成于所述第一隔板和所述第二隔板上。
【文档编号】B65D19/38GK203845148SQ201420110963
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年3月12日 优先权日:2014年3月12日
【发明者】刘会双, 罗丽平, 侯本光, 崔洋, 蔡春月 申请人:北京京东方显示技术有限公司, 京东方科技集团股份有限公司